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[发明专利]一种LDI聚焦系统-CN202311060717.0在审
发明人：李显杰;徐广峰;卞钦巍;陈海巍 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2023-08-21 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种LDI聚焦系统，涉及直写曝光技术领域，该方法包括上位机、运动平台以及设置在运动平台上的对准相机、对准镜筒、光源和测距传感器。其中，对准镜筒的顶部与对准相机相接，对准镜筒的底部固定有光源，测距传感器固定在光源上；运动平台用于承载PCB并带动其沿z轴方向移动，测距传感器用于检测PCB相对于自身的距离。上位机与运动平台、对准相机和测距传感器连接，上位机根据测距传感器反馈的数据判定当前PCB的mark标记是否在对准镜筒的焦面内，不在则控制运动平台移动，直至对准相机重新聚焦到mark标记。解决了因板材曲翘或者机械结构形变导致的焦面不对的问题，满足PCB行业产能的要求。
一种 ldi 聚焦系统

[发明专利]一种用于先进封装的微米级光刻机及应用-CN202310702772.9在审
发明人：李显杰;徐彦文;徐广峰;陈海巍;王方江 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于先进封装的微米级光刻机及应用，属于曝光技术领域。本发明提供一种用于先进封装的微米级光刻机，包括安装在大理石底座上的运动控制平台和龙门、安装在所述运动控制平台上的吸附装置、安装在所述龙门的精对准系统和粗对准系统以及光路系统。本发明设置有粗对准系统和精对准系统组合，虽然对准时间变长，但是能够达到较高的微米级对准精度；利用位移传感器进行实时聚焦对准，能够确保得到准确的焦面，为后续曝光提供良好的效果；能够同时对两个工位的晶圆进行曝光，有效提高了产能效率；利用压电螺钉调节DMD的平面度和倾斜度，进一步减小了手动调节的误差。
一种用于先进封装微米光刻应用

[发明专利]一种LDI曝光机及其定位精度自动校准方法-CN202310699307.4在审
发明人：何基奎;徐广峰;徐彦文;陈海巍;王方江 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种LDI曝光机及其定位精度自动校准方法，属于曝光设备技术领域。所述平台包括：底座、直线导轨、对准相机A、对准相机B、对准相机C、吸盘、X轴光栅尺、Y轴光栅尺、X轴标定尺、Y轴标定尺、成像光路、上位机、运动控制器；本发明使用多排对准相机拼接标定尺的方式，使标定尺可校准远超过自身量程的运动范围；本发明无需专业人员携带贵重仪器到现场执行校准，在对准标定中就能发现并校准定位精度，无需客户端停机就能实现校准，极大地缩减了设备成本和人力成本，提升了设备生产的效率，减少了停机损失，且依靠算法计算得到的补偿值更准确，提高了产品的生产质量，可广泛应用于LDI平台的校准。
一种 ldi 曝光及其定位精度自动校准方法

[发明专利]一种针对RTR柔性印刷电路板的双面曝光装置-CN202110441574.2有效
发明人：肖燕青;王方江;陈海巍 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2021-04-23 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种针对RTR柔性印刷电路板的双面曝光装置，属于曝光设备技术领域。该双面曝光装置中对准装置和曝光装置均设置于曝光台面上方，解决了目前针对RTR柔性印刷电路板的双面曝光存在的设备安装维护难的问题，该RTR柔性印刷电路板双面曝光装置通过巧妙设置支撑辊转换柔性印刷电路板的前进方向，使得曝光柔性印刷电路板的正反面在被曝光时，均处于吸附台面的上方，避免了现有的曝光装置曝光时柔性印刷电路板处于吸附台面的下方，完全依靠吸附力来应对柔性印刷电路板自身重力导致的无法保证基板的平面度的问题，提高了柔性印刷电路板双面曝光的合格率。
一种针对 rtr 柔性印刷电路板双面曝光装置

[实用新型]一种用于激光直写设备的四边压板装置-CN202223394285.0有效
发明人：王菁菁;王方江;陈海巍 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于激光直写设备的四边压板装置，属于PCB板生产技术领域。包括工作台、底部固定压板结构组件、顶部移动压板结构组件、左侧固定压板结构组件、右侧移动压板结构组件。本实用新型左侧边和底边均为固定组件，使得不同尺寸的PCB板定位均在左下角，而右侧边和顶边均为可移动组件，可以满足不同尺寸PCB板的定位使用，提高了精度；同时结构稳定且节约空间。
一种用于激光设备四边压板装置

[外观设计]晶圆级直写光刻机-CN202230808814.3有效
发明人：徐彦文;陈海巍;徐广峰;王方江 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2022-12-02 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：晶圆级直写光刻机。2.本外观设计产品的用途：适用于半导体晶圆的激光直写曝光。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
晶圆级直写光刻

[发明专利]一种曝光方法及曝光设备-CN202211512565.9在审
发明人：徐广峰;钱文欢;陈海巍;王方江;钱聪 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光方法及曝光设备，属于印制电路板生产领域。本发明的曝光方法将分图数据处理与对准流程并行处理，有效地缩短了曝光时间；本发明可以将处理好的图片数据缓存于上位机或曝光系统中，同时本发明曝光设备的吸盘具备X轴、Y轴、Z轴及旋转轴四个方向的自由度，可以通过旋转和平移来校正PCB板的放板偏差，从而取代了分图系统中根据基板标记点对准结果对图形进行的旋转和平移处理，该过程减少了分图系统中图形处理耗时，进一步提升了设备产能，同时避免了在图形处理后横线变为小角度斜线带来的台阶状偏差问题，保证了曝光图形的解析精度，提升曝光品质。
一种曝光方法设备

[实用新型]一种双面一体光刻装置-CN202221522801.0有效
发明人：曾振军;王方江;陈海巍 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2022-06-17 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双面一体光刻装置，属于曝光设备技术领域。本实用新型将待光刻的PCB板放置在透明的台面上，随着台面的移动依次通过对准系统、进行上表面光刻的前光学成像系统和进行下表面光刻的后光学成像系统，后光学成像系统的成像图形可以透过透明台面对PCB板的下表面进行光刻；通过可以上下移动的台面，在光刻之前把待光刻的PCB板面调整到光学成像系统的焦面上，有效地解决了因PCB板厚度不一致导致的上下表面对位精度差的问题；相比于现有的双面一次性同时光刻技术，本实用新型简化了光学成像系统的机械结构，缩短了生产周期时间，有效地提升了生产效率。
一种双面一体光刻装置

[外观设计]激光直写曝光设备-CN202230402001.4有效
发明人：徐彦文;陈海巍;王方江 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2022-06-28 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：激光直写曝光设备。2.本外观设计产品的用途：适用于PCB印刷电路板的激光直写曝光。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
激光曝光设备

[实用新型]一种双工位分区吸附系统及光刻机-CN202221625817.4有效
发明人：徐彦文;徐广峰;陈海巍;王方江 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双工位分区吸附系统及光刻机，属于曝光设备技术领域。本实用新型的一种双工位分区吸附系统，包括两个晶圆吸附区域，并且每个吸附区域可对不同尺寸的晶圆进行吸附，即该吸附系统可以同时放置两片同规格的晶圆，也可以放置两片不同规格的晶圆，在生产不同规格的晶圆时，无需更换吸附系统或者光刻机，既节约了时间和成本，又能够提升产能和保障设备的稳定性。本实用新型提供的一种光刻机，采用激光直接成像技术，通过将矢量图形转换成特定格式位图后通过空间光调制器投射到待曝光工件上，相较于传统光刻技术，无需制作掩膜或菲林片，不仅降低了成本，且工序简单，可适用于更精细的图形曝光。
一种双工分区吸附系统光刻

[发明专利]一种基于两次重叠曝光提高线宽一致性的方法-CN202010419928.9有效
发明人：肖燕青;吴长江;陈海巍 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于两次重叠曝光提高线宽一致性的方法，属于激光直写曝光技术领域。所述方法通过对图形进行两次不同位置的曝光，两次曝光过程分别对应第一图形和第二图形，第一图形为原始图形对应的数字化图形经过四舍五入的网格化处理后得到的图形，第二图形为原始图形对应的数字化图形根据图形变换参数平移后再经过四舍五入的网格化处理后得到的图形；结合适当的工艺条件，经行两次曝光叠加，本申请提出的方法能够将线宽差距从一个网格减到半个网格，在不改变任何硬件的条件下，减少线宽差异，提高线宽一致性。
一种基于两次重叠曝光提高一致性方法

[发明专利]激光直写设备中多路光路校准系统及方法-CN202010573071.6有效
发明人：肖燕青;茆晓华;陈海巍 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了激光直写设备中多路光路校准系统及方法，属于曝光技术领域。所述方法通过成像转换组件对各光路所投的图像进行转换，像经过成像转换组件透镜组后变成平行光通过校准光路的各光学元件(全反镜+透反镜)，最终经CCD物镜将平行入射的光线成像到CCD靶面相机上。通过成像转换组件将光路用于校准的图形成像到无穷远，从而解决了CCD靶面相机与各光路距离不一样的问题，因为不需要移动载物平台，所以避免了现有多光路校准的方法存在的耗时长且校准精度依赖于可移动平台的精度的问题。
激光设备中多路光路校准系统方法

[实用新型]一种用于LDI设备自动清洁的吸尘装置-CN202123212917.2有效
发明人：肖燕青;徐彦文;王翰文;陈海巍;王方江 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2021-12-20 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B08B5/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于LDI设备自动清洁的吸尘装置，属于电路板生产技术领域。所述吸尘装置包括：吸尘组件(2)、过滤单元(3)、控制单元(4)及鼓风机(6)；吸尘组件(2)设置在LDI设备的立柱上，过滤单元(3)设置在LDI设备的平台(5)的一侧，吸尘组件(2)和过滤单元(3)之间由气管连接；吸尘组件(2)包括吸嘴(21)和吸尘盒(22)，吸嘴(21)嵌入安装于吸尘盒(22)中；控制单元(4)设置在所述平台(5)上，过滤单元(3)与控制单元(4)之间由气管连接；并且，控制单元(4)通过气管连接至鼓风机(6)；控制单元(4)用于控制过滤单元(3)和鼓风机(6)之间的管路的通断。
一种用于 ldi 设备自动清洁吸尘装置

[发明专利]一种PCB板全自动传送定位系统及方法-CN201911008839.9有效
发明人：肖燕青;刘世林;曾振军;陈海巍;吴永超 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2019-10-21 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种PCB板全自动传送定位系统及方法，属于自动化设备技术领域。所述系统通过在PCB板输送方向上设置入料传感器和到位传感器完成PCB板在横向方向上的传送和精确定位，通过在与PCB板输送方向垂直的方向上设置里侧纵向整板前定位传感器和里侧纵向整板后定位传感器，以及外侧纵向整板前定位传感器和外侧纵向整板后定位传感器，完成PCB板在纵向方向上的传送和精确定位，使得PCB板被准确传送至预定位置，且定位精度可达±0.5mm，缩短了PCB板曝光前传送至预定位置的时间，提高了PCB板曝光生产的效率，同时由于其定位精度可达±0.5mm，使得曝光产品合格率也得到了提高。
一种 pcb 全自动传送定位系统方法

[实用新型]一种压板装置-CN202122370261.0有效
发明人：肖燕青;曾振军;陈海巍;王方江;王翰文 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种压板装置，属于电路板生产技术领域。本实用新型所述的压板装置包括工作台、固定压板结构组件、活动压板结构组件；固定压板结构组件设置在工作台的前端并且其位置相对于工作台固定；活动压板结构组件设置在工作台的后端并且平行于固定压板结构组件，活动压板结构组件通过安装在工作台上的导轨组与工作台相连，并且能够根据PCB板件尺寸规格自动沿工作台前后移动。本实用新型的压板装置，通过在光刻机的工作台上增加板件下压结构，解决PCB板在光刻过程中板件边缘及四个角翘起、凸起等现象，重点解决针对不同尺寸的PCB板件光刻时，PCB板件被下压后，压板结构可能会遮挡或干扰PCB板件上的标记点位的问题。
一种压板装置

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