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[实用新型]一种化学机械抛光垫及抛光装置-CN202021266043.1有效
发明人：姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;杨加明 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2020-07-01 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本实用新型提供一种化学机械抛光垫及抛光装置，所述化学机械抛光垫通过在旋转中心设置中心凹槽，加强了对研磨液的留存能力，能够有效疏散抛光过程中产生的热量，降低了抛光垫中心的温度，从而最终缓解了抛光垫脱胶的问题并提高了抛光垫的使用寿命；包含所述抛光垫的抛光装置对晶圆的抛光效果佳。
一种化学机械抛光抛光装置

[发明专利]一种抛光设备及其工作方法-CN202210713176.6在审
发明人：孟晓云;周庆亚;李久芳;白琨;贾若雨;李嘉浪 -专利权人：北京烁科精微电子装备有限公司
申请日： 2022-06-22 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光设备及其工作方法，抛光设备包括：位于抛光垫的上方且位于所述抛光头侧部的冷气供给装置，冷气供给装置具有朝向抛光垫的若干冷气喷射端口组，不同的冷气喷射端口组中的冷气喷射端口至抛光垫的中心的横向距离不同，冷气喷射端口组中至少包括一个冷气喷射端口；冷气喷射端口的中心至抛光垫的中心的横向距离小于或等于抛光垫的中心至晶圆接触面的中心的横向距离与晶圆接触面的半径之和，且冷气喷射端口的中心至抛光垫的中心的横向距离大于或等于抛光垫的中心至晶圆接触面的中心的横向距离与晶圆接触面的半径之差本发明提供的抛光设备及其工作方法对晶圆在径向方向的研磨均匀性提高。
一种抛光设备及其工作方法

[实用新型]一种抛光用防刮痕的无蜡垫-CN202321162082.0有效
发明人：李加海;杨惠明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光用防刮痕的无蜡垫，属于无蜡垫技术领域。本实用新型的一种抛光用防刮痕的无蜡垫，包括基垫和抛光垫，所述抛光垫包括抛光层、牵引绳、中心支撑柱和调节螺柱，抛光层的边缘等距离的固定连接有牵引绳，牵引绳的一端共同连接有中心支撑柱，中心支撑柱的下端与调节螺柱啮合本实用新型的一种抛光用防刮痕的无蜡垫，将无蜡垫分为基垫和抛光垫，抛光垫包括抛光层、牵引绳、中心支撑柱和调节螺柱，抛光层通过牵引绳的拉伸，整体平整，牵引绳暗藏在牵引孔内，在抛光层出现松弛时，通过中心支撑柱带动牵引绳收紧，将抛光层拉紧，始终保持抛光层表面平整，防止出现刮痕。
一种抛光刮痕无蜡垫

[发明专利]抛光垫窗-CN201610161203.8有效
发明人： B·钱;E·S·西蒙;G·C·雅各布 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司
申请日： 2016-03-21 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：抛光垫适合于抛光或平坦化半导体、光学和磁性衬底中的至少一个。抛光垫具有抛光表面、经由抛光垫的开口和在抛光垫中的开口内的透明窗。透明窗具有凹表面，其具有随着抛光垫的使用而增大的深度。信号区域向下倾斜到中心区域内，用于促进残渣去除，且残渣排放凹槽延伸穿过中心区域到抛光垫内。将抛光垫与残渣排放凹槽中的抛光流体一起旋转将残渣从中心区域经由残渣排放凹槽发送到抛光垫内。
抛光

[发明专利]一种具有透气孔的抛光垫-CN202310110209.2在审
发明人：杨波;张莉娟 -专利权人：上海芯谦集成电路有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有透气孔的抛光垫，抛光垫上设有抛光面，抛光面上设有外围区域和中心区域，中心区域设于抛光垫的中心，外围区域围绕中心区域设置；外围区域设有透气孔和射线沟槽，多个透气孔分布于整个外围区域，多个射线沟槽绕抛光垫的圆心呈放射状设置与现有技术相比，本发明中透气孔可以通过存储部分抛光液辅助射线沟槽提高抛光效果，射线沟槽可以通过促进抛光液循环辅助透气孔提高散热效果。因此抛光垫上同时设置射线沟槽和透气孔既提高了抛光垫的散热效果，又提高了抛光垫的抛光质量。
一种具有透气抛光

[发明专利]簇绒抛光垫-CN201080030471.7有效
发明人：阿伦·C·克劳斯;亚历山德斯·蒂托夫斯 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2010-05-13 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： B24D13/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光垫，所述抛光垫包括将所述抛光垫连接至动力抛光机的带有中心开口的毂。所述抛光垫包括与所述毂间隔开但环绕所述毂的一层簇绒羊毛或其它纤维抛光介质和位于所述纤维抛光介质和所述毂之间的材料块，如圆柱形泡沫块。所述材料块包括一个和所述毂中心开口对齐的通孔。所述材料块的尺寸能够防止纤维抛光材料簇进入所述毂的中心开口而影响抛光垫连接至动力抛光机的能力。
抛光

[发明专利]抛光垫修整方法及包含其的化学机械抛光方法-CN201711254622.7有效
发明人：张康;尹影;李婷;岳爽 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2017-12-01 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： B24B53/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种抛光垫修整方法及包含其的化学机械抛光方法，涉及化学机械抛光领域，该抛光垫修整方法，沿抛光垫的径向方向，修整器在所述抛光垫的边缘和所述抛光垫的中心之间做往复运动对所述抛光垫进行修整；沿抛光垫的径向方向，所述抛光垫从边缘至中心依次划分不同的修整区域，修整器不同修整区域内的相对修整时间和下压压力不同，以缓解利用现有修整方法容易导致抛光垫表面过抛，容易导致晶圆平整度下降和表面缺陷增加的问题，达到延长抛光垫使用寿命和降低晶圆表面缺陷的目的
抛光修整方法包含化学机械抛光

[发明专利]中心供液小磨头抛光工具-CN201710516235.X在审
发明人：林彬;黄田;张晓峰;李凯隆;李岩;柳鹏飞 -专利权人：天津大学
申请日： 2017-06-29 - 公布日： 2017-11-14 - 主分类号： B24B41/00 文献下载
摘要：一种中心供液小磨头抛光工具。其包括软质抛光垫、海绵夹层、抛光盘、连接杆、软管、柔性联轴器和电主轴；本发明效果将四周供液改进为中心供液，中心区域抛光液供给充分，抛光液将大量加工热量及磨屑带离加工区域，软质抛光垫表面磨损状况要明显优于传统小磨头抛光工具因此，能够改善软质抛光垫的抗磨性，并将软质抛光垫的使用寿命提高4倍以上，减少软质抛光垫更换频率，降低生产成本。抛光液从工具中心向四周进行供给，相对于四周供液，整个加工区域内磨粒供给更加充分、均匀，磨粒的更新速度也更加稳定，从而使软质抛光垫磨损情况得到很大改善。因此，中心供液小磨头抛光工具在整个加工周期内材料去除效率更加稳定，面形控制能力更强。
中心供液小磨头抛光工具

[发明专利]半球形抛光垫的形成和组装方法-CN201210521462.9无效
发明人： R·C·卡迪;M·J·莫尔;M·A·沙尔基;M·A·斯托克 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2008-12-22 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： B24D18/00 文献下载
摘要：本发明涉及半球形抛光垫的形成和组装方法。半球形抛光垫的形成方法包括：将抛光垫预成形体放置在帽体的穹顶形成形表面上，抛光垫预成形体包括具有圆形本体，圆形本体具有中心、外周缘和设置在本体的中心处的孔；以及从外周缘朝向中心延伸的多个狭槽；将囊与穹顶形成形表面和抛光垫预成形体相对设置；用流体充胀囊，使得帽体的穹顶形成形表面从一侧压抵抛光垫预成形体，且囊从相反侧压抵抛光垫预成形体；以及将加压步骤保持预定时段来形成半球形抛光垫。
半球形抛光形成组装方法

[实用新型]一种抛光垫-CN201921850915.6有效
发明人：顾兆伟;黄键东 -专利权人：凯吉斯金刚石（广州）有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及抛光工具技术领域，公开了一种抛光垫，包括垫体，所述垫体具有抛光表面，所述抛光表面喷涂有磨料层，所述磨料层包含多个磨粒，所述磨粒通过粘接剂附着在所述抛光表面，多个所述磨粒以所述抛光表面的中心为中心呈放射状分布，使抛光垫具有万向性，适合各个方向的研磨抛光，抛光效果好。
一种抛光

[发明专利]抛光垫修整方法-CN201110209279.0有效
发明人：路新春;王同庆;沈攀 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-07-25 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： B24B53/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光垫修整方法，所述抛光垫修整方法包括：利用修整器对抛光垫进行修整，其中在所述修整器的修整头从所述抛光垫的中心向所述抛光垫的外沿摆动的过程中，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个减小，且在所述修整头从所述抛光垫的外沿向所述抛光垫的中心摆动的过程中，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个增大。利用所述抛光垫修整方法对所述抛光垫进行修整可以使所述抛光垫上各处的磨损量保持一致，从而可以大大地改善所述抛光垫的均匀性、大大地延长所述抛光垫的使用寿命。
抛光修整方法

[发明专利]偏置脉冲CMP沟槽图案-CN201810445365.3有效
发明人： J·V·阮;T·Q·陈;J·J·亨德伦;J·R·斯塔克 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2018-05-11 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：抛光垫适用于抛光或平坦化半导体、光学和磁性衬底中的至少一种的晶片。所述抛光垫包括位于抛光层中的径向进料槽，所述径向进料槽将所述抛光层分成抛光区域。所述径向进料槽从邻近于所述抛光垫的中心的位置至少延伸到邻近于外边缘的位置。每个抛光区域包括连接一对相邻径向进料槽的一系列偏置沟槽。大部分的所述偏置沟槽向内偏向所述抛光垫的中心或向外偏向所述抛光垫的外边缘以便引导抛光液。
偏置脉冲 cmp 沟槽图案

[发明专利]化学机械抛光方法-CN201110205779.7无效
发明人：路新春;王同庆 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-07-21 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光方法，所述化学机械抛光方法包括：利用抛光头夹持晶圆以在抛光垫上对所述晶圆进行化学机械抛光，在所述化学机械抛光过程中，所述抛光头自转且相对于所述抛光垫往复运动，其中在所述抛光头从所述抛光垫的中心向所述抛光垫的外沿移动的过程中，所述抛光头的运动速度减小，且在所述抛光头从所述抛光垫的外沿向所述抛光垫的中心移动的过程中，所述抛光头的运动速度增大。根据本发明实施例的化学机械抛光方法，可以用所述抛光头的运动速度的变化来抵消所述抛光垫不同内径上的线速度不均的影响，从而可以防止抛光垫外侧过度磨损，以减轻抛光垫磨损的不均匀性，从而可以延长抛光垫的使用寿命
化学机械抛光方法

[发明专利]具有偏移的同心凹槽图案的抛光垫以及使用其抛光基板的方法-CN201380058083.3在审
发明人：蔡庆铭;郑世伟;杨坤树;徐嘉成;刘圣焕;许丰智;C.科克约翰 -专利权人：嘉柏微电子材料股份公司
申请日： 2013-11-05 - 公布日： 2015-07-15 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光垫及一种使用该抛光垫化学机械抛光基板的方法。该抛光垫包括多个至少由多个具有第一同心中心的第一同心凹槽及多个具有第二同心中心的第二同心凹槽组成的凹槽。该第一同心中心不与该第二同心中心重合，该抛光垫的旋转轴不与该第一同心中心及该第二同心中心中的至少一个重合，所述多个凹槽不是由连续的螺旋形凹槽构成的，且抛光表面不包含镶嵌式凹槽图案。
具有偏移同心凹槽图案抛光以及使用方法

[发明专利]一种CMP复合沟槽抛光垫-CN201810875035.8在审
发明人：但文涛;张莉娟 -专利权人：成都时代立夫科技有限公司
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2018-12-14 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种CMP复合沟槽抛光垫，包括抛光垫基材和设在抛光垫基材中间的旋转中心，还包括抛光垫基材上开有的第一沟槽、第二沟槽和第三沟槽，所述第一沟槽和第二沟槽首尾相连通构成花瓣仿生的复合沟槽。所述第一沟槽是由至少2条沿抛光垫基材的径向分布且以旋转中心为起点、以抛光垫基材的边缘为终点的半圆形曲线组成的正螺旋对数状沟槽。所述第二沟槽是由至少2条沿抛光垫基材的径向分布且以旋转中心为起点、以抛光垫基材的边缘为终点的反向半圆形曲线组成的负螺旋对数状沟槽。构成的花瓣仿生的复合沟槽，使抛光液运送分布均匀，提高对晶圆的抛光去除速率，延长抛光液的驻留时间及方便废抛光液排出，在工作时沟槽不会出现堵塞。
抛光垫基材旋转中心抛光液复合半圆形曲线径向分布抛光花瓣首尾相连驻留抛光垫正螺旋晶圆排出去除堵塞运送

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