|
钻瓜专利网为您找到相关结果 2526176个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]晶圆扩片方法-CN202010619237.3有效
-
王海升;詹新明;曾斌
-
青岛歌尔微电子研究院有限公司
-
2020-06-30
-
2022-11-22
-
H01L21/78
- 本发明公开一种晶圆扩片方法,包括步骤:提供一晶圆模组,所述晶圆模组包括晶圆、贴膜和安装环,所述贴膜的外周粘接于所述安装环上,所述晶圆的背面粘接在所述贴膜上,所述晶圆具有多个芯片;对所述晶圆进行切割,以使任意相邻的两个所述芯片之间具有切缝;提供一工装,设置于所述晶圆模组的下方;驱动所述工装上升顶起并撑开所述贴膜,以对所述贴膜进行扩片处理,以使所述切缝断开后分离所述贴膜上的各芯片。本发明的来料晶圆切割后利用工装直接对来料UV膜进行扩片处理,无需进行换膜或者粘膜操作,节省了换膜或粘膜材料及操作工序,操作简单方便,减轻了人工劳动强度,提高了生产效率。同时降低污染晶圆的风险,提高产品良率,保证产品质量。
- 晶圆扩片方法
- [发明专利]光学器件制作方法-CN201811601726.5在审
-
刘超群
-
中芯集成电路(宁波)有限公司
-
2018-12-26
-
2020-07-03
-
G02B5/18
- 本发明提供一种光学器件制作方法,该方法包括:提供玻璃晶圆,并在所述玻璃晶圆的正面和背面形成掩膜层;图形化所述玻璃晶圆正面的掩所述膜层,以使所述玻璃晶圆正面的所述掩膜层具有所述光学器件的图案;以所述玻璃晶圆正面的所述掩膜层为掩膜刻蚀所述玻璃晶圆,以在所述玻璃晶圆的正面形成所述光学器件的图案;去除所述玻璃晶圆的正面和背面的所述掩膜层;其中所述掩膜层为非金属层且具备静电夹持/解夹持性能。该光学器件制作方法可以解决刻蚀时玻璃晶圆的夹持/解夹持问题,且不会有金属污染问题。此外,成本相对较低。
- 光学器件制作方法
- [发明专利]一种芯片倒膜方法和芯片倒膜设备-CN202110723257.X有效
-
黄达利
-
深圳中科四合科技有限公司
-
2021-06-29
-
2021-09-28
-
H01L21/67
- 本发明涉及一种芯片倒膜设备和方法,剥膜坐台和收料支撑台的底部分别设置剥膜马达和收料马达,剥膜输送带的平直部分支撑在剥膜坐台上;接晶输送带的平直部分支撑在收料支撑台上;剥膜时:将切割后的附有切割膜的晶圆的正面贴上装片膜;将切割膜贴附在剥膜输送带上,晶圆与切割膜的结合力小于切割膜与剥膜输送带的结合力,剥膜输送带带动切割膜、晶圆和装片膜移动;在剥膜输送带的拐弯处,剥膜输送带带动切割膜转弯,晶圆由于是硬质,所以不发生折弯,晶圆与切割膜分离,晶圆的底面与切割膜分离后逐步压覆在接晶输送带上,接晶输送带将剥离切割膜后的晶圆带走;能够实现流水化作业,设备成本低、效率高。
- 一种芯片方法设备
|