专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]原位等离子体工艺制程监测系统及其监测方法-CN202211623712.X在审
  • 陆祺峰;贺晓龙;沈唐尧;崔靖;殷海玮;方源 - 上海复享光学股份有限公司
  • 2022-12-16 - 2023-03-21 - H01L21/66
  • 本发明公开了一种原位等离子体工艺制程监测系统及其监测方法,针对不同材质的刻蚀膜层所含的元素,根据NIST数据获取各元素对应特征谱线的标准波长和强度信息以建立不同刻蚀膜层所对应的模拟光谱,并将测得的等离子体光谱与模拟光谱库内的模拟光谱初步匹配对匹配成功的光谱线,从测得的等离子体光谱中提取像素‑强度信息,对峰位拟合得到峰位中心像素值,结合模拟光谱中已匹配的模拟光谱的标准波长值拟合得到新的光谱仪波长与像素之间的色散关系函数,最后根据新的色散关系函数对反射光谱进行处理以获得准确的反射光波长,进而在对等离子体实时监控中,实现光谱仪的实时波长定标,准确得到反射光波长并准确计算刻蚀速率和刻蚀深度。
  • 原位等离子体工艺监测系统及其方法

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