专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果36个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]沉积装置、沉积方法、以及沉积系统-CN202310116900.1在审
  • 蔡家宏;李锦思;吴思桦;何瑞鸿;廖启宏;简钰人 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2023-02-15 - 2023-06-20 - C23C14/14
  • 一种沉积装置,包括一磁屏蔽。磁屏蔽减少腔室中的外部噪声,腔室包括标靶以及至少一电磁铁用于铜物理气相沉积。屏蔽可具有厚度,在大约0.1毫米至大约10毫米的范围内,以提供足够的保护免受射频以及其他电磁信号的影响。因此,腔室中的铜原子遭受较少来自外部噪声的重定向。此外,即使在物理气相沉积期间发生硬件故障(例如,电磁铁失灵、晶圆台不水平、以及/或一流量优化器引起过多偏移等),铜原子不易受来自外部噪声的小重定向的影响。因此,后段工艺以及/或中段工艺的导电结构以更一致的方式形成,这增加导电性并且改善包括后段工艺以及/或中段工艺的导电结构的电子装置的寿命。
  • 沉积装置方法以及系统
  • [发明专利]电浆液产生装置及电浆产生模块-CN202110626762.2在审
  • 卢仁杰;廖启宏 - 拜普生医股份有限公司
  • 2021-06-04 - 2022-12-06 - H01J37/32
  • 本发明公开一种电浆液产生装置及电浆产生模块。电浆产生模块具有一驱动单元及电性耦接驱动单元的一电浆导出单元。电浆导出单元具有一磁环及一导针。磁环电性耦接驱动单元。磁环具有均匀的一磁场。导针设置磁环内并电性耦接驱动单元。导针与磁环的内缘间隔配置,并且导针至磁环的内缘的任一处具有相同距离,使导针与磁环能被驱动单元驱动而共同产生环形电浆。据此,电浆产生模块能大幅提升电解气体时所产生的电浆粒子数量。
  • 浆液产生装置模块
  • [发明专利]温度控制装置及用于形成光刻胶层的方法-CN201810224649.X有效
  • 廖启宏;郑威昌 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2018-03-19 - 2022-11-15 - H01L21/67
  • 一种温度控制装置包括台板、流体源、冷却器、第一管道及第二管道。所述流体源供应流体。所述冷却器耦合到所述流体源,以将所述流体源中的所述流体冷却到冷却温度。所述第一管道包括与所述流体源流体连通的第一入口、第一出口及将所述流体从所述冷却温度加热到第一加热温度的第一加热器。经过所述第一加热器加热的所述流体通过所述第一出口分配到所述台板上。所述第二管道包括与所述流体源流体连通的第二入口、第二出口及将所述流体从所述冷却温度加热到第二加热温度的第二加热器,所述第二加热温度不同于所述第一加热温度。经过所述第二加热器加热的所述流体通过所述第二出口分配到所述台板上。
  • 温度控制装置用于形成光刻方法
  • [发明专利]基板传送系统及方法-CN201710995150.4有效
  • 郑威昌;廖启宏 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2017-10-23 - 2021-12-07 - B65G15/00
  • 本公开提供一种基板传送系统,包括皮带、滚轮、基板传送组件、位置感测器、及驱动机构。滚轮配置用以带动皮带滚动。基板传送组件连接皮带并用以传送基板。位置感测器配置用以检测皮带在滚轮的轮轴方向上的位置。驱动机构配置用以驱动滚轮沿着轮轴方向移动,使得皮带保持在轮轴方向上的一既定位置范围内。本公开提供的基板传送系统可以延长皮带的使用寿命及降低皮带突然断裂的机会(亦即,提高基板传送系统的信赖度及可利用性),降低基板的报废率,并提高各制程的良率。
  • 传送系统方法
  • [发明专利]用于半导体制造的方法以及晶圆台-CN201711292921.X有效
  • 廖启宏;吴旻政 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2017-12-08 - 2020-12-29 - H01L21/687
  • 本申请的实施例提供了一种用于半导体制造的方法,包括将晶圆安装在第一晶圆台上。第一晶圆台包括支撑晶圆的第一组销,第一组销具有在相邻的销之间的第一间距。该方法还包括在晶圆上形成第一组覆盖标记;以及将晶圆转移到第二晶圆台上。第二晶圆台包括在相邻的销之间具有第二间距的第二组销。第二组销是可单独垂直移动的,并且第二间距小于第一间距。该方法还包括移动第二组销的一部分,使得第二组销的剩余部分支撑晶圆,并且剩余部分在相邻的销之间具有第一间距。本申请的实施例还提供了另一种用于半导体制造的方法以及一种晶圆台。
  • 用于半导体制造方法以及圆台
  • [实用新型]红外线摄像结构及其快门模块-CN202020332753.3有效
  • 廖启宏 - 菱光科技股份有限公司
  • 2020-03-17 - 2020-09-29 - G03B9/08
  • 本实用新型公开了一种红外线摄像结构及其快门模块,此红外线摄像结构包括一主机及一快门模块,主机包含一底座及安装于底座的一红外线传感器;快门模块包含一镜头固定盖及一快门组件,镜头固定盖与底座相互组接且罩盖红外线传感器,镜头固定盖内部设有一容室、具有配置在容室两侧的一外侧板与一内侧板及设有贯穿外侧板与内侧板且对应红外线传感器配置的一透空口,外侧板延伸有环设在透空口外周围的一镜头接筒;快门组件安装于镜头固定盖,快门组件包含可摆动式容置于容室且能够开启或关闭透空口的一或数个挡光片。
  • 红外线摄像结构及其快门模块
  • [发明专利]半导体装置的形成方法-CN201910921677.1在审
  • 吴荣堂;连绍慈;廖启宏;吴思桦;欧阳良岳;李锦思 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2019-09-27 - 2020-04-03 - H01L21/768
  • 提供内连线结构及其形成方法。形成介电层及其中的开口于基底之上。形成导电晶种层于介电层的顶面之上、以及沿着开口的底端和侧壁。形成导电填充层于晶种层之上。可透过表面预处理还原/移除晶种层表面上的金属氧化物。在清洁表面未暴露于氧的情况下,透过沉积填充材料于晶种层之上覆盖清洁表面。表面处理可包含使用氢自由基的反应性远程等离子体清洁。如果使用电镀沉积填充层,则表面处理可包含在开启电镀电流之前将基底浸至于电解质中。其他表面处理可包含使用氢自由基的主动预处理;或使用MCxT设备的Ar溅射。
  • 半导体装置形成方法
  • [发明专利]提供光刻系统射线的设备-CN201910773199.4在审
  • 廖启宏;杨岳霖 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2019-08-21 - 2020-03-06 - G03F7/20
  • 本公开涉及一种提供光刻系统射线的设备。本文描述的实施例提供了一种光刻系统,具有两个或两个以上的光刻机台,连接到使用两个或两个以上的可变衰减单元的射线源。在一些实施例中,可变衰减单元将接收光束的一部分反射到附接到其上的光刻机台,并将接收光束的剩余部分传输到下游的光刻机台。在一些实施例中,射线源包括两个或两个以上的激光源,以提供具有增强的功率水平的激光束,并且可以防止由于激光源维护以及修理的操作中断。
  • 提供光刻系统射线设备

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top