“沉积”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网_专利查询网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果152744个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]沉积装置、沉积方法、以及沉积系统-CN202310116900.1在审
发明人：蔡家宏;李锦思;吴思桦;何瑞鸿;廖启宏;简钰人 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C23C14/14 文献下载
摘要：一种沉积装置，包括一磁屏蔽。磁屏蔽减少腔室中的外部噪声，腔室包括标靶以及至少一电磁铁用于铜物理气相沉积。此外，即使在物理气相沉积期间发生硬件故障(例如，电磁铁失灵、晶圆台不水平、以及/或一流量优化器引起过多偏移等)，铜原子不易受来自外部噪声的小重定向的影响。
沉积装置方法以及系统

[发明专利]薄膜沉积源、沉积装置和使用该沉积装置的沉积方法-CN201310516033.7有效
发明人：李钟禹 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-10-28 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：公开了一种薄膜沉积源、一种沉积装置和一种使用该沉积装置的沉积方法。所述沉积装置包括沉积源，该沉积源包括将沉积物质喷射在基板的表面上并被布置为沿第一方向的多个喷嘴；和至少一个快门，该至少一个快门通过打开或遮蔽所述沉积物质的喷射通道的至少一部分来控制所述沉积物质的喷射区域
薄膜沉积装置使用方法

[发明专利]沉积方法、沉积缺陷侦测方法及沉积系统-CN202110854811.8在审
发明人：郑文豪;陈彦羽;戴逸明 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：提供一种沉积方法、沉积缺陷侦测方法及沉积系统，沉积系统能够测量在沉积系统中的至少一种薄膜特性(例如：厚度、电阻和组成)。依照本揭露的沉积系统包含基材处理腔室。依照本揭露的沉积系统包含在基材处理腔室中的基材底座，基材底座是配置以支承基材；和封闭基材处理腔室的靶材。提供包含有原位(in situ)量测装置的遮盘。
沉积方法缺陷侦测系统

[发明专利]沉积炉管内管、沉积炉管以及沉积方法-CN201911294112.1有效
发明人：刘秀娟;邓伟东 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了一种沉积炉管内管，内管管壁内具有至少一个气体流通区，气体流通区对应的管壁包括内壁和外壁；内壁不同相对高度上设置有若干层排气孔，使得气体流通区中的气体能通过排气孔进入沉积区中；一个高度层中的排气孔的总流通面积随其相对高度的升高而增大本发明还提供了一种包括上述内管的沉积炉管和使用这种炉管进行沉积的沉积方法。本发明提供的沉积炉管内管、沉积炉管和沉积方法能够改善晶圆上沉积膜厚度的均匀性。
沉积炉管以及方法

[发明专利]沉积源和包括沉积源的沉积设备-CN200510121705.X无效
发明人：金度根;安宰弘;宋官燮;许明洙;郑锡宪 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2005-12-01 - 公布日： 2006-08-16 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种具有稳定沉积速度和高重现性的沉积源，以及一种包括沉积源的沉积设备，其中该沉积源包括：具有线形开孔部分的加热室；和包括多个孔并与加热室线形开孔部分相连的盖。
沉积包括设备

[发明专利]沉积设备及其沉积方法-CN201811293698.5在审
发明人：黄建;鲁旭斋;张锋;吴孝哲;吴龙江;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：一种沉积设备及其沉积方法，所述沉积设备包括：沉积腔室；晶圆基座，位于所述沉积腔室内，用于放置晶圆；紫外光光源，位于所述沉积腔室内，且所述紫外光光源适于提供射向所述晶圆基座的紫外光；反应物输入管路，适于将反应物引入至所述沉积腔室，以在所述晶圆上反应形成沉积层。
沉积设备紫外光光源沉积腔室晶圆基座沉积腔反应物晶圆沉积室内紫外光输入管路沉积层引入

[发明专利]沉积装置及沉积方法-CN201710116613.5在审
发明人：林钟熙;金圭范;金兑龙;朴宰奭;朴镇翰 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-02-28 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及沉积装置和沉积方法。根据本发明一实施方式的沉积装置包括对衬底执行沉积工艺的沉积单元、包括固定所述衬底的载体以及传送所述载体的传送部件的传送单元、以及布置成与所述沉积单元相邻并且对所述载体执行维修的维护单元，并且所述传送部件包括维护传送部件，该维护传送部件布置于所述沉积单元与所述维护单元之间以将所述载体从所述沉积单元传送至所述维护单元。
沉积装置方法

[发明专利]沉积设备与沉积方法-CN201610576824.2在审
发明人：黄吉川;杨镇远;林子翔 -专利权人：黄吉川
申请日： 2016-07-21 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： B22F3/105 文献下载
摘要：一种沉积设备与沉积方法。此沉积设备包含承装件、多个激光器以及承载体。承装件配置以装载材料。激光器设于承载件的周围，且配置以同时对此材料发射多个激光光束来将此材料熔化成沉积液。承载体设于承装件与激光器的下方，且配置以承接沉积液。由于可利用多个激光器来同时对承载件所供应的材料发射多道激光光束，因此无需使用高功率激光器即可顺利将沉积材料熔化成沉积液，故可大幅降低激光器的成本，进而可减少直接沉积制程的成本。此外，可以金属焊条取代金属颗粒或粉末，因此可解决金属颗粒或粉末飞溅的问题，而可提高沉积材料的利用率，降低沉积材料的浪费，并可提升沉积的一致性与精确性与沉积层表面的光洁度。
沉积设备方法

[发明专利]沉积设备和沉积方法-CN202010472906.9在审
发明人：坪井隆志;川角保志 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及沉积设备和沉积方法。沉积设备包括：基板保持器，用于保持基板；输送机构，用于输送呈水平姿态的基板以将基板插入基板保持器中以及从基板保持器移除基板；旋转机构，用于改变基板的姿态；室，用于容纳旋转后的基板保持器以便将基板设置成竖直姿态并且实施沉积处理；和控制单元，配置成执行第一控制以使得在沉积处理之前将基板插入基板保持器中时使输送机构在第一位置处让基板保持器将基板保持；以及执行第二控制，以使得在沉积处理之后从基板保持器移除基板时使输送机构在比第一位置更靠后的第二位置处从基板保持器接收基板
沉积设备方法

[发明专利]沉积设备和沉积方法-CN201910067427.6在审
发明人：高东均;金友镇;许明洙;金仁敎;朴瑾禧 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-01-24 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： C23C16/505 文献下载
摘要：沉积设备包括腔；承受器，其在腔中支撑基板；上电极，其面向承受器；淋喷头，其在上电极和承受器之间限定气体入口空间；金属源储存器，其储存供应至腔中的金属源；汽化器，其使金属源汽化；第一气体源，其供应第一气体本申请还提供了一种沉积方法。
金属源承受器电极气体源汽化器沉积设备沉积汽化第二气体源反应空间气体供应气体入口储存器淋喷头清洁腔中支撑移动基板储存申请

[发明专利]沉积设备及沉积系统-CN201811315456.1在审
发明人：王建卫;沈一春;张贤根;王占举;施敏丰 -专利权人：中天科技精密材料有限公司;江苏中天科技股份有限公司
申请日： 2018-11-06 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： C03B37/012 文献下载
摘要：本发明提供一种沉积设备，所述沉积设备包括箱体、设置在所述箱体侧面的升降门及设置在所述箱体底部的热处理设备，所述热处理设备用于热加工光纤预制棒，所述箱体上设有第一冷却管，所述升降门上设有第二冷却管，所述第一冷却管与第二冷却管均用于流通冷却液本发明提供的的沉积设备结构简单，通过在箱体和升降门上设置冷却管，通入冷却液进行冷却降温，箱体内的元器件不易损坏，故障率低，升降门在高温下不易变形，避免出现老化现象，保证密封效果。
沉积设备系统

[发明专利]沉积源及沉积装置-CN202080005997.3在审
发明人：宜保学;江平大;坂本纯一 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明的沉积源在真空中被电子束加热，使沉积材料蒸发或升华，在移动的基板的表面上通过共沉积形成包含锂的化合物膜，所述沉积源包括：具备冷却部的炉缸内衬；以及收纳在所述炉缸内衬中且内部被放入所述沉积材料的多个内衬
沉积装置

[发明专利]沉积方法和沉积板-CN202080053187.5在审
发明人： J·埃斯特巴内斯维拉科塔;C·库里亚;B·Z·鲍里索夫 -专利权人：雀巢产品有限公司
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： A23G3/02 文献下载
摘要：本发明包括将一个或多个内含物沉积到模腔中，并通过包括多个喷嘴的沉积板将食物产品沉积到所述模腔中。
沉积方法

[发明专利]沉积系统及沉积方法-CN202210032415.1在审
发明人：郑文豪;朱玄之;陈彦羽 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-01-12 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种沉积系统及沉积方法，沉积系统能够控制沉积在基材上的靶材材料的量和/或沉积在基材上的靶材材料的方向。根据本揭露的沉积系统包含基材处理腔。沉积系统包含位于基材处理腔室中的基材基座，基材基座配置以支撑基材。靶材围住基材处理腔室。准直器具有多个中空结构设置在靶材与基材之间，其中中空结构的至少一者的长度是可调整的。
沉积系统方法

[发明专利]沉积装置和沉积方法-CN202211608227.5在审
发明人：成始珍;朴一秀 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-12-14 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供了根据实施例的沉积装置，所述沉积装置包括：第一沉积源、第二沉积源和第三沉积源，在第一方向上顺序地布置；第一角度限制板，设置在第一沉积源外侧；第二角度限制板，设置在第一沉积源与第二沉积源之间；第三角度限制板，设置在第二沉积源与第三沉积源之间；以及第四角度限制板，设置在第三沉积源外侧。第一沉积源的沉积材料和第三沉积源的沉积材料包括相同的掺杂剂材料。第二沉积源的沉积材料包括主体材料。
沉积装置方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top