|
钻瓜专利网为您找到相关结果 9776449个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]半导体器件及其形成方法-CN201810825543.5有效
-
张长昀;张铭庆;古淑瑗
-
台湾积体电路制造股份有限公司
-
2018-07-25
-
2021-03-16
-
H01L27/092
- 本发明的实施例提供了半导体器件及其形成方法。第一FinFET器件包括在顶视图中在第一方向上延伸的第一鳍结构。第二FinFET器件包括在顶视图中在第一方向上延伸的第二鳍结构。第一FinFET器件和第二FinFET器件是不同类型的FinFET器件。在顶视图中多个栅极结构在第二方向上延伸。第二方向不同于第一方向。每个栅极结构部分地包裹在第一鳍结构和第二鳍结构周围。在第一FinFET器件和第二FinFET器件之间设置介电结构。介电结构将每个栅极结构切割成用于第一FinFET器件的第一区段和用于第二FinFET器件的第二区段。介电结构位于相比于第二FinFET器件更靠近第一FinFET器件的位置。
- 半导体器件及其形成方法
- [发明专利]具有高密度输入/输出数量的集成器件的电接口-CN98810695.7无效
-
D·科尔宾;E·博加丁
-
硅光机器公司
-
1998-06-23
-
2000-12-27
-
H01L25/065
- 一种用于电互连两个集成电路器件的装置和方法包括面对面的安装两个器件。例如把第一器件安装到基底或引线结构。第一器件包括优选地沿一边排列的多重电气/物理安装结构。安装结构提供了电互连和物理安装。第二器件包括相应的多重安装结构,该结构构成了在第一器件上的安装结构的镜象。在第二器件上的安装结构也沿着它的一边排列使得一旦安装结构以面对面关系放在一起,第二器件能悬离第一器件的边。在特定环境下,把虚拟块安装到邻近第一器件的基底上,作为第二器件的支杆或支撑。安装结构能互相充分靠近使用于I/O的表面积最小。另一套电互连结构在与安装结构相对边缘的第二器件的表面上形成。使用传统技术例如载带自动键合来形成这些气互连结构。
- 具有高密度输入输出数量集成器件接口
|