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- [发明专利]用于高级微电子应用的平面化薄膜及其生产装置和方法-CN200380110394.6无效
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W·黄;J·肯尼迪;R·卡特萨尼斯
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霍尼韦尔国际公司
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2003-10-27
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2006-07-12
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G03C1/00
- 本文中披露了一种平面化组合物,其包括:a)结构组分;和b)溶剂体系,其中该溶剂体系与结构组分相容并且降低了平面化组合物的至少一种分子间力分量或表面力分量。还披露了一种包括该平面化组合物的薄膜。另外,本文中披露了另一种平面化组合物,其包括:a)基于甲酚的聚合物化合物;和b)包含至少一种醇和至少一种基于醚乙酸酯的溶剂的溶剂体系。还披露了一种包括该平面化组合物的薄膜。本文中还披露了一种层状元件,其包括:a)具有表面形貌的基质;和b)例如本文中所述的那些的平面化组合物或薄膜,其中该组合物被偶合到基质上。本文中还披露了形成平面化组合物的方法,其包括:a)提供一种结构组分;b)提供一种溶剂体系,其中该溶剂体系与结构组分相容并且降低了平面化组合物的至少一种分子间力分量或表面力分量;和c)将结构组分和溶剂体系共混以形成平面化组合物还披露了形成薄膜的方法,其包括:a)提供一种例如本文中所披露的那些的平面化组合物;和b)将至少部分溶剂体系蒸发以形成薄膜。
- 用于高级微电子应用平面化薄膜及其生产装置方法
- [发明专利]发光显示设备-CN201510779389.9有效
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金律局;金圣雄
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三星显示有限公司
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2015-11-13
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2021-02-05
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H01L27/32
- 发光显示设备包括衬底、平面化图案、第一电极、像素限定层、有机层以及第二电极,其中衬底包括设置在第一方向和与第一方向相交的第二方向的多个像素,该多个像素包括第一主像素块和第二主像素块;平面化图案设置在衬底上;对于多个像素的每个像素,第一电极位于平面化图案上;像素限定层在衬底上划分各像素并且具有用于暴露第一电极的开口;有机层位于第一电极上;以及第二电极位于有机层上,其中第二主像素块中的像素的平面化图案的厚度大于第一主像素块中的像素的平面化图案的厚度
- 发光显示设备
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