专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种LED外延结构生长方法及该方法制备的芯片-CN202210951603.4在审
  • 王淑姣;郭园;芦玲 - 淮安澳洋顺昌光电技术有限公司
  • 2022-08-09 - 2022-11-15 - H01L33/06
  • 一种LED外延结构生长方法,在衬底表面依次层叠生长的第一缓冲层、N型半导体层、第二缓冲层、高温量子阱层、低温多量子发光层、P型半导体层,所述低温多量子发光层的生长方法为:循环生长n个多量子阱发光层;n个多量子阱发光层包含n对多量子阱层和多量子垒层,且n个多量子阱层和多量子垒层的温度递减生长。本发明在生长低温多量子发光层时,设置依次生长多量子阱层的每个阱温依次递减0.5~1度,该阱温条件下生长的多量子阱层,会使靠前的阱能带高,靠后的能带低,从而后面的能隙较小,使得电子空穴更易复合;并且电子和空穴集中于最后
  • 一种led外延结构生长方法制备芯片
  • [发明专利]一种高亮度发光二极管的多量子阱结构-CN201310562955.1有效
  • 李淼;游桥明;沈志强 - 西安神光皓瑞光电科技有限公司
  • 2013-11-12 - 2014-02-19 - H01L33/04
  • 本发明提供一种高亮度发光二极管的多量子阱结构,以实现器件整体性能的提升。该多量子阱结构的四个多量子阱层中,第一多量子阱层的量子阱禁带宽度最小,第二多量子阱层的量子阱禁带宽度最大,第三和第四多量子阱层的量子阱禁带宽度介于第一多量子阱层与第二多量子阱层的量子阱禁带宽度之间;第四多量子阱层的量子垒禁带宽度比其他多量子阱层的量子垒禁带宽度小但大于第四量子阱层的量子阱禁带宽度本发明的多量子阱结构设计对于各方面的优化结果对于电子空穴的注入效率,迁移速度,浓度分布和复合位置等均有明显改善,进而对器件的整体性能有了较大的提升效果。
  • 一种亮度发光二极管多量结构
  • [发明专利]一种MicroLED显示面板制作方法及显示面板-CN202210317411.8有效
  • 岳大川;蔡世星 - 季华实验室
  • 2022-03-29 - 2022-06-17 - H01L27/15
  • 本发明公开了一种MicroLED显示面板制作方法及显示面板,属于MicroLED领域,方法步骤包括,设置第一阻隔层将第一多量子阱层分隔成多个第一多量子阱;在第一阻隔层中设置阳极,阳极包括与第一P层接触的第一阳极、与N层接触的第二阳极;键合并除去第一衬底直至暴露出N层;在N层上设置顶面具有第二P层的多个第二多量子阱,第二多量子阱位于第二阳极外周;设置与第二P层和第二阳极接触且与第二多量子阱隔离的延伸电极,第一多量子阱和第二多量子阱共阴极,二次外延时所需温度低,能够保护第一多量子阱和金属引线,第一多量子阱和第二多量子阱都能被有源驱动,实现彩色显示。
  • 一种microled显示面板制作方法
  • [发明专利]宽频谱GaN基LED外延结构及其制造方法-CN201610382974.X在审
  • 刘恒山;陈立人;冯猛 - 聚灿光电科技股份有限公司
  • 2016-06-01 - 2016-09-21 - H01L33/00
  • 本发明提供一种宽频谱GaN基LED外延结构及其制造方法,所述LED外延结构依次包括衬底及位于衬底上的n型GaN层、应力释放层、超晶格多量子阱发光层、p型AlGaN电子阻挡层和p型GaN层,所述超晶格多量子阱发光层的包括至少两层多量子阱发光层,不同的多量子阱发光层的半宽HW不同,每层多量子阱发光层由若干对InGaN层与GaN层依次堆叠组成。本发明中超晶格多量子阱发光层包括半宽HW不同的多层多量子阱发光层,可以达到宽频谱的效果,超晶格多量子阱发光层半宽HW可控制在40~60nm之间;还可根据实际应用调整频谱范围,在育林、养鱼等产业有着广泛的应用
  • 宽频ganled外延结构及其制造方法
  • [发明专利]氮化镓发光二极管外延片-CN201510003033.6有效
  • 刘伟;郑远志;陈向东;康建;梁旭东 - 圆融光电科技有限公司
  • 2015-01-05 - 2017-02-22 - H01L33/06
  • 本发明提供一种氮化镓发光二极管外延片,包括在衬底上自下而上依次生长的低温氮化镓缓冲层、非掺杂氮化镓层、n型氮化镓层、多量子阱结构、p型铝镓氮层、p型氮化镓层和高掺杂p型氮化镓电极接触层,其中,所述多量子阱结构包括N个多量子阱,所述N个多量子阱中的每两个多量子阱之间设置有一个隧道结,所述隧道结由以石墨烯为基底的氮化镓基组成。由于多量子阱结构由多层多量子阱组成,在多量子阱结构中每一对电子—空穴,会发生多次复合,产生多个光子,从而提高了氮化镓发光二极管的发光效率。
  • 氮化发光二极管外延
  • [发明专利]一种InGaN/GaN多量子阱微米线的制备方法-CN202010967184.4在审
  • 宋伟东;罗幸君;李述体;曾庆光;陈钊 - 五邑大学
  • 2020-09-15 - 2021-01-01 - H01L33/00
  • 本发明属于半导体工艺和器件领域,公开了一种InGaN/GaN多量子阱微米线的制备方法。所述InGaN/GaN多量子阱微米线的制备方法,包括以下步骤:(1)对衬底表面进行蚀刻,得到倒梯形凹槽;(2)在倒梯形凹槽的侧壁上依次沉积AlN缓冲层、N型GaN层、InGaN/GaN多量子阱和P型GaN层,得到带有InGaN/GaN多量子阱微米线的衬底;(3)将带有InGaN/GaN多量子阱微米线的衬底放入剥离液中,释放得到所述InGaN/GaN多量子阱微米线。采用上述制备方法,能够制得极性和半极性的InGaN/GaN多量子阱微米线,并具有高效和低成本的优点。
  • 一种ingangan多量微米制备方法
  • [实用新型]宽频谱GaN基LED外延结构-CN201620524657.2有效
  • 刘恒山;陈立人;冯猛 - 聚灿光电科技股份有限公司
  • 2016-06-01 - 2017-01-18 - H01L33/06
  • 本实用新型提供一种宽频谱GaN基LED外延结构,所述LED外延结构依次包括衬底及位于衬底上的n型GaN层、应力释放层、超晶格多量子阱发光层、p型AlGaN电子阻挡层和p型GaN层,所述超晶格多量子阱发光层的包括至少两层多量子阱发光层,不同的多量子阱发光层的半宽HW不同,每层多量子阱发光层由若干对InGaN层与GaN层依次堆叠组成。本实用新型中超晶格多量子阱发光层包括半宽HW不同的多层多量子阱发光层,可以达到宽频谱的效果,超晶格多量子阱发光层半宽HW可控制在40~60nm之间;还可根据实际应用调整频谱范围,在育林、养鱼等产业有着广泛的应用
  • 宽频ganled外延结构

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