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[发明专利]薄膜沉积设备和制造有机发光显示装置的方法-CN201010248429.4有效
发明人：吴枝淑;崔镕燮;金钟宪;康熙哲;李润美;曹昌睦 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2010-08-05 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜沉积设备和利用该薄膜沉积设备制造有机发光显示装置的方法。薄膜沉积设备包括多个薄膜沉积组件，每个薄膜沉积组件包括：沉积源，排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的一侧，并包括多个沉积源喷嘴；图案化缝隙片，设置为面对沉积源喷嘴单元，并包括沿第一方向布置的多个图案化缝隙；障碍板组件，设置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间。障碍板组件包括将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分为多个子沉积空间的多个障碍板。
薄膜沉积设备制造有机发光显示装置方法

[发明专利]形成膜层的方法-CN97117185.8无效
发明人：本田和义;小田桐优;高桥喜代司;越后纪康;砂流伸树 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 1997-05-21 - 公布日： 2004-09-15 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：一种形成膜层的方法，包括下列步骤：蒸发液态的沉积材料；该蒸发后的沉积材料加到一可旋转的加热表面上从而使该蒸发后的沉积材料沉积到该加热表面上；加热和蒸发位于，旋转的加热表面上的该已沉积的沉积材料，同时将该已沉积的沉积材料移动；以及将在旋转的加热表面上被蒸发的沉积材料沉积在沉积表面上，将该沉积材料加到加热表面上的使在蒸发步骤中蒸发的沉积材料不能线性地到达沉积表面的位置处。
形成方法

[发明专利]用于沉积薄膜的设备和方法-CN201310011551.3有效
发明人：郑石源;李勇锡;洪祥赫 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-01-11 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种薄膜沉积设备和一种薄膜沉积方法。薄膜沉积设备包括基底支撑单元，支撑基底；沉积源，使沉积材料蒸发以将沉积材料的蒸汽供应到基底；沉积源移动单元，使沉积源运动，从而沉积源相对于基底支撑单元相对地移动。
用于沉积薄膜设备方法

[实用新型]一种OVD沉积系统-CN201821782737.3有效
发明人：汪涛 -专利权人：藤仓烽火光电材料科技有限公司
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： C03B37/018 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种OVD沉积系统，该装置包括沉积罩、芯棒、排气系统和至少一沉积喷灯组，所述沉积罩包括左右间隔设置的第一沉积罩和第二沉积罩，所述第一沉积罩与第二沉积罩形成沉积通道，所述芯棒设于所述沉积通道中并可绕自身轴向旋转，每一所述沉积喷灯组包括对称设于所述芯棒两侧的喷灯，每一所述沉积均用于向处于旋转中的所述芯棒喷射沉积料，所述排气系统包括与沉积通道的下端连通的排气通道，用于将沉积过程中产生的废气和废料排出。本实用新型的目的在于提供的OVD沉积系统，通过将传统沉积装置的上下结构转变为左右结构，解决了沉积过程中从沉积罩上剥落的碎片落到预制棒上的问题，实用性强。
沉积芯棒沉积系统喷灯本实用新型排气系统沉积装置间隔设置排气通道喷射沉积上下结构轴向旋转左右结构预制棒剥落排出下端废气连通对称

[发明专利]有机层沉积组件和设备、有机发光显示设备及其制造方法-CN201310200264.7在审
发明人：李明基;李星奉;郑栋燮;金茂显 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-05-27 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：有机层沉积组件、有机层沉积设备、有机发光显示设备和制造有机发光显示设备的方法，为了改进沉积层的特性，该有机层沉积组件包括用于排放沉积材料的沉积源、位于沉积源的一侧并包括多个沉积源喷嘴的沉积源喷嘴单元、和构图狭缝片，该构图狭缝片面对沉积源喷嘴单元并且包括多个构图狭缝和位于多个构图狭缝的边缘部分处的一个或多个对准确认图案狭缝，其中，在进行沉积过程的同时，从沉积源排放的沉积材料经过构图狭缝片然后形成在衬底上。
有机沉积组件设备发光显示及其制造方法

[发明专利]沉积环退火处理方法-CN200610029905.7有效
发明人：陈顺发;张强 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2006-08-10 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： C23C14/58 文献下载
摘要：一种沉积环退火处理方法，包括：确定沉积反应室温度；将沉积环由常温升温至退火温度，所述退火温度高于沉积反应室温度；维持退火温度；将沉积环由退火温度降至常温。应用本发明方法，可在沉积过程发生前去除在沉积温度下易挥发的沉积环内陶瓷材料部分组分，减少沉积时沉积环内陶瓷材料的挥发，保证沉积过程中真空室内的真空度，有效控制沉积缺陷的产生；进而减少沉积废品的产生，提高了生产良率
沉积退火处理方法

[发明专利]用于沉积系统的多材料沉积头-CN201710602350.9有效
发明人：金国庆;胡兵兵;陈涛;杨湛;孙立宁 -专利权人：苏州大学
申请日： 2017-07-21 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： B29C64/112 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于沉积系统的多材料沉积头，所述多材料沉积头包括若干喷嘴、与喷嘴相连的材料沉积管道、以及与材料沉积管道相连的材料进给管道，所述材料沉积管道包括位于材料沉积管道顶部的顶盖组件、位于材料沉积管道中间位置的压板组件、以及位于材料沉积管道下方的沉积控制组件，材料沉积管道由顶盖组件、压板组件、及沉积控制组件分为密封压力室和材料存储室。本发明可以快速、稳定的实现外部材料的进给，且能够实现材料的精确控制和沉积。
用于沉积系统材料

[发明专利]用于沉积钝化膜的设备和用于沉积钝化膜的方法-CN201710032931.3在审
发明人：李宰承;尹哲;韩宰贤 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-01-17 - 公布日： 2017-08-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于沉积钝化膜的设备和一种用于沉积钝化膜的方法，其在单个腔室中沉积层压有多个材料层的钝化膜。所述用于沉积钝化膜的设备，包含衬底支撑件，衬底通过衬底支撑件支撑；线性沉积模块部件，其包括与第一轴方向平行安置的线性沉积源，且线性沉积模块部件横越衬底并且在其上沉积钝化膜；气体供应部件，其向线性沉积模块部件选择性并且交替地供应第一沉积气体和第二沉积气体；驱动部件，其在与第一轴方向交叉的第二轴方向移动衬底支撑件或线性沉积模块部件，其中可通过层压由第一沉积气体沉积的第一材料层和由第二沉积气体沉积的第二材料层形成钝化膜。
用于沉积钝化设备方法

[发明专利]太阳能电池低表面磷源浓度扩散方法-CN201711084940.3在审
发明人：王森栋;白翔;梁玲 -专利权人：山西潞安太阳能科技有限责任公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： H01L21/223 文献下载
摘要：太阳能电池低表面磷源浓度扩散方法，第一步沉积沉积过程，沉积过程采用恒温沉积；第二步沉积沉积过程，沉积过程采用升温沉积；第三步沉积沉积过程，沉积过程采用升温沉积。本发明采用三步沉积，并且在沉积过程中同时减少氧气增加磷源的通量，在沉积的同时进行氧化，在硅片表面形成氧化层使磷源在硅片表面充分堆积，在降低表面掺杂浓度的同时保证方阻的偏差范围满足需求。这样在推进时氧化层可有效的减少表面死层，并且在沉积过程，使磷源通量递增，改善方阻均匀性。
太阳能电池表面浓度扩散方法

[发明专利]一种激光沉积设备及激光沉积方法-CN202111543380.X在审
发明人：郭明海;李广生;薛凯文;刘斌 -专利权人：鑫精合激光科技发展（北京）有限公司
申请日： 2021-12-16 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B22F10/25 文献下载
摘要：本发明公开一种激光沉积设备及激光沉积方法，涉及表层增材制造技术领域，以解决现有的激光沉积装置及方法无法实现管状结构内表面沉积增材的问题。所述激光沉积设备包括：基座、设置在基座上的支撑控制组件及激光沉积组件；管状结构安装在支撑控制组件上，激光沉积组件的激光沉积头伸入管状结构中，支撑控制组件用于控制管状结构以预设旋转速度转动，并控制激光沉积组件沿基座以预设滑动速度滑动，以改变激光沉积头伸入管状结构中的位置，从而在管状结构的内壁形成沉积层。所述激光沉积方法应用于上述激光沉积设备中。本发明提供的激光沉积设备及激光沉积方法用于实现管状结构内表面激光沉积。
一种激光沉积设备方法

[发明专利]有机层沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法-CN201610685453.1有效
发明人：金旻首;金武谦;瓦列里·普罗什金斯基;金茂显;李东规;李丙国;河在秀 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2016-08-18 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： H01L51/00 文献下载
摘要：公开了有机发光显示装置、用于沉积有机发光显示装置的有机层的设备，以及通过使用该设备制造有机发光显示装置的方法。用于沉积有机层的设备包括沉积部，沉积部包括与衬底间隔开的沉积组件。沉积组件包括配置为加热沉积材料的沉积源、安装在沉积源上的沉积源喷嘴单元、面对沉积源喷嘴单元的多个图案板以及布置在沉积源与多个图案板之间的源遮板。沉积源喷嘴单元包括沉积喷嘴。源遮板配置为根据沉积源与衬底的相对位置允许沉积材料穿过多个图案板中的一个。
有机沉积设备发光显示装置及其制造方法

[发明专利]一种沉积相非优势相编图方法-CN201810729422.0有效
发明人：宋来明;胡光义;范廷恩;梁旭;刘向南;许磊;张雨晴 -专利权人：中海石油（中国）有限公司;中海石油（中国）有限公司北京研究中心
申请日： 2018-07-05 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种沉积相非优势相编图方法，包括以下步骤：1)对待编图地层内的主力微相和非主力微相进行识别，得到待编图地层单元的优势沉积相和非优势沉积相；2)对得到的优势沉积相和非优势沉积相进行亚段划分，令每一亚段代表一种或一期沉积微相；3)对单井各亚段的优势沉积相及非优势沉积相类型进行判别，得到各优势沉积相和非优势沉积相的类型；4)确定优势沉积相和非优势沉积相的组合原则，对优势沉积相和非优势沉积相进行沉积相空间组合；5)根据得到的各优势沉积相和非优势沉积相的类型以及确定的优势沉积相和非优势沉积相的组合原则编制剖面相图，得到考虑非优势相的沉积相编图结果。本发明可以广泛应用于沉积相编图领域中。
一种沉积相优势相编图方法

[发明专利]隔离结构的形成方法-CN201410025112.2有效
发明人：郭世璧;张庆勇;周儒领;周侃;董洁琼 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2014-01-20 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：一种隔离结构的形成方法，包括提供半导体衬底；在所述半导体衬底内形成沟槽；采用第一沉积工艺向所述沟槽内沉积绝缘材料，所述第一沉积工艺为从第一沉积速率开始随着沉积时间的增加不断增加沉积速率至第二沉积速率；采用第二沉积工艺继续向所述沟槽内沉积绝缘材料至填充满所述沟槽，所述第二沉积工艺为从第三沉积速率开始随着沉积时间的增加不断增加沉积速率至第四沉积速率。
隔离结构形成方法

[发明专利]金属带、双极板以及相关的制造方法-CN201580078061.2有效
发明人：宝琳·吉拉尔东;塞巴斯蒂安·塔浩恩;简-米歇尔·达马瑟;玛丽-海伦·伯杰;休斯·科尔尼;奥利维尔·赫诺特;阿兰·彼马德 -专利权人：艾普伦
申请日： 2015-03-20 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于制造金属带或薄片的方法，该方法包括：‑提供由不锈钢制成的基体(3)；以及‑在沉积设备(14)中通过物理气相沉积(PVD)将氮化铬层沉积在基体(3)上，该沉积设备包括沉积室(20)以及被布置在沉积室沉积室(20)包括：沉积区域(30)，该沉积区域的长度严格小于沉积室(20)的长度；以及至少包括第一禁止区域(32)。在沉积期间，氮化铬仅在沉积区域(30)中被沉积在基体(3)上，并且在第一禁止区域(32)中没有氮化铬被沉积在基体(3)上。
金属极板以及相关制造方法

[发明专利]气相沉积炉及生产氧化亚硅的方法-CN201711418958.2在审
发明人：朱文博;银波;范协诚;王文;夏高强;薛明华 -专利权人：新特能源股份有限公司
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： C01B33/113 文献下载
摘要：本发明公开了一种气相沉积炉及生产氧化亚硅的方法，包括炉体，其特征在于，还包括炉体内设置的：加热腔室，用于加热原料反应生成产物并使得产物变成气体；沉积腔室，与加热腔室密封连接，且与加热腔室连通，沉积腔室内设置有用于沉积产物的沉积机构，沉积机构包括可转动的滚筒，升华的产物沉积到滚筒外表面，沉积腔室开设有沉积腔室开口，通过沉积腔室开口调节沉积腔室内的气氛；刮取机构，用于刮取滚筒外表面的沉积产物；接收机构，用于接收刮取机构刮取下来的沉积产物本发明的滚筒可转动，从而使得沉积机构上沉积的产物均匀分布，相对于现有技术中的平面的沉积机构，本发明中的滚筒的侧面积大，从而大大增加了单位体积的滚筒上的沉积面积。
沉积滚筒沉积腔室刮取沉积产物加热腔室氧化亚硅沉积腔可转动反应生成产物室内滚筒外表面气相沉积炉加热原料接收机构开口调节密封连接沉积炉平面的炉体连通开口体内升华生产