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- [发明专利]拍摄曝光方法及装置-CN201710764410.7有效
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过一;熊达蔚
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北京小米移动软件有限公司
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2017-08-30
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2020-08-11
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G03B7/08
- 本公开是关于一种拍摄曝光方法及装置。该方法包括：根据检测方式获取当前拍摄环境的亮度特征；基于该亮度特征进行分析，确定曝光方式；获取与该曝光方式相对应的拍摄曝光值；以该拍摄曝光值进行拍摄曝光。本公开的实施例通过检测方式获取当前拍摄环境的亮度特征，基于该亮度特征确定曝光方式，获取与该曝光方式相对应的拍摄曝光值，并以该拍摄曝光值进行拍摄曝光，实现在不同拍摄环境的亮度特征下，自动确定与亮度特征相对应的曝光方式，并获取相对应的拍摄曝光值，从而提升拍摄曝光效果。
- 拍摄曝光方法装置
- [发明专利]光刻工艺中的多次曝光的方法-CN202110718226.5有效
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王雷
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上海华虹宏力半导体制造有限公司
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2021-06-28
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2023-08-18
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G03F7/20
- 本发明公开了一种光刻工艺中的多次曝光的方法，首先，将芯片内包含的所有器件进行分类，将同类的器件布局在同一区域；针对不同器件分别做曝光方式不同的对应的光刻工艺开发；在掩膜版上同时产生多个曝光单元，每个曝光单元包含某一类的单一器件；曝光时，分布采用不同的曝光方式对不同曝光单元进行不同的曝：第1种照明方式对曝光单元1进行曝光，产生器件1，晶圆在平台上维持不动，然后切换第2种照明方式对曝光单元2进行曝光，产生器件2……,重复上述操作直到完成所有曝光单元的曝光本发明将同种曝光方式的器件放置于同一个曝光单元，分别进行不同的曝光，版图布局更紧凑，提高芯片面积的利用率。
- 光刻工艺中的多次曝光方法
- [发明专利]存储器的光刻曝光方法-CN202110641291.2有效
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王雷
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上海华虹宏力半导体制造有限公司
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2021-06-09
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2023-07-04
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G03F7/20
- 本发明公开了一种存储器的光刻曝光方法，在存储器制作的光刻工艺中，采用掩膜版曝光时，将存储器上的具有不同曝光尺寸要求的区域进行分拆，划分为不同的曝光分组，具有相同曝光解析力要求的区域划为一组，在曝光时对不同分组进行不同模式的能够相应满足该组解析力要求的曝光模式的曝光，在曝光时，采用不同的照明方式进行曝光：首先采用第一种曝光方式对存储阵列单元曝光分组进行曝光，然后保持晶圆在承台上不动，再采用第二种曝光方式对其他结构曝光分组进行曝光；全部曝光完成后，进行一次显影完成图形转移本发明有针对性地为每组选择更佳的曝光方式，改善了图形转移的质量，并且可以在光刻能力有限的情况下。
- 存储器光刻曝光方法
- [发明专利]印相机-CN94108860.X无效
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谷端透
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诺日士钢机株式会社
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1994-06-03
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2000-02-23
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G03B27/73
- 一种像印机，包括投影曝光装置、影像曝光装置、输送装置、读取装置和修正信息输入装置。根据读取装置读取的影像信息和修正信息输入装置发出的修正信息指令，影像曝光装置产生的作为影像曝光信息的影像信息仅集中于按照修正内容作了修正的修正目标部分。输送装置以这样的方式输送感光材料投影曝光装置的投影曝光和影像曝光装置的曝光以重合方式在感光材料上进行。
- 相机
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