专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]图像处理设备及其控制方法-CN201010504321.7有效
  • 山田直人;西山淳 - 佳能株式会社
  • 2010-10-08 - 2011-04-27 - H04N1/00
  • 公开了一种图像处理设备及其控制方法,其中,输入图像数据,并且通过对所输入的图像数据进行分割来生成各自包括本体区域和重叠区域的多个片图像,重叠区域各自与各相邻片图像的一部分重叠。图像处理设备对所生成的多个片图像各自分别执行图像处理,并且当生成各片图像时,对重叠区域中的图像数据的分辨率进行转换,以使得重叠区域中的图像数据的分辨率比本体区域中的图像数据的分辨率小。
  • 图像处理设备及其控制方法
  • [发明专利]一种掩膜版缺陷修复方法-CN200910198555.0有效
  • 姜巍 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2009-11-10 - 2011-05-11 - G03F1/00
  • 本发明提供一种掩膜版缺陷修复方法,掩膜版上形成遮光层图案后,对暴露出的缺陷石英区域进行修复,其特征在于,包括以下步骤:采用激光去除所述缺陷石英区域周围的遮光层,在所述缺陷石英区域的周围形成新暴露出的石英区域;使用聚焦离子束及有机气体,在所述新暴露出的石英区域的部分表面上沉积碳膜。本发明方法可更好的掌握修复精度,可明显确定的提高缺陷石英区域的穿透率,提高掩膜版的质量。
  • 一种掩膜版缺陷修复方法
  • [发明专利]在线监控光刻条件的方法-CN200810043870.1有效
  • 王雷 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2008-10-28 - 2010-06-09 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种在线监控光刻条件的方法,包括如下步骤:(1)测量被监控图形的面积,对设备探测得到的图像进行处理;(2)测量所得图像中被监控图形内的有效图形区域与总图形区域的面积比例;(3)比较所述被监控图形内的有效图形区域与总图形区域的面积比例是否大于设定的面积比例范围值本发明通过测量有效图形区域和边缘图形区域的面积比例值,可以对测量图形的形貌进行监控。
  • 在线监控光刻条件方法
  • [发明专利]有机发光显示设备-CN201510755753.8有效
  • 金东奎 - 三星显示有限公司
  • 2015-11-09 - 2020-10-30 - H01L27/32
  • 有机发光显示设备具有显示区域和围绕所述显示区域的至少一侧的第一外围区域。有机发光显示设备包括第一基板、位于所述第一基板上的多个像素、和位于所述第一基板上且位于所述第一外围区域中的驱动电路,所述多个像素被包括在所述显示区域中,所述多个像素中的至少一个包括有机发光元件。所述像素中的至少一个包括第一透射部和至少一个发光部,并且所述第一外围区域包括至少一个第二透射部。
  • 有机发光显示设备
  • [发明专利]沟槽电容结构的制作方法-CN200910005833.6有效
  • 苏怡男 - 联华电子股份有限公司
  • 2005-09-20 - 2009-09-02 - H01L21/82
  • 上述方法包括提供一基底,其表面定义有一存储阵列区域以及一逻辑区域,进行一浅沟隔离工艺,于存储阵列区域以及逻辑区域中的基底上形成至少一浅沟隔离,并于基底以及浅沟隔离的表面形成一图案化的屏蔽层,曝露出存储阵列区域内的部分浅沟隔离以及浅沟隔离周边的该基底,接着蚀刻存储阵列区域内未被屏蔽层覆盖的基底,以于基底内形成多个深沟槽。
  • 沟槽电容结构制作方法

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