专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种LDI聚焦系统-CN202311060717.0在审
  • 李显杰;徐广峰;卞钦巍;陈海巍 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2023-08-21 - 2023-10-27 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种LDI聚焦系统,涉及直写曝光技术领域,该方法包括上位机、运动平台以及设置在运动平台上的对准相机、对准镜筒、光源和测距传感器。其中,对准镜筒的顶部与对准相机相接,对准镜筒的底部固定有光源,测距传感器固定在光源上;运动平台用于承载PCB并带动其沿z轴方向移动,测距传感器用于检测PCB相对于自身的距离。上位机与运动平台、对准相机和测距传感器连接,上位机根据测距传感器反馈的数据判定当前PCB的mark标记是否在对准镜筒的焦面内,不在则控制运动平台移动,直至对准相机重新聚焦到mark标记。解决了因板材曲翘或者机械结构形变导致的焦面不对的问题,满足PCB行业产能的要求。
  • 一种ldi聚焦系统
  • [发明专利]一种PCB收板机的高效推板结构-CN202310433789.9在审
  • 李显杰;高锐;吕银强 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2023-04-21 - 2023-06-30 - B65G13/07
  • 本发明公开了一种PCB收板机的高效推板结构,属于PCB板生产技术领域,用于解决现阶段PCB生产行业常用的输送辊道,只负责输送PCB板的流转,拍齐,然后通过吸盘组件吸取PCB板,当厚度比较薄的PCB板在输送辊道上吸取会出现褶皱,存在一定的风险的问题;包括推板机构、输送辊轮机构、拍板机构、侧挡板升降机构、顶升辊轮升降机构、托板、输送辊轮、顶升辊轮、上侧推杆、侧挡板、下侧推杆、输送辊轮马达、上侧推杆伺服电机、下侧推杆伺服电机、侧挡板顶升气缸、顶升辊轮顶升气缸、托板顶升气缸;在原输送机构内新增了推板机构,使得整个PCB板在吸取前是平放在托板上方,然后通过吸盘组件吸取PCB板,解决了传统吸取过程中出现褶皱问题。
  • 一种pcb板机高效板结
  • [发明专利]一种针对RTR柔性印刷电路板的双面曝光装置-CN202110441574.2有效
  • 肖燕青;王方江;陈海巍 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2021-04-23 - 2023-06-13 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种针对RTR柔性印刷电路板的双面曝光装置,属于曝光设备技术领域。该双面曝光装置中对准装置和曝光装置均设置于曝光台面上方,解决了目前针对RTR柔性印刷电路板的双面曝光存在的设备安装维护难的问题,该RTR柔性印刷电路板双面曝光装置通过巧妙设置支撑辊转换柔性印刷电路板的前进方向,使得曝光柔性印刷电路板的正反面在被曝光时,均处于吸附台面的上方,避免了现有的曝光装置曝光时柔性印刷电路板处于吸附台面的下方,完全依靠吸附力来应对柔性印刷电路板自身重力导致的无法保证基板的平面度的问题,提高了柔性印刷电路板双面曝光的合格率。
  • 一种针对rtr柔性印刷电路板双面曝光装置
  • [实用新型]一种光能量实时采集监测系统-CN202223425406.3有效
  • 王翀;吴长江 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2022-12-16 - 2023-06-13 - G01J1/00
  • 本实用新型公开了一种光能量实时采集监测系统,属于激光直写曝光设备技术领域。本实用新型提供的光能量实时采集监测系统,通过设置多路光能量采集与转换装置,不仅可以同时监测多个光源情况,且并联结构可以及时反馈所有光源的变化情况;本实用新型能够实现实时不间断采集光能量信号并反馈至PC端,极大提高整体工作效率,解决了现有光能量采集监测系统在多光源情况下光能量采集实时性低、占用曝光时间影响整体工作效率和产能的问题。
  • 一种能量实时采集监测系统
  • [实用新型]一种模块化LDI激光器-CN202223494676.X有效
  • 郑旭维;路建军;吴永超 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-06-13 - H01S5/024
  • 本实用新型公开了一种模块化LDI激光器,属于激光直写光刻设备领域。本实用新型提供的LDI激光器包括:冷却板、模块化耦合器、电路板、外壳和光纤,电路板和模块化耦合器直接与冷却板接触,热量通过冷却板内部水道带走,冷却效率提高;当要求激光器功率增大时,冷却板背面也可安装电路板和模块化耦合器,外壳尺寸不增加,空间利用率高;此外,当激光器内模块化耦合器故障需要维修和更换时,仅需更换这一个模块化耦合器,对其他模块化耦合器不造成影响。
  • 一种模块化ldi激光器
  • [发明专利]一种基于视觉系统的光路均匀性测量方法和系统-CN202211689922.9在审
  • 袁征;于鹏;茆晓华 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-04-11 - G01M11/02
  • 本发明公开了一种基于视觉系统的光路均匀性测量方法和系统,属于集成电路加工制造技术领域。该系统包括工业相机、显微镜头和反射镜;其中,显微镜头为远心镜头;通过将光路均匀性测量系统设置在光刻机的空间光调制器组件和投影物镜之间,使得光刻机光源发出的光所形成的光斑通过反射镜,进而进入显微镜头最终成像到工业相机的传感器面上,获得光斑的图像,计算该光斑图像的全局均匀性特征与局部均匀性特征,进而得到光斑图像的均匀性值,该方法所计算的均匀性值既可以从图像整体的角度来参与均匀性的分析,又通过局部特征的加入,使局部图像中蕴含的丰富数据信息得到利用,从而最终的计算结果更能全面的表达出图像的均匀性表现情况。
  • 一种基于视觉系统均匀测量方法
  • [发明专利]一种曝光方法及曝光设备-CN202211512565.9在审
  • 徐广峰;钱文欢;陈海巍;王方江;钱聪 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2022-11-28 - 2023-03-14 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种曝光方法及曝光设备,属于印制电路板生产领域。本发明的曝光方法将分图数据处理与对准流程并行处理,有效地缩短了曝光时间;本发明可以将处理好的图片数据缓存于上位机或曝光系统中,同时本发明曝光设备的吸盘具备X轴、Y轴、Z轴及旋转轴四个方向的自由度,可以通过旋转和平移来校正PCB板的放板偏差,从而取代了分图系统中根据基板标记点对准结果对图形进行的旋转和平移处理,该过程减少了分图系统中图形处理耗时,进一步提升了设备产能,同时避免了在图形处理后横线变为小角度斜线带来的台阶状偏差问题,保证了曝光图形的解析精度,提升曝光品质。
  • 一种曝光方法设备
  • [发明专利]用于激光直写曝光设备的光源同步控制系统及方法-CN202211495898.5在审
  • 何基奎;何先福;吴长江 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2022-11-24 - 2023-03-07 - G03F7/20
  • 本发明公开了用于激光直写曝光设备的光源同步控制系统及方法,属于激光直写曝光设备领域。本发明利用PEG信号处理板,产生两组存在固定时延的同步信号,分别用于控制光源和DMD部件,光源在PEG信号的控制下,产生了与图形相同步的脉冲激光,在曝光过程中精确地实现了光源与图形的同步;此外,采用了PEG信号处理板控制光源的打开和关闭,相比于现有的PC控制光源的方式,提升了对光源的控制效率和光源的响应速度,由原来的10‑20ms数量级变成百ns数量级;因此,本发明的用于激光直写曝光设备的光源同步控制系统及方法,可以有效地解决光源和图形不同步产生的拖影现象,提升了设备的解析能力,降低了报废率。
  • 用于激光曝光设备光源同步控制系统方法
  • [实用新型]一种新型激光直写曝光装置-CN202222732720.X有效
  • 何先福;吴长江 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2022-10-17 - 2023-02-21 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种新型激光直写曝光装置,属于曝光设备技术领域。本实用新型将平台控制和电控控制集成到一块控制处理板卡上,在该板卡实现对平台和电控的双重控制,相比于现有的控制结构,本实用新型不需要通过曝光软件实现平台和电控之间的协调,解决了两者调度时的通信延时和误码率的问题,提高了激光直写曝光设备平台与曝光设备之间的同步性能,提升了曝光的准确率;本实用新型的光源由DMD部件控制,且电控部分采用分布式控制方式,相比于传统的集中控制方式,本实用新型降低了布局和布线的复杂度,简化了控制结构。
  • 一种新型激光曝光装置
  • [发明专利]一种新型的对准曝光系统-CN202211148531.6在审
  • 徐广峰;徐彦文;陈海魏;王方江;钱聪 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2022-09-20 - 2023-01-03 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种新型的对准曝光系统,属于曝光设备技术领域。本发明将对准组件和曝光组件设置于同一横梁上,在进行光刻时,对准组件和曝光组件固定不动,且曝光组件的成像中心和对准组件的视野中心在同一水平直线上,使对准区域和曝光区域重合,减少了现有光刻机运动平台从对准区域运动到曝光区域时,因导轨直线度问题而导致误差大的问题,进一步提高了精度;本发明还可以通过光路设计将曝光组件的成像中心和对准组件的视野中心重合,因此可以在同一横梁上安装更多的对准组件和曝光组件,从而增加光斑数量,减少曝光的扫描次数,提高产能,可以有效地缩小设备的体积,提升空间利用率。
  • 一种新型对准曝光系统

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