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[发明专利]一种掩模版组及应用该掩模版组的曝光设备-CN202310610593.2在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：深圳智达星空科技（集团）有限公司;智慧星空（上海）工程技术有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本申请提供一种掩模版组及应用该掩模版组的曝光设备，应用于半导体和泛半导体制备技术领域，该掩模版组通过在工作掩模版和工作光源之间设置防护掩模版，并在工作掩模版和/或防护掩模版上设置透明加热系统，可显著减少到达工作掩模版的无效光刻能量，防止掩模版热膨胀造成的光刻图案畸变；并可尽快达到掩模版的热平衡，保持掩模版温度稳定，提升工艺稳定性，减少准备时间，提高生产效率、降低次品率，具有极高的市场应用前景。
一种模版应用曝光设备

[发明专利]用于光刻设备的掩模版夹具阻尼器和隔离系统-CN202180010795.2在审
发明人： R·B·维纳;P·C·科奇斯珀格;B·科根;M·A·W·崔帕斯;R·J·韦德;S·埃文斯 -专利权人： ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-01-26 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文的实施例描述了用于掩模版夹具阻尼器和隔离系统的方法、装置和系统，用于输送掩模版并且减少光刻设备和系统的掩模版输送器中的振动。一种掩模版输送器设备包括掩模版输送器臂、被配置为保持掩模版的掩模版基板以及被布置为将掩模版基板连接至掩模版输送器臂的夹具。夹具包括被耦接至掩模版输送器臂的静态结构、被耦接至静态结构的隔离结构以及一个或多个阻尼元件。夹具被配置为使用一个或多个阻尼元件来减少掩模版输送器设备中的掩模版的振动。
用于光刻设备模版夹具阻尼隔离系统

[发明专利]一种更替掩模版的方法-CN200810035089.X有效
发明人：杨晓松;朱文渊 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2008-03-25 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种更替掩模版的方法，提高新掩模版替换旧掩模版进行曝光的良率。该方法是先制作新旧掩模版交替曝光的晶圆，然后进行晶圆上相邻小晶粒扫描，查找缺陷，并判断缺陷是否在误差阈值内，如果是，则新掩模版可投入使用；如果不是，舍弃新掩模版，另外制作一块新掩模版，对制作的另外一块新掩模版开始同样的流程此方法，通过将新旧掩模版交替曝光在同一片晶圆上，在进行相邻小晶粒扫描时，可查出新旧掩模版之间的相异之处，找出新掩模版相对旧掩模版存在的缺陷或旧掩模版本身的缺陷，克服传统更替方法中不能准确判断新旧掩模版匹配度的问题
一种更替模版方法

[发明专利]掩模版承版台及其光刻设备和双曝光方法-CN200910048281.7有效
发明人：齐宁宁;齐芊枫;李志龙 -专利权人：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2009-03-26 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模版承版台，包括：掩模版保持架；第一掩模版安装位与第二掩模版安装位，设置于所述掩模版保持架上；标记版安装位，设置于所述掩模版保持架中间位置；多个掩模版真空吸附槽，分别设置于所述第一掩模版安装位与第二掩模版安装位中，用以吸附固定掩模版；角锥棱镜安装位，设置于所述掩模版保持架的一侧，用于安装角锥棱镜；微动电机安装位，设置于所述掩模版保持架上；反射镜镀膜面，位于所述掩模版保持架的一侧面。综上所述，本发明利用掩模版承版台将两块不同的掩模版依次在同一个涂胶层上分别进行独立的曝光，双曝光技术可以将二维的图案分解为两个更容易精确地生成的一维图案。
模版承版台及其光刻设备曝光方法

[发明专利]柔性线路板及其制作方法-CN201810693139.7有效
发明人：颜伟男 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-06-29 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种柔性线路板及其制作方法，所述掩模版至少两个掩模区域，所述掩模区域之间相互组合以形成所述掩模版；其中，所述掩模区域的掩模图案与待蚀刻物的目标图案相匹配。本发明通过设计一种可更换部分掩模图案的掩模版以在柔性线路板制作过程中决解由于柔性线路板接合端图案修改时，掩模版更换成本过高的问题，提高了柔性线路板的生产效率。
柔性线路板及其制作方法

[发明专利]掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质-CN202310387417.7有效
发明人：白永智;雷健;谢超;何祥;何俊龙 -专利权人：深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质，应用于掩模版预校准系统，掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置，掩模版预校准方法包括：通过机械手臂装置将曝光支撑装置移动至掩模版载具预校准装置，在掩模版载具预校准装置上校准并固定曝光支撑装置；在固定已校准的曝光支撑装置后，通过机械手臂装置将掩模版置于曝光支撑装置上，校准掩模版，并将掩模版固定在已校准的曝光支撑装置上；通过机械手臂装置，将曝光支撑装置和掩模版共同移动至掩模台上版装置。本申请旨在提高掩模版上版校准的精度以及效率，以提高光刻机的连续生产效率。
模版校准方法系统电子设备以及可读存储介质

[发明专利]掩模版的修复方法-CN200810034381.X无效
发明人：钱芳 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2008-03-07 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种掩模版的修复方法，包括如下步骤：提供待修复掩模版，包括存在缺陷的掩模图形；提供副本掩模版，包括未被刻蚀的遮光层，遮光层的面积大于所述待修复掩模版中存在缺陷的掩模图形的面积；采用副本掩模版制作掩模图形副本；利用掩模图形副本的数据，修复待修复掩模版中存在缺陷的掩模图形。本发明的优点在于，解决了可以在待修复掩模版表面无可复制图形的情况下修复掩模版的技术问题。
模版修复方法

[发明专利]一种掩模版传输装置及传输方法-CN201510087602.X有效
发明人：姜晓玉;王长刚 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-02-26 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种掩模版传输装置，包括掩模版、掩模台以及机械手，所述机械手用于支撑和传输掩模版并将所述掩模版交接到掩模台上，其特征在于，还包括第一组标记和第二组标记，位于所述掩模版上；预对准部件，与所述掩模台连接，用于在掩模版交接过程中探测所述第一组标记以进行第一次预对准，以及探测所述第二组标记以进行第二次预对准；控制单元，用于根据第一次预对准结果调整掩模版和掩模台的相对位置，避免掩模版和掩模台相撞，以及根据第二次预对准结果调整掩模版和掩模台的相对位置，使得掩模版和掩模台的相对位置在设定范围之内。与现有技术相比较，本发明避免了机械手将掩模版交接到掩模台时使掩模版的薄膜框架与掩模台的承版结构发生碰撞，保护了掩模版，提高了交接精度。
一种模版传输装置方法

[发明专利]半导体芯片用掩模版贴膜精度检测方法及检测装置-CN202210340199.7有效
发明人：黄执祥;柯汉奇;王栋;孙世强 -专利权人：深圳市龙图光电有限公司
申请日： 2022-04-02 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体芯片用掩模版贴膜精度检测方法及检测装置，方法包括将贴膜后的掩模版放置于载物平台，并接收图像采集单元发送的掩模版的图像，其中，所述掩模版的图像为掩模版贴膜后的图像；根据所述掩模版的图像确定掩模版与保护膜之间的在水平方向上的距离偏移量和角度偏移量；根据所述距离偏移量和所述角度偏移量确定掩模版贴膜精度。通过采集掩模版的图像，并根据掩模版的图像直接确定固定在放置于掩模版上方的膜框的保护膜与所述掩模版的距离偏移量以及角度偏移量，根据所述距离偏移量以及所述角度偏移量即可快速确定掩模版贴膜精度，而无需在掩模版上添加标记后人工判断贴膜精度
半导体芯片模版精度检测方法装置

[发明专利]掩模版的清洗方法及装置-CN201410263585.6有效
发明人：匡友元 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2014-06-12 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模版的清洗方法及装置，所述方法包括以下步骤步骤1、提供待清洗掩模版，该掩模版由金属制成，其上附有有机材料膜层；步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热，使附着在掩模版的有机材料膜层破碎；步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液，将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版；步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗；步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗，以洗掉残留在掩模版上的药液；步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。本发明提供的一种掩模版的清洗方法及装置，大大缩短了掩模版的清洗周期，提高了清洗产能，并降低了材料残留的几率。
模版清洗方法装置

[发明专利]具有与真空室连通的真空掩模版库的光刻设备-CN03152343.9有效
发明人：圣第亚哥·戴尔·普尔图;玛库斯·F·A·欧林斯 -专利权人： ASML控股股份有限公司
申请日： 2003-07-29 - 公布日： 2004-05-05 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种包括曝光室和掩模版夹持器的光刻设备，该夹持器按该光刻设备的用户指令，更换要曝光的掩模版。该掩模版夹持器可以包括：能适应真空的机器人；容纳该机器人的真空室；用于输入各掩模版并把它们从大气压过渡到真空的装入闸室；处理该掩模版的处理站；以及储藏至少一块备用掩模版的掩模版库，以便能快速地在曝光过程中使用该掩模版该机器人可以有两个或更多摇杆式夹，以便同时夹持多块掩模版。这样可用第一摇杆把第一掩模版移离掩模版载物台，同时用第二摇杆把第二掩模版装在掩模版载物台上，余此类推，以便把更换时间缩至最短。
具有真空连通模版光刻设备

[发明专利]一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置-CN201711126620.X有效
发明人：乔永康;潘晟恺;杨凯 -专利权人：合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-11-14 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置，涉及蒸镀技术领域，能够解决在掩模版上支撑条位置处与待蒸镀基板之间存在较大的间隙，间隙位置处在蒸镀膜层时易于侵入沉积蒸镀材料，从而使得掩模蒸镀的膜层图案与掩模图案差异较大的问题包括：掩模版本体，掩模版本体包括掩模版框架以及掩模版框架环绕的掩模部分，掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻掩模图案区域之间的无效区域。支撑条，支撑条的两端固定在掩模版框架上，且支撑条跨设于掩模部分并投影于无效区域内，用于支撑掩模版本体。升降组件，设置在掩模版框架上对应支撑条的端部位置，升降组件能够带动支撑条的端部沿垂直于掩模版框架所在平面朝向远离掩模版框架的方向移动。
一种模版掩模蒸镀组件装置

[实用新型]掩模版保护装置及掩模结构-CN202222519821.9有效
发明人：林岳明;季明华;黄早红 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：本申请涉及一种掩模版保护装置及掩模结构。本申请提供的掩模版保护装置，包括：保护框，设置于掩模版的至少一侧；以及，保护膜，无胶键合于所述保护框背离所述掩模版的表面，并密封所述保护框的开口。本申请提供的掩模版保护装置，能够避免由于保护膜与保护框采用粘合剂进行粘接而导致掩模版表面雾化的问题，减少掩模版的损耗，避免掩模版受到污染进而损坏其上掩模图案，有利于实现掩模版的重复使用和长期使用。
模版保护装置结构

[发明专利]一种掩模版的污渍去除方法-CN202310925138.1在审
发明人：黄偲;施维;郑怀志;罗嘉盈;肖炎微;刘科兴 -专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
申请日： 2023-07-26 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模版的污渍去除方法。掩模版是一种图像处理技术，用于从图像中提取对象或感兴趣区域；其工作原理为利用事先准备好的掩模版，通过将掩模版应用到图像处理中，将与掩模版相匹配的区域提取出来，而忽略其他区域；掩模版在实际使用中很容易沾染来自空气中的灰尘等污渍，影响其工作效率；传统清洗方法对掩模版的清洗存在不彻底的问题，掩模版在使用过程中产生的污渍沾染难以清洗干净；本发明提供的污渍去除方法能有效去除掩模版的污渍，增加了掩模版的使用效率，延长了掩模版的使用寿命
一种模版污渍去除方法

[发明专利]掩模版位置调节装置-CN202211686878.6在审
发明人：刘峰;李文荘 -专利权人：苏州光斯奥光电科技有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： B65G47/24 文献下载
摘要：本发明涉及掩模版相关设备技术领域，公开一种掩模版位置调节装置。该掩模版位置调节装置包括机架、翻转机构和旋转机构，翻转机构设置在机架上，翻转机构能夹持或松开掩模版，并能带动掩模版绕X轴方向翻转，旋转机构沿Z轴方向移动设置在机架上，并位于翻转机构的上方或下方，旋转机构能夹持或松开掩模版，并能带动掩模版绕Z轴方向旋转。该掩模版位置调节装置能对掩模版进行翻转和旋转，适用于不同尺寸的掩模版，工作效率较高，成本较低。
模版位置调节装置