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[发明专利]拧紧枪批头更换装置及拧紧模组-CN202010327818.X有效
发明人：张德峰;齐芊枫 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-04-23 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： B25B21/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种拧紧枪批头更换装置，包括拧紧执行单元、拧紧驱动单元和拧紧可拆卸单元，其中，拧紧驱动单元固定在拧紧模组上；拧紧执行单元通过拧紧可拆卸单元与拧紧驱动单元可拆卸连接，拧紧执行单元用于与待拧紧件适配；拧紧执行单元与拧紧驱动单元连接时，拧紧驱动单元用于驱动拧紧执行单元拆装待拧紧件。本发明还提供了一种包括拧紧枪批头更换装置的拧紧模组。本发明提供的拧紧枪批头更换装置充分利用拧紧可拆卸单元的结构来实现拧紧执行单元的快速定位和夹紧，结构简单、紧凑，可靠性高，便于快速更换。对于不同规格的待拧紧件，仅需更换待拧紧执行单元，在提高工作效率的同时节约了成本。
拧紧枪批头更换装置模组

[发明专利]一种掩模台及光刻系统-CN201910161037.5有效
发明人：蔡晨;王鑫鑫;齐芊枫 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-03-04 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种掩模台和光刻系统，其中掩模台包括：支撑底座；承版台，滑动连接在支撑底座的上端面上；两组Y向运动机构，设置在支撑底座上，且两组Y向运动机构分别设置在承版台沿X方向的两侧；X向运动机构，设置在Y向运动机构上且与承版台连接，Y向运动机构带动X向运动机构沿Y方向运动，Y方向与X方向垂直。光刻系统包括上述掩模台。本发明公开的掩模台和光刻系统，能够减小掩模台和光刻系统的体积，降低掩模台和光刻系统的成本。
一种掩模台光刻系统

[发明专利]自动拆装机构-CN201910249568.X有效
发明人：张德峰;齐芊枫 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： B25B21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种自动拆装机构，用于对一带通孔的标准件进行安装或拆卸，包括：拾取模块，拾取模块包括拾取批头，拾取批头插入标准件的通孔中并与通孔锁定以拾取标准件；运动模块，与拾取批头的尾部连接，以驱动拾取批头运动；解锁模块，用于向标准件施加压力以使拾取披头与通孔解锁，并释放标准件。本发明能够对带通孔的标准件进行自动拾取、拆装及解锁，实现自动化装配，减少人工投入，提高零件的拆装效率。
自动拆装机构

[发明专利]一种硅片边缘保护装置-CN201810615331.4有效
发明人：蔡晨;王鑫鑫;齐芊枫 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及集成电路制造领域，尤其涉及一种硅片边缘保护装置，包括保护环、水平抓环机构及垂向运送机构，所述水平抓环机构用于水平抓取及放下所述保护环；所述垂向运送机构可拆卸连接于所述水平抓环机构上方，所述垂向运送机构能够带动所述水平抓环机构垂向运动，并能在失去动力时向上拉动所述水平抓环机构。本发明提供的硅片边缘保护装置，能实现在突然断电或断气等失去动力的异常情况时将水平抓环机构向上拉起，避免水平抓环机构与工作台发生碰撞，从而有效保护硅片，且提高了装置维护的便利性，提高了垂向运动精度。
一种硅片边缘保护装置

[实用新型]装配平台-CN201921596702.5有效
发明人： 齐芊枫;蔡晓玲 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： B23P21/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种装配平台，包括自动装配模块，用于对不同尺寸的工件进行自动装配；人工辅助模块，用于对所述工件进行人工辅助装配；自动测量模块，用于对完成装配后的工件进行装配质量测量；物流模块，用于在所述自动装配模块、所述人工辅助模块、所述自动测量模块之间运输物料和/或所述工件。本实用新型实现了装配不同规格的工件，并能够使物料或工件在各个模块之间进行良好流转，且确保工件装配全过程的闭环控制，提高了装配效率。
装配平台

[发明专利]一种基底吸附装置、光刻设备及吸附方法-CN201810113746.1在审
发明人：蔡晨;齐芊枫;王鑫鑫 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-02-05 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基底吸附装置、光刻设备及吸附方法，其中，吸附装置包括吸附机构，以及与吸附机构相对设置的整形机构，吸附机构和整形机构之间形成基底容纳空间；吸附机构包括吸盘，吸盘表面上分布有多个吸气孔，吸盘用于从第一侧吸附基底容纳空间内的基底；整形机构用于从与第一侧相对的第二侧对基底容纳空间内的基底作用，以与吸盘配合对基底容纳空间内的基底进行整平。本发明实施例通过设置与吸附机构相对的整形机构，吸附机构通过吸盘上的吸气孔，吸附基底片，整形机构与吸盘配合对基底进行整平，使基底完全吸附在吸盘上，实现了对大翘曲量基底的整平及完全吸附，提高了基底曝光质量和良率，提高了生产效率。
基底吸盘吸附机构吸附整形机构容纳空间吸附装置整平光刻设备吸气孔基底曝光基底作用生产效率吸盘表面相对设置基底片翘曲量良率配合

[发明专利]平面运动测量装置及其方法-CN201410455918.5有效
发明人：方洁;齐芊枫;李进春;夏海;吴立伟;张志钢 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-09-09 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： G01B11/03 文献下载
摘要：本发明提供了一种平面运动测量装置及其方法，包括：平面运动定子、平面运动动子、以及位于所述平面运动定子与所述平面运动动子之间的至少三个测量模块，所述三个测量模块中二个测第一方向，另一个测第二方向，所述第一方向和所述第二方向垂直,可以达到测量Rz转角偏大的平面运动的目的，实现了X、Y、Rz平面运动的高精度测量，提高了测量的准确性；同时，测量模块中采用鼓形轴承，无机械回差，不会将非测量轴的误差带入测量轴，可以适应平面运动动子在Rx、Ry、Z方向的微量变化。
平面运动测量装置及其方法

[实用新型]一种硅片升降机构、硅片交接装置以及光刻机-CN201821003185.1有效
发明人：唐玉良;齐芊枫 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2018-06-27 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种硅片升降机构、硅片交接装置以及光刻机，其中，所述硅片升降机构包括：运动台、升降柱、复位单元以及底座；所述运动台包括一运动部，所述运动部可相对于所述底座做升降运动；所述升降柱固定在所述运动部上并随所述运动部做升降运动；所述复位单元的两端分别与所述升降柱以及所述底座相连，所述复位单元垂直作用于所述升降柱底部使所述运动部自动复位。由此，使得所述复位单元始终保持垂直状态，解决了现有硅片升降机构因为采用斜拉方式而导致复位难的问题。同时，由于所述运动台采用的是更成熟的模块化设计，结构、制作工艺和装配工艺都相对简单，故具有更好的应用前景。
运动部硅片升降机构复位单元升降柱运动台底座交接装置升降运动光刻机硅片本实用新型模块化设计垂直状态垂直作用制作工艺装配工艺自动复位复位斜拉成熟应用

[发明专利]一种用于高精密工件台的无管路物料吸附装置及方法-CN201410284172.6有效
发明人：李新振;齐芊枫;李进春 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-06-24 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种用于高精密工件台的无管路物料吸附装置，其特征在于，包括吸盘、气缸、活塞、电机，所述吸盘内部有管路连接气缸；所述电机带动所述活塞运动，使所述气缸内出现负压，使所述吸盘吸附物料。与现有技术相比较，本发明无外部气源，无传输路径中的压力损失，无管路引起的干扰。同时不受环境限制，能够应用于大气环境。
一种用于精密工件管路物料吸附装置方法

[发明专利]分体式承版台-CN201610378218.X在审
发明人：李新振;齐芊枫 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-05-31 - 公布日： 2017-12-08 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明提供了一种分体式承版台，所述分体式承版台用于承载及移动掩膜版，其中，所述承版台包括多个分体版块，通过多个所述分体版块组合形成所述承版台。本发明提供的分体式承版台是通过多个分体版块组合形成的，即相对于一体式承版台，分体版块具有较小的体积，因此其加工难度较小，可节省承版台的加工成本，并且针对不同尺寸的掩膜版，也可在原有的分体式承版台的基础上，通过增加或减少分体版块的数量以组合形成不同尺寸的承版台，而无需额外购买新的承版台。
体式承版台

[发明专利]一种平面运动测量装置及方法-CN201210586818.7有效
发明人：李新振;齐芊枫;梁德志;李进春 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-12-28 - 公布日： 2017-06-27 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种平面运动测量装置及方法，用于测量运动体在平面上X、Y及Rz方向的位移，该装置包括三组一维光栅测量机构，其中两组一维光栅测量机构位于所述运动体的X方向上，另外一组一维光栅测量机构位于所述运动体的Y方向上，其中，每组一维光栅测量机构包括两组移动副以及一组转动副，所述两组移动副的移动方向垂直，所述转动副与其中一组移动副可旋转式连接。本发明中，运动体在每组一维光栅测量机构处都会产生X、Y、Rz三个方向上的位移，而每组一维光栅测量机构只测量所述运动体在X方向或Y方向上的位移，其余两个方向上的位移通过所述移动副以及转动副实现解耦，从而完成运动体在平面上X、Y及Rz方向的位移的测量。
一种平面运动测量装置方法

[发明专利]掩模台垂向测量装置-CN201110117110.2有效
发明人：江旭初;李生强;齐芊枫 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2011-05-05 - 公布日： 2012-11-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种掩模台垂向测量装置，包括掩模台中的承版台和至少三个电容传感器，所述承版台依次包括承版台本体、绝缘层和至少三个导电膜，所述绝缘层覆盖在所述承版台本体底部，所述导电膜相互独立的覆盖于所述绝缘层底部，所述电容传感器固定在所述承版台下方，其位置与所述导电膜位置对应。本发明掩模台垂向测量装置的优点是降低了承版台的设计复杂度和加工成本。
掩模台垂测量装置

[发明专利]一种光刻机直线运动驱动装置-CN201110095023.1有效
发明人：范哲光;齐芊枫 -专利权人：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2011-04-15 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻机直线运动驱动装置，通过柔性件使粗动台同粗动电机相连接，该柔性件根据需要具有不同结构，且各类柔性件在各个方向的刚度设置不同，在保证粗动电机驱动力有效的作用在粗动台上的同时，可消除粗动台同粗动电机之间因具有的多个连接点对粗动台沿导轨运动所造成的约束，同时能消除两侧导轨不平行对粗动台运动所带来的不利影响。
一种光刻直线运动驱动装置

[发明专利]一种工件台漏水保护装置-CN201110087962.1无效
发明人：范哲光;齐芊枫 -专利权人：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2011-04-08 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种工件台漏水保护装置，所述工件台包括：底板、安装于所述底板上的冷却水管、冷却水接头及电气部件，所述漏水保护装置包括漏水保护槽，所述漏水保护槽设置于所述底板中；所述漏水保护槽分布于所述底板上所述冷却水管、冷却水接头及需进行漏水保护的电气部件的一侧；所述漏水保护槽的底面及侧面上均贴有隔水材料。本发明的工件台漏水保护装置可以根据需要设计微动台底板中漏水保护槽的分布，实现对微动台底板全范围内保护。漏水被集中于漏水保护槽中的一处位置进行检测，结构简单，使用的传感器少，便于检测和控制，节约成本。
一种工件漏水保护装置

[发明专利]一种光刻机旋转台-CN201110068172.9有效
发明人：范哲光;周清华;齐芊枫;吴立伟;王鑫鑫 -专利权人：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2011-03-21 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻机旋转台，旋转中心定位机构的气浮导轨轴和气浮导轨衬套之间通入高压气体，使得气浮导轨轴和气浮导轨衬套之间形成具有一定刚度的气膜，使旋转中心定位机构的旋转刚度几乎为零，水平向刚度可以做到很高，且不会影响旋转刚度，从而可以有效降低旋转台机械静差；同时支撑机构采用第一支撑垫和第二支撑垫两个支撑垫进行面接触，减小接触点变形，从而减小摩擦力，有利于降低旋转台的机械静差；第一支撑垫中间具有两个方向柔性铰链，两个方向的柔性铰链可围绕柔性铰链的中心旋转，确保旋转台的多个支撑机构中第一支撑垫和同第二支撑垫始终保持面接触，提高旋转台稳定性。
一种光刻旋转

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