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[发明专利]形状记忆有源电子可穿戴设备及其直写式3D打印制造方法-CN202211104113.7在审
发明人：田晓聪;范竞韬;白佳轩;马慧;曹文玉 -专利权人：中国地质大学（武汉）
申请日： 2022-09-09 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B22F10/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种形状记忆有源电子可穿戴设备及其直写式3D打印制造方法。包括如下步骤：使用形状记忆材料墨水直写式3D打印若干张薄膜；制备储能器件层和电路层；将两个储能器件安装在电路层上，然后使用导电银胶连通储能器件层的银集流体和电路层的银电路；使用另外两个薄膜封装储能器件层除银集流体的预设触点以外的部分本发明只需一种墨水直写式3D打印机，同时制造形状记忆材料和储能器件，节约了设备成本，提高了生产效率。能利用形状记忆功能实现电路智能连通与断开，控制有源指环的电路通断，收纳方便。
形状记忆有源电子穿戴设备及其直写式打印制造方法

[发明专利]一种基于感应熔炼的直写式金属三维打印成型方法-CN201810414290.2有效
发明人：薛伟;嵇旭;曹宇;杨焕;叶总一;刘文文;潘俏菲 -专利权人：温州大学激光与光电智能制造研究院
申请日： 2018-05-03 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： B22F3/115 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于感应熔炼的直写式金属三维打印成型方法，包括：准备三维打印成型零件的CAD数据文件、成型基板、金属粉末和直写式感应熔炼成型喷嘴；将每层切片的封闭轮廓图形进行内部矢量线填充；控制打开当前切片对应的喷射阀门，使得金属粉末经由内部送粉通道流出，之后经过感应线圈的快速加热熔化，形成金属液滴随后近乎垂直撞击于成型基板的当前成型表面；沿着内部填充矢量线段的轨迹使直写式感应熔炼成型喷嘴与成型基板发生相对位移，形成与内部填充矢量线段一致的连续成型线段
一种基于感应熔炼直写式金属三维打印成型方法

[发明专利]陶瓷基催化剂载体的墨水直写式3D打印装置及制造方法-CN202110776847.9有效
发明人：梅德庆;刘海宇;汪延成;余世政;宣凌锋;吴琼;陶凯 -专利权人：浙江大学
申请日： 2021-07-09 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： B01J27/224 文献下载
摘要：本发明公开了一种陶瓷基催化剂载体的墨水直写式3D打印装置及制造方法。通过将陶瓷前驱体材料、陶瓷颗粒、粘接剂和有机溶剂混合制备陶瓷前驱体打印浆料；通过设置墨水直写式3D打印参数，制备出复杂程度高，具有3D规则孔隙结构的陶瓷前驱体模型；通过氧化交联、高温烧结、催化剂涂覆以及反应器装配实现陶瓷基催化剂载体在化学催化领域的应用本发明通过墨水直写式3D打印方法制备的陶瓷基催化剂载体具有比表面积高、压降性能好、化学稳定性高、热膨胀系数小等优点，将其应用于化学反应器中，能够很好的在降低压力损失的同时，提高反应物转化率和产物总产量，
陶瓷催化剂载体墨水直写式打印装置制造方法

[发明专利]光热双重固化的复合直写式3D打印介质、制备方法及应用-CN202210120750.7有效
发明人：严俊秋;李深;朱晓艳;陈小朋 -专利权人：芯体素（杭州）科技发展有限公司
申请日： 2022-02-09 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C08L83/07 文献下载
摘要：本发明提供一种光热双重固化的复合直写式3D打印介质、制备方法及应用，该复合直写式3D打印介质的的粘度为200～1000Pa·s，在室温下避光放置存放超30天粘度变化值≤10％，固化后的邵氏硬度在30A以上升温所述第一混合料保持第一时长，得到第二混合料；降温所述第二混合料，混合所述第二混合料和铂金催化剂、光引发剂，在避光条件下混合得到第三混合料；对所述第三混合料依次进行真空脱泡、加压过滤，可适用于高宽比大于0.5的线条打印的直写式
光热双重固化复合直写式打印介质制备方法应用

[实用新型]一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构-CN202021867030.X有效
发明人：王群 -专利权人：江苏九迪激光装备科技有限公司
申请日： 2020-09-01 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构，包括光刻机本体和控制箱，所述光刻机本体的正面开设有矩形凹槽，且该矩形凹槽的内顶壁固定连接有第一阻尼转轴，所述第一阻尼转轴的表面固定连接有第一转动套，所述控制箱的上表面固定连接有第二阻尼转轴该直写式光刻机控制面板的锁紧机构，通过设置锁紧装置和开关按钮，便于按动开关按钮使线圈带电，同时使硅钢柱的表面带磁并吸引锁紧舌，使该直写式光刻机控制面板可以通过锁紧舌的伸缩来锁紧和拉出，从而使操作者在外部维修和操作光刻机控制面板更加的便捷
一种直写式光刻控制面板机构

[发明专利]一种片材微孔群表面的激光直写-激光扫描诱导协同方法-CN202111579550.X在审
发明人：金卫凤;李健;徐伟;赵珂;秦忠刚 -专利权人：江苏大学
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： B23K26/352 文献下载
摘要：本发明公开了一种片材微孔群表面的激光直写‑激光扫描诱导协同方法，属于特种加工领域，包括绘制激光直写加工路径；设置激光直写加工参数对片材直写；绘制激光扫描路径；设置激光扫描诱导参数对直写后的片材扫描诱导加工本发明方法先通过激光直写加工产生微结构，利用这些微结构对后续激光束所产生的遮挡作用和壁聚焦效应，再通过低功率纳秒激光扫描诱导方法实现了在大气环境下的板材或箔材表面微孔群表面的加工，同时对微孔边缘则实现了激光抛光
一种微孔表面激光扫描诱导协同方法

[发明专利]一种静电纺丝近场直写射流触发系统、方法及设备-CN202310874272.3在审
发明人：张荣光;陈桪;陈新;张烜志 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： D01D5/00 文献下载
摘要：本发明涉及静电纺丝技术领域，公开了一种静电纺丝近场直写射流触发系统、方法及设备。本发明的系统包括静电纺丝直写针组件、收集板和驱动装置，静电纺丝直写针组件和收集板之间被施加有高压静电场，本发明通过驱动装置来触发静电纺丝直写针组件产生平行于高压静电场方向的微颤动，使得静电纺丝直写针组件的带电液滴由于高速下惯性作用对带电射流进行触发本发明能够提高射流触发的可靠性和稳定性，且可以实现多针近场直写射流触发，从而提高批量制造的实现可行性。
一种静电纺丝近场射流触发系统方法设备

[发明专利]保持高速缓冲存储器一致性的方法和系统-CN00118854.2无效
发明人： J·M·努内斯;T·A·彼得森;M·J·沙利文 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2000-06-15 - 公布日： 2004-05-12 - 主分类号： G06F15/16 文献下载
摘要：在数据处理系统中直写存储操作时保持高速缓冲存储器一致性的方法和系统。通过高速缓冲存储器，将直写存储操作由特定的处理器传递到系统总线。在插入的高速缓冲存储器中进行直写存储操作。没有插在特定的处理器系统总线之间的所述多级高速缓冲存储器的所有高速缓冲存储器用所述直写操作的数据地址从系统总线的外部侦听路径侦听，直到直写操作成功，由此在完成到相同数据地址的任何其它指令之前成功地完成直写操作
保持高速缓冲存储器一致性方法系统

[发明专利]一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺-CN202111561392.5在审
发明人：余启川;王吉 -专利权人：美迪凯（浙江）智能光电科技有限公司
申请日： 2021-12-20 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明公开了一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺，其工艺步骤包括玻璃基板预处理、感光胶覆膜、激光灰度直写和沉浸式显影。本发明工艺通过激光直写灰度光刻设备省去了繁琐的掩模版加工步骤，提供快速、高效和低成本光刻制程解决方案，尤其对于新产品研发阶段，可以结合材料性能频繁更新母板的设计方案，特别是对于既有遮挡层又有透镜区域形状的特殊3D形状的母板，此技术可以通过软件快速更新版图设计直写光刻母板，这就大大较低研发成本并提高研发效率。
一种通过精密灰度光刻方法制作光学母板工艺

[发明专利]超大板直写式光刻机扫描曝光方法-CN201710156795.9有效
发明人：陈海巍 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2017-03-16 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： G03F7/22 文献下载
摘要：本发明公开了超大板直写式光刻机扫描曝光方法，属于直写曝光技术领域。
超大板直写式光刻扫描曝光方法

[发明专利]多材料激光直写共形系统与方法-CN201410362772.X在审
发明人：段宣明;曹良成;曹洪忠;范树迁;刘基权;俆佼 -专利权人：中国科学院重庆绿色智能技术研究院
申请日： 2014-07-28 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： B29C67/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种多材料激光直写共形系统及方法，包括真空密封箱、多关节机械手臂、多材料激光直写头及对各组成部分进行控制的控制系统；所述机械手臂与激光直写头设置在密封箱内；所述激光直写头包括直写头本体、激光器及材料筒，所述直写头本体上设有分别与激光器及材料筒相连通的材料通道和激光聚焦通道，所述材料筒至少为两组，并列设置在直写头本体上；具体过程为机械手臂带动工件沿设定路径移动，材料控制器选择相应的材料筒，出料头送出材料并使其附着到工件表面上
材料激光直写共形系统方法

[发明专利]一种激光微熔覆专用设备-CN201010562229.6有效
发明人：蔡志祥;曾晓雁;段军;张洁;李祥友;王泽敏 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2010-11-26 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： C23C24/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光微熔覆专用设备，该设备包括工作台、激光加工系统和控制系统，其特征在于，该系统还包括CCD监测定位系统和直写系统；CCD监测定位系统包括同轴CCD传感器、旁轴CCD传感器、变焦透镜、成像目镜、变焦光学系统、旁轴成像物镜和外接监视器；直写系统包括微细笔直写装置和微喷直写装置；微细笔直写装置包括支架，导轨、气缸、滑块、活塞杆、千分表、微距调节螺母和微细笔；微喷直写装置包括水浴锅、导气管、微压表和微喷工具；该设备合理设计了激光光路、微喷和微细笔的安装工位及工作方式，将激光加工与微细笔、微喷直写系统集成在同一个工作平台上，实现多种加工手段的优势互补。
一种激光微熔覆专用设备

[发明专利]超精密回转轴与激光直写机直写光轴空间对准方法-CN200510076827.1有效
发明人：谭久彬;刘俭;杨文国;金国良;邱丽蓉;邹丽敏;赵晨光 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2005-06-17 - 公布日： 2005-10-26 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种超精密回转轴与激光直写机直写光轴空间对准方法，该方法利用极坐标直写机系统的差动像散离焦检测装置、调焦伺服系统、精密定位机构以及位相光栅，实现回转轴与直写光轴的对准，所述方法包括以下步骤：把测量范围划分成精确测量区和定位测量区，并使定位测量区的分辨率极限值小于精确测量区的范围；借助差动像散离焦检测装置的检焦功能，使光斑处于准焦状态；产生光斑离焦产生轴对准偏离量测量信号；根据对准偏离量测量信号，使直写光轴进入所述定位测量区；测量对准偏离量，借助直写机系统精密定位机构的精密定位功能使光轴移动到所述精确测量区；再次测量对准偏离量，并借助直写机系统精密定位机构的精密定位功能实现最终对准。
精密回转激光直写机直写光轴空间对准方法

[发明专利]一种基于二自由度平衡环的曲面微笔静电直写成形装置-CN202010436542.9有效
发明人：彭鹏;栾振宇;刘艳改;郭伟;周兴汶;王欣达 -专利权人：北京航空航天大学;中国地质大学（北京）
申请日： 2020-05-21 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H05K3/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于二自由度平衡环的曲面微笔直写成形装置，其中二自由度平衡环系统、气动导电油墨供料系统、曲面基板支撑系统均安装在平台支架上，曲面基板支撑的工作轴心与气动导电油墨供料系统的直写针头轴心重合，真空泵通过气管连接在曲面基板支撑系统的吸盘连接杆部分，电场电源正负极分别连接在气动导电油墨供料系统的直写针头部分和曲面基板支撑系统的电极部分，从而使固定在二自由度平衡环系统上的曲面基板处在直写针头与曲面基板支撑系统电极之间形成的静电电场中本发明使曲面基板的待直写区域时刻保持水平，可实现曲面基板上电路的直写成形，可以在形状比较复杂的随机曲面基板表面直写制备具有电学性能的微型电路。
一种基于自由度平衡曲面静电成形装置

[发明专利]直写光刻系统和直写光刻方法-CN201911303595.7有效
发明人：浦东林;朱鹏飞;朱鸣;邵仁锦;张瑾;王冠楠;陈林森 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2019-12-17 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
光刻系统方法