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[发明专利]一种掩模版上残胶的去除方法-CN201510094999.5在审
发明人：马志平;成立炯;平志纲 -专利权人：上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2015-03-03 - 公布日： 2016-10-05 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模版上残胶的去除方法，所述去除方法包括步骤：1）通过加热使膜框和掩模版之间的胶体软化，然后将膜框拉离掩摸版直至完全分离，以使大部分的胶体随所述膜框脱离掩模版，仅有少部分的胶残留在掩模版上；2）提供一黏性胶球，将所述黏性胶球触碰掩模版上的残胶，使所述黏性胶球与残胶黏合后提拉所述黏性胶球，以将残胶从掩模版上剥离。本发明采用黏性胶球去除残胶，由于球形形状，所以黏性胶球在和残胶的接触过程中，可以非常容易的控制胶球和掩模版的接触面积。由于黏性胶球的构成材料和膜框上胶体的材质相同，质地非常的软，所以在接触掩模版的过程中，几乎不会对掩模版造成伤害，并且能有效地去除残胶。
一种模版上残胶去除方法

[发明专利]UT曝光机用掩模版的制作装置及方法-CN202111046069.4在审
发明人：叶小龙;侯广杰;王栋;黄执祥 -专利权人：深圳市龙图光电有限公司
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明涉及一种UT曝光机用掩模版的制作装置及方法，该装置包括：工装基座、CCD显示器、调整平台、掩模版固定组件、伸缩件、UV灯以及气动滴胶头。本申请提供的上述方案，将铁片通过电磁铁固定在固定槽，然后通过调整平台调节掩模版固定座的位置，以使得掩模版固定座上的掩模版上的丰字标识最上面的十字与CCD显示器镜头上的十字线重合，此时使用气动滴胶头将UV胶滴在铁片的中间位置，同时伸缩件带动固定台向上移动，当铁片与掩模版背面紧贴时，伸缩件停止运动，最后开启UV灯对掩模版和铁片之间的UV胶进行固化即可，整体装置在使用时，由于掩模版和铁片的位置都是相对固定的，从而能够确保铁片与掩模版镜面之间的装配精度。
ut 曝光机用掩模版制作装置方法

[发明专利]票据图像的信息提取方法和装置、存储介质及电子设备-CN202210641781.7在审
发明人：王飞;郑悦闻;李青 -专利权人：杭州未名信科科技有限公司;浙江省北大信息技术高等研究院
申请日： 2022-06-08 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： G06V20/62 文献下载
摘要：其中，方法包括：对目标票据图像进行识别，得到识别文本框集合以及识别文本框集合中每个识别文本框中的文本信息；基于每个识别文本框中的文本信息，从模版配置文件集合中获取第一参考模版配置文件；其中，模版配置文件集合中的每个模版配置文件为根据票据图像进行类型和字段的标注得到的模版文件；将第一参考模版配置文件进行筛选，得到第二参考模版配置文件；根据第二参考配置文件中每个参考配置文件与每个识别文本框中的文本信息的匹配程度确定目标模版配置文件；根据目标模版配置文件提取目标票据图像中的票据信息
票据图像信息提取方法装置存储介质电子设备

[发明专利]掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法-CN202210397099.8在审
发明人：林锦鸿;谢发政;吴仕伟 -专利权人：泉意光罩光电科技（济南）有限公司
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本申请提供一种掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法，涉及掩模版保护技术领域。本申请将残胶清除组件经升降机构安装在承载基座上，使残胶清除组件可在升降机构的带动作用下相对于承载基座进行升降运动，接着将清理平台安装在承载基座上，使清理平台可带动自身盛放的带残胶掩模版相对于承载基座在水平面上移动或转动，进而通过使清理平台在残胶清除组件与带残胶掩模版的带残胶表面接触的情况下带动带残胶掩模版移动或转动来完成残胶擦除操作，从而通过对应掩模版残胶清理设备避免人工擦拭除胶所导致的人体损伤，并对单次掩模版除胶效果进行工艺标准化，降低掩模版在残胶去除过程中被污染的风险。
模版清理设备方法

[发明专利]精密掩模版及其制作方法-CN202211278083.1在审
发明人：戴伟杰;赵晶晶;张盼龙;马建东;刘同辉 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2022-10-19 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种精密掩模版及其制作方法，涉及显示技术领域，用于解决张网时精密掩模版易出现褶皱的技术问题。该精密掩模版具有相连接的边框区和蒸镀区；位于蒸镀区的精密掩模版具有呈阵列排布的多个蒸镀开口；任一蒸镀开口和与其相邻的所有的蒸镀开口中，任意相邻的两个蒸镀开口的内侧面相交的区域形成第一阻隔部，第一阻隔部的厚度小于位于边框区的精密掩模版的厚度；任意相邻的两个蒸镀开口的内侧面不相交的区域形成第二阻隔部，第二阻隔部的厚度小于位于边框区的精密掩模版的厚度。该精密掩模版，能够减小或消除第一阻隔部和第二阻隔部之间的厚度差异，提高精密掩模版的强度均匀性，从而避免施加拉力时精密掩模版出现褶皱。
精密模版及其制作方法

[发明专利]一种基于掩模版法制作自旋太赫兹菲涅尔波带片发射器的方法-CN202310267427.7在审
发明人：张晓强;查希·穆罕默德;姜芸青;张悦;赵巍胜 -专利权人：北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院）
申请日： 2023-03-15 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于掩模版法制作自旋太赫兹菲涅尔波带片发射器的方法，包括：在衬底上沉积铁磁材料形成铁磁层，在铁磁层上覆盖掩模版A的阳版并沉积第一类重金属材料，取下掩模版A的阳版，放上掩模版A的阴版并沉积第一类重金属材料，取下掩模版A的阴版，放置掩模版B阳版并沉积第二类重金属材料，取下掩模版B的阳版，放上掩模版B的阴版并沉积第二类重金属材料，制得自旋太赫兹菲涅尔波带片发射器。本发明使用四类掩模版并采用多次沉积方式制备上述自旋太赫兹菲涅尔波带片发射器，制备的太赫兹发射器具有太赫兹产生效率高，加工方便等特点。
一种基于模版法制自旋赫兹菲涅尔波带片发射器方法

[发明专利]一种解决拆分冲突的光掩模修正方法-CN202310515060.6在审
发明人：杨聆雪;任堃;高大为 -专利权人：浙江大学
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：获取光掩模版图，将所述光掩模版图按照拆分规则进行拆分，得到两个掩模版子图；对两个掩模版子图提取所有三角矛盾拆分冲突图形区域；将上述所有冲突图形区域复制到两个掩模版子图上，得到两个新的掩模版子图；分别对两个新的掩模版子图在各自光罩可制造性规则不受限所有方向上进行OPC修正；对两个OPC修正后的掩模版子图进行曝光，在一片晶圆上形成双重曝光，经过叠加，还原预期的曝光目标轮廓。本发明提出在两个掩模版子图上均放置所有三角矛盾图形区域，可降低生产成本，减少工艺热点数量，提高OPC修正的有效性。
一种解决拆分冲突光掩模修正方法

[发明专利]一种编号自动生成的方法-CN201310726686.8有效
发明人：黄文峰;曾文语;汪翔 -专利权人：南威软件股份有限公司
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：本发明提供一种编号自动生成的方法，包括至少一模版字库、一序列器、一编号显示模版以及一编号生成模块；模版字库用于建立一字库，字库中存放有配置的模版字及实现编号的实现类，模版字中内容包括日期序号和序列器排序号；序列器根据要生成的编号格式对字库中的模版字进行编号，即对序列器排序号进行编号，防止重复编号的情况；编号显示模版根据要生成的编号格式从字库中选择“模版字”及填写需要的固定文字来组合成一字符串；编号生成模块对字符串中包括的“模版字”进行解析，获得编号的结果。
一种编号自动生成器

[发明专利]在半导体制造中对掩模版进行热管理的系统及方法-CN202010740798.9在审
发明人：杨岳霖;廖启宏 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-07-28 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种对用于实施曝光工艺的掩模版进行热管理的方法包括多个操作。基于给定数据选择掩模版的默认状态，其中给定数据包括多个加工过的半导体工件的叠对值及与加工过的半导体工件相关联的掩模版的温度分布。在使用掩模版执行曝光工艺之前，对掩模版进行调节以达到默认状态。
半导体制造模版进行管理系统方法

[发明专利]掩模版和光刻方法-CN201510312558.8有效
发明人：王冠亚 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2015-06-08 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：一种掩模版，在掩模版衬底上具有掩模图形、对准标记、辅助图形，其中，所述辅助图形为二维码。依照本发明的掩模版及其光刻方法，通过在掩模版边缘部分形成快速、简便、低成本的辅助图形解决了掩模版图形信息记录不全，版面图形凌乱等问题，通过设定的辅助图形可以降低工艺开发的难度，减少工艺开发的费用。
模版光刻方法

[发明专利]基于模板库的界面设计方法及装置-CN201410819589.8在审
发明人：喻凯;王超;张彬 -专利权人：远光软件股份有限公司
申请日： 2014-12-23 - 公布日： 2016-07-20 - 主分类号： G06F9/44 文献下载
摘要：相比于现有技术，本发明通过内置丰富的业务模版形成模版库，在模版库的基础上，通过模版规范，使风格统一、通过重置业务模版，实现模版的按需扩展、通过复制模版，可快速进行界面设计、通过调整界面，使界面个性化。
基于模板界面设计方法装置

[发明专利]气象监测预报预警产品自动制作与信息发布系统-CN202011254190.1有效
发明人：周芯玉;胡东明;陈炳洪;黄金霞;高美谭;苏冉;李怀宇;李丽云;黄晓莹;罗聪;谌志刚;刘翔;朱亮;伍鸿健 -专利权人：广州市气象台;广州数鹏通科技有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G06F8/34 文献下载
摘要：本发明公开了气象监测预报预警产品自动制作与信息发布系统，包括产品模版配置模块、气象产品生成模块以及气象数据存储模块，通过产品模块配置模块，生成由于产品模版编辑的编辑界面，并通过产品模版编辑界面内的变量工具标签进行表格，统计图获文字内容等形式的模版编辑制作，最终形成一个自定义的气象产品模版，然后由气象产品生成模块，调用气象数据存储模块中存储的气象观测数据填充至气象产品模版中生成最终的气象产品。通过实施本发明的实施例能够自定义气象产品模版，无需更改系统底层的数据代码，满足气象产品多样化的需求。
气象监测预报预警产品自动制作信息发布系统

[发明专利]混合模版印刷装置,控制该装置的方法和计算机程序-CN01134339.7无效
发明人：桥本浩一 -专利权人：理想科学工业株式会社
申请日： 2001-10-31 - 公布日： 2002-05-29 - 主分类号： B41L13/00 文献下载
摘要：一种混合模版印刷装置,包括模版制作/印刷单元,该单元在与需要图像一致的模版上进行穿孔,将模版卷绕在印刷滚筒的外圆周表面上,以及通过压力将印刷媒体传送到印刷滚筒上,从而印刷出印刷媒体;其它方法成像单元,其根据与模版制作/印刷单元不同的印刷方法印刷出印刷媒体并将印刷媒体在与模版制作/印刷单元相同的传送通道上传送;成像单元选择单元,该单元输入原始数字图像、测定输入的原始数字图像每个图像区的属性、并根据测定结果将每个图像区有选择地分配给模版制作
混合模版印刷装置控制方法计算机程序

[发明专利]EUV空白掩模版制造方法和监控系统、EUV空白掩模版制造系统-CN202310425392.5有效
发明人：林岳明 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2023-04-20 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供一种EUV空白掩模版制造方法和监控系统、EUV空白掩模版制造系统，在沉积EUV空白掩模版所需的多层反射膜、覆盖层和吸收层等膜层的过程中，能够在线实时监控EUV空白掩模版样品表面的反射率，进而根据监测结果实时调整沉积工艺参数，最终提高所制造的EUV空白掩模版的良率，降低生产成本。
euv 空白模版制造方法监控系统

[发明专利]一种旅游照片日志生成方法及系统-CN201510121726.5在审
发明人：杨璐;严建峰;刘志强 -专利权人：苏州大学
申请日： 2015-03-19 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种旅游照片日志生成方法，包括：获取旅游照片；提取旅游照片的标签信息；选择与旅游照片具有相同标签信息的旅游照片日志模版组；将旅游照片与所选择的旅游照片日志模版组中的模版进行相似度匹配，输出可用旅游照片日志模版；选择旅游照片日志模版；将旅游照片中的关键词信息替换所选择的旅游照片日志模版中的关键词信息，能够简单快捷的生成旅游照片日志。
一种旅游照片日志生成方法系统