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[发明专利]一种具有多重过滤能力的光刻胶输送系统-CN201811408987.5在审
发明人：宋海生;李德建;吴鹏 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-11-23 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开一种具有多重过滤能力的光刻胶输送系统，用于输送光刻胶的过程中，其中包括：一光刻胶瓶；一光刻胶过滤系统，光刻胶过滤系统包括第一光刻胶储存罐、光刻胶过滤器组、第一光刻胶缓冲罐、第一光刻胶压缩泵、第二光刻胶储存罐、第二光刻胶缓冲罐；一光刻胶喷涂系统，光刻胶喷涂系统包括第二光刻胶压缩泵、第三光刻胶缓冲罐、喷嘴。本发明的技术方案有益效果在于：把整个光刻胶输送系统分为过滤系统与喷涂系统，在过滤系统中增加压缩泵和多个过滤器，同时增加循环回路，以进行循环过滤提高过滤效果，在喷涂系统中增加压缩泵，能够精确地输送光刻胶的喷涂，进一步提高光刻胶喷涂的稳定性。
光刻胶过滤系统压缩泵光刻胶喷涂输送系统缓冲罐多重过滤喷涂系统储存罐多个过滤器光刻胶瓶过滤器组过滤效果循环过滤循环回路喷嘴喷涂

[发明专利]一种PCB光刻胶喷涂设备及光刻胶喷涂方法-CN202210620958.5在审
发明人：傅百军;傅嘉炜;陈玉峰 -专利权人：绍兴市嘉诚感光材料有限公司
申请日： 2022-06-02 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本发明提供一种PCB光刻胶喷涂设备及光刻胶喷涂方法，涉及光刻胶涂覆技术领域，包括输送线、喷涂本体、气吹机构和控制器，所述输送线、喷涂本体、气吹机构与控制器线路连接，所述输送线上承载衬底，用于输送待涂覆光刻胶的基板，通过喷涂本体下方喷涂光刻胶，再通过气吹机构对基板表面均匀吹气抚平，该PCB光刻胶喷涂设备及光刻胶喷涂方法，通过注射泵准确控制光刻胶的进给量，并对流经喷嘴的光刻胶进行雾化分散，经带压气流导向，直接分散喷射于对应的已加热基板表面上，提高了光刻胶涂覆的效率，减少光刻胶涂覆的浪费，同时将喷涂有光刻胶的基板随着输送线进入气吹机构，对基板表面进行吹拂分散，使光刻胶涂覆在基板表面均匀性更好。
一种 pcb 光刻喷涂设备方法

[发明专利]一种用于晶圆的光刻胶涂布系统及方法-CN202111182086.0在审
发明人：张成根;林锺吉;金在植 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2021-10-11 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于晶圆的光刻胶涂布系统及方法，该系统包括压力泵单元，压力泵单元包括光刻胶过滤器和压力泵；光刻胶过滤器的进口接入光刻胶供给单元，光刻胶过滤器的出口连接压力泵的入口，通过光刻胶过滤器实现对光刻胶供给单元输入的光刻胶进行过滤处理；压力泵的第一出口接出至喷涂旋转单元，通过第一出口输出恒定喷涂量的光刻胶实现对晶圆进行一次光刻胶喷涂；压力泵的第二出口连接光刻胶过滤器的进口，完成一次喷涂后光刻胶的余量通过第二出口循环输出至光刻胶过滤器进行处理后，固定量的光刻胶被送至压力泵进行下一次的光刻胶喷涂，使每一次喷涂时压力泵内存储有固定量的光刻胶，进而对不同晶圆实现恒定压力的光刻胶喷涂。
一种用于光刻胶涂布系统方法

[发明专利]光刻胶涂布方法-CN202110205894.8在审
发明人：林锺吉;金在植;张成根;金成昱;梁贤石;贺晓彬;刘强;杨涛;李俊峰;王文武 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2021-02-24 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本申请属于半导体加工技术领域，具体涉及一种光刻胶涂布方法，光刻胶涂布方法包括：将半导体晶圆放置在装载台上并使半导体晶圆的圆心位于光刻胶喷嘴的正下方；控制装载台带动半导体晶圆旋转，控制光刻胶喷嘴向半导体晶圆的圆心处喷涂光刻胶；控制光刻胶喷嘴的喷涂速率逐渐增加，且当光刻胶喷嘴的喷涂速率达到第一预设值后，控制光刻胶喷嘴的喷涂速率逐渐减小直到半导体晶圆完成喷涂。根据本申请的光刻胶涂布方法，由于半导体晶圆的喷涂初期需要大量的光刻胶，而随着半导体晶圆上被喷涂面积的增加，需要的光刻胶量逐渐减小，本申请通过合理的控制光刻胶喷嘴的喷涂速率，以此减少光刻胶的浪费量。
光刻胶涂布方法

[发明专利]光刻胶涂布喷嘴及具有其的光刻胶涂布设备-CN202010606025.1在审
发明人：金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;李亭亭;杨涛;李俊峰;王文武 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请属于光刻胶涂布技术领域，具体涉及一种光刻胶涂布喷嘴及具有其的光刻胶涂布设备，该光刻胶涂布喷嘴包括喷嘴本体，喷嘴本体内设置有彼此隔开的有机溶剂管路和光刻胶管路，有机溶剂管路与有机溶剂罐连通，用于向待涂件上喷涂有机溶剂，光刻胶管路与光刻胶瓶连通，用于在有机溶剂喷涂至待涂件上后向待涂件上喷涂光刻胶。根据本申请的光刻胶涂布喷嘴，通过在喷嘴本体内集成有彼此隔开的有机溶剂管路和光刻胶管路，光刻胶涂布喷嘴首先通过有机溶剂管路向待涂件喷涂有机溶剂，然后在原地通过光刻胶管路向待涂件喷涂光刻胶，在喷涂过程中不需要移动光刻胶涂布喷嘴，以此减少光刻胶涂布喷嘴在移动过程中出现光刻胶液滴滴落在待涂件上的现象。
光刻胶涂布喷嘴具有布设

[发明专利]光刻胶喷涂的装置及其方法-CN98101653.7无效
发明人：金文佑;尹炳珠 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1998-04-24 - 公布日： 2003-07-23 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：提供了一种光刻胶喷涂装置及其方法，其特征是，晶片光刻胶涂层的光刻胶以扫描方式进行喷涂，而晶片的转速相对于晶片上被喷涂光刻胶的位置不同而不同，从而减少用于涂层的光刻胶的用量。光刻胶的喷涂方法按如下方式进行，即，在喷嘴对所述晶片从其边缘向其中心进行扫描的同时喷涂光刻胶，在所述的扫描过程中，所述晶片的旋转速度在增加。
光刻喷涂装置及其方法

[发明专利]光刻胶涂覆装置及其方法-CN200510111675.4有效
发明人：陈林炯;胡晓明;张峻铭 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2005-12-19 - 公布日： 2007-06-27 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶喷涂装置，所述装置包括喷涂光刻胶的喷嘴；放置至少一个光刻胶喷嘴的喷嘴卡槽；抓取光刻胶喷嘴并可带动喷嘴移动和升降的喷嘴抓取臂；承载需要喷涂光刻胶的晶片的晶片承载台；带动晶片承载台进行旋转的旋转机构；置于喷嘴卡槽、校准喷嘴与晶片表面的同心度和高度的伪喷嘴；控制喷嘴抓取臂的移动并记忆喷嘴抓取臂抓取喷嘴的位置的控制系统；以及为所述喷嘴供应光刻胶的光刻胶供应系统。本发明还相应提供了一种喷涂光刻胶的方法，包括喷嘴抓取臂抓取伪喷嘴校准喷嘴与晶片表面的同心度和高度；喷嘴抓取臂抓取喷嘴移动到需要喷涂光刻胶的晶片表面；向晶片表面喷涂光刻胶。
光刻胶涂覆装置及其方法

[发明专利]一种光刻胶喷涂装置及光刻胶喷涂方法-CN202211343346.2在审
发明人：岳军伟;陈成 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻胶喷涂装置及光刻胶喷涂方法，晶圆放置台，用于吸附所述晶圆并带动所述晶圆转动；圆盘状的喷头，位于所述晶圆上方且直径大于或等于所述晶圆的直径，所述喷头上均匀分布若干出液孔，用于向所述晶圆喷涂雾化的光刻胶由于光刻胶喷涂过程中均匀地分布在所述晶圆的表面，以较低的转速即可使堆积的光刻胶在所述晶圆的表面分散，以形成厚度均匀的光刻胶层；且由于所述晶圆的转速较低，转动过程中甩离所述晶圆的光刻胶的量也较少，可以有效减少光刻胶的损失，并有效缓解光刻胶甩离带来的所述晶圆边缘的光刻胶残留及光刻胶堆积，提高所述光刻胶层均匀性的同时节约成本。
一种光刻喷涂装置方法

[发明专利]光刻胶涂覆装置及光刻胶涂覆方法-CN202010055766.5在审
发明人：田笵焕;林钟吉;张成根;金在植 -专利权人：夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：一种光刻胶涂覆装置，包括夹盘、光刻胶喷嘴、清洗剂喷嘴、边缘曝光光源、显影剂喷嘴及调整机构，夹盘定位晶圆并带动晶圆旋转，光刻胶喷嘴向定位于夹盘上的晶圆喷涂光刻胶，清洗剂喷嘴向晶圆的边缘的光刻胶喷涂清洗剂，边缘曝光光源对晶圆的边缘的光刻胶进行曝光，显影剂喷嘴向被曝光的晶圆的边缘的光刻胶喷涂显影剂，调整机构调整清洗剂喷嘴保持喷涂的清洗剂与晶圆的表面的角度小于30度，调整机构调整显影剂喷嘴保持喷涂的显影剂与晶圆的表面的角度小于本发明的提供的光刻胶涂覆装置能充分去除光刻胶，且避免清洗剂溅射至晶圆非边缘处的光刻胶上，提高光刻良率。本发明还提供一种光刻胶涂覆方法。
光刻胶涂覆装置方法

[发明专利]一种光刻胶喷涂方法及装置-CN201510053380.X有效
发明人：张华 -专利权人：苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司
申请日： 2015-02-02 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明涉及半导体生产工艺技术领域，尤其涉及一种光刻胶喷涂方法及装置，该光刻胶喷涂方法包括以下步骤：提供硅片和喷嘴，所述喷嘴设置在所述硅片下方，所述喷嘴向上喷射光刻胶，光刻胶呈胶粒状态运动至所述硅片表面，本发明改善了光刻胶在硅片表面的填充能力，使喷涂颗粒均匀。
一种光刻喷涂方法装置

[发明专利]一种LCD显示屏的加工方法-CN202310457038.0有效
发明人：徐志栋 -专利权人：苏州润博希电子科技有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明涉及LCD显示屏技术领域，具体为一种LCD显示屏的加工方法，包括底座，用于对ITO玻璃进行输送的输送机构，所述底座的上表面固定设置有输送机构，用于对ITO玻璃表面进行光刻胶喷涂的喷涂机构，所述底座上固定设置有喷涂机构，用于对光刻胶进行热烘的热烘机构，所述喷涂机构上固定设置有热烘机构，通过热烘机构都设置可以在对ITO玻璃进行光刻胶喷涂的过程中提前对喷涂位置进行预热，并且对已经喷涂光刻胶的位置进行及时的热烘，使光刻胶的喷涂和热烘工作同步进行，提高对ITO玻璃光刻的效率，并且在喷涂之后对ITO玻璃上每个位置的光刻胶的热烘效果相同，可以保证每个位置的光刻胶与ITO玻璃之间粘附性的强度。
一种 lcd 显示屏加工方法

[发明专利]一种光刻胶喷涂设备-CN201510139164.7在审
发明人：张靓 -专利权人：南京市雨花台区知识产权促进中心
申请日： 2015-03-28 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶喷涂设备，所述的光刻胶喷涂设备包括光刻胶存储器、光刻胶管道、超声波发生器、喷嘴、传输带。在封闭环境中，液态光刻胶储存于光刻胶存储器中，通过输出口进入光刻胶管道内，光刻胶管道附有温度控制器，控制光刻胶的液化状态，光刻胶管道与超声波发生器相连，超声波发生器将光刻胶管道内的液态光刻胶气化后经过喷嘴喷出
一种光刻喷涂设备

[发明专利]光刻胶涂覆方法及涂布机-CN201810002807.7在审
发明人：刘文渠;董立文;党宁;张锋;王峰超;吕志军 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-01-02 - 公布日： 2018-06-22 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开一种光刻胶涂覆方法及涂布机，属于显示技术领域。该方法包括：在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，在喷涂有预设溶剂的目标板面的中央区域喷涂光刻胶；控制基板按照第一预设速度旋转第一时长，使光刻胶向目标板面的周边区域扩散。本发明有助于解决光刻胶涂覆的难度较大的问题，降低光刻胶涂覆的难度。本发明用于光刻胶涂覆。
光刻胶涂覆目标板喷涂预设涂布机溶剂控制基板中央区域周边区域基板时长扩散

[发明专利]一种光刻胶及其光刻工艺-CN202010886418.2在审
发明人：王国秋;黄坚;陈璀 -专利权人：湖南启泰传感科技有限公司
申请日： 2020-08-28 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻胶，包括含酚树脂、溶剂和感光剂，其中溶剂为丙二醇甲醚醋酸脂与碳酸丙烯脂的混合溶剂。本发明还提供一种光刻胶的光刻工艺，包括：在基片衬底上喷涂本发明的光刻胶；将喷涂完光刻胶的基底进行真空干燥、烘烤、曝光和显影。本发明的光刻胶可以显著提升光刻胶的流平性，有效减轻光刻胶涂布后边缘堆积，解决基片衬底边缘光刻胶堆积导致的显影残留问题；本发明的光刻工艺能够改善光刻胶内部无规则的溢流，从而解决干燥后基底中间区域光刻胶膜厚均匀性差的问题，从而提升光刻胶的膜厚均匀性，提升芯片产品的性能。
一种光刻及其工艺

[发明专利]一种光刻胶的涂布方法-CN202211259797.8在审
发明人：杨伟;王宇凡;方正;陈媛儒;王绪根;金乐群;姚振海;吴长明 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻胶的涂布方法，包括将待涂胶的晶圆进行预处理；采用动态涂胶方法在晶圆表面喷涂光刻胶以形成沿圆周方向由外到里的蚊香式光刻胶，并在晶圆的中心喷涂光刻胶；涂胶完成后，控制晶圆转动，令光刻胶成膜本发明解决了现有涂胶方式光刻胶易堆积在晶圆中心、光刻胶膜厚均匀性差的问题，改善了光刻胶膜厚均匀性。
一种光刻方法

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