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- [发明专利]一种基于掩模弱点图形分类的片段替换修正方法-CN202310507908.0在审
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江小龙;任堃;高大为
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浙江大学
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2023-05-08
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2023-09-29
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G03F1/36
- 本发明公开了一种基于掩模弱点图形分类的片段替换修正方法，首先根据测试图形做具体分类，将测试图形的弱点分为桥接、收缩、线端窄化和接触孔被硅栅层覆盖；然后针对测试图形中各个类型的弱点快速傅里叶变换技术对弱点图像进行去噪处理，消除暗点并收缩范围，得到每个类型的通用修正片段并与弱点图形和仿真图形一起存入修正片段库；最后将实际图形数据进行库匹配，根据测试图形的分类方法判断实际图形数据的弱点类型，再用该弱点类型对应的修正片段库文件进行替换完成修正。该方法将通用修正片段及模拟图形保存形成分类弱点修正片段库，比一一对比原始图形和修正结果效率高，不需要建立大量的图形库数据；简单易行，缩短了出版周期。
- 一种基于弱点图形分类片段替换修正方法
- [发明专利]一种解决拆分冲突的光掩模修正方法-CN202310515060.6在审
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杨聆雪;任堃;高大为
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浙江大学
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2023-05-09
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2023-08-22
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G03F1/36
- 本发明公开一种解决拆分冲突的光掩模修正方法。获取光掩模版图，将所述光掩模版图按照拆分规则进行拆分，得到两个掩模版子图；对两个掩模版子图提取所有三角矛盾拆分冲突图形区域；将上述所有冲突图形区域复制到两个掩模版子图上，得到两个新的掩模版子图；分别对两个新的掩模版子图在各自光罩可制造性规则不受限所有方向上进行OPC修正；对两个OPC修正后的掩模版子图进行曝光，在一片晶圆上形成双重曝光，经过叠加，还原预期的曝光目标轮廓。本发明提出在两个掩模版子图上均放置所有三角矛盾图形区域，可降低生产成本，减少工艺热点数量，提高OPC修正的有效性。
- 一种解决拆分冲突光掩模修正方法
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