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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]抛光液-CN200810009627.8有效
  • 上村哲也;斋江俊之;吉川将 - 富士胶片株式会社
  • 2008-02-19 - 2008-09-03 - C09G1/18
  • 本发明提供一种用于抛光半导体集成电路的阻挡层的抛光液，所述抛光液包含：双季铵阳离子；腐蚀抑制剂；和胶体二氧化硅，其中所述抛光液的pH值在2.5至5.0的范围内。根据本发明，可以提供能够实现优异阻挡层抛光速率以及抑制由于固体磨料粒的聚集而引起擦伤的产生的抛光液。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光液-CN200510035557.X无效
  • 杨伟明 - 深圳市长先科技实业有限公司
  • 2005-07-04 - 2007-01-10 - C09G1/18
  • 本发明公开了一种抛光液，按重量百分比计该抛光液含有：磷酸60－90％、硫酸5－30％、液态有机酸3－10％、固体有机酸1－5％、硫脲或者多元醇0.5－3％。用于电脑铝硬盘支撑架及其他配件、精密纯铝或铝合金，含铝量≥85％的铝合金均适用，不含硝酸，属环保型化学抛光液，本抛光液主要能除去铝件经机械加工后表面的披封、氧化层，并使表面光亮度比原来表面光亮度提高一个级别以上，电脑铝合金硬盘支撑架用本抛光液抛光后比原来的电解抛光有明显的质量优势，各部位抛光亮度均匀，抛光去除的厚度接近一致，微粒(粉尘)吸附量比电解工艺下降90％。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光液-CN201610161289.4有效
  • 谢绍俊;况金权 - 博罗县东明化工有限公司
  • 2016-03-18 - 2019-02-26 - C09K13/06
  • 本发明涉及一种抛光液，包括如下质量份的各组分：磷酸1020份～1360份；硫酸367份～734份；铝离子3份～30份；强氧化剂5份～40份；缓蚀剂0.5份～10份；光亮剂0.1份～4份。上述抛光液采用磷酸、硫酸、铝离子、强氧化剂、缓蚀剂和光亮剂协同配合，可以有效地避免铝材过腐蚀的问题，并且还可以确保具有较好的抛光效果和较高的抛光效率。同时，其对人身和环境危害性也较小。此外，上述抛光液尤其适用于7系铝材的化学抛光工序。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光液-CN89104530.9无效
  • 陈翔鸿 - 上海远东纲丝针布厂
  • 1989-06-30 - 1991-01-09 - C09G1/04
  • 一种用于黑色金属零件表面抛光的抛光液，其组成是在水中加入少量的草酸铵、硫酸、磷酸、丙三醇、硫酸铝、过硫酸铵和十二烷基硫酸钠。适于在离心式抛光机中采用本抛光液对零件进行抛光，抛光速度快，并能防止零件撞击而留下的撞击痕迹。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光液-CN202211695178.3在审
  • 施翊璇;汤弢 - 纯钧新材料（深圳）有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-06-23 - C09G1/02
  • 本发明公开了一种抛光液，包括以下质量份数的组分：纳米级研磨颗粒5～25份、氧化剂0.1～0.5份和水74～94.899份，纳米级研磨颗粒为碲化铋颗粒；抛光液还包括pH调节剂，pH调节剂调节抛光液的pH值至3.5‑6.0；本发明的抛光液，提供弱酸环境，加速碲化铋晶片钝化速度，在碲化铋晶片表面形成一层钝化层，减少凹凸不平表面凹陷区域的各向同性蚀刻；并且碲化铋颗粒的硬度低，不易造成碲化铋晶片表面划伤，同时也能降低晶片表面粗糙度；纳米级碲化铋颗粒在弱酸环境下，zeta电位可以高达40mV以上，分散性好，无需添加分散剂，且不易残存在碲化铋晶片上，经过去离子水超声清洗后，表面残存碲化铋颗粒极少；抛光液中加入氧化剂，氧化剂的化学活性高
  • 抛光
  • [发明专利]抛光液输送装置-CN201110306986.1无效
  • 路新春;潘燕;许振杰;何永勇 - 清华大学
  • 2011-10-11 - 2012-02-01 - B24B57/02
  • 本发明公开了一种抛光液输送装置，所述抛光液输送装置包括：抛光液储存容器；抛光液输送管，抛光液输送管的进液端与抛光液储存容器相连；开关阀，开关阀设在抛光液输送管上用于接通和断开抛光液输送管；输送泵，输送泵设在抛光液输送管上以将抛光液储存容器内的抛光液从抛光液输送管的出液端排出，其中输送泵位于抛光液储存容器和开关阀之间；和减压阀，减压阀设在抛光液输送管上且位于输送泵和开关阀之间用于稳定抛光液的压力。通过利用抛光液输送装置输送抛光液，可以使输出的抛光液的压力和流量非常稳定，即可以使输出的抛光液均匀地分布在抛光垫上，从而大大地提高抛光效果。
  • 抛光输送装置
  • [实用新型]一种抛光液的物料分散装置-CN202122143060.7有效
  • 叶孔萌 - 江苏青昀新材料科技有限公司
  • 2021-09-06 - 2022-02-11 - B01F31/441
  • 本实用新型属于自动化设备技术领域，尤其涉及一种抛光液的物料分散装置。本实用新型，包括抛光液储存主体，所述的抛光液储存主体内设有抛光液储存腔室，所述的抛光液储存主体顶部设有进料部，所述的抛光液储存主体侧部设有出料部。本实用新型在使用时将抛光液从出料部投入至抛光液储存腔室内，对抛光液进行储存，在导出抛光液前，移动物料混合组件，通过物料混合组件将位于抛光液储存腔室内的抛光液进行推动，使得抛光液在抛光液储存腔室内进行上下对流，避免抛光液的物料分散，保持了抛光液的均一性，再通过出料部将抛光液进行导出，抛光液的使用效果较好。
  • 一种抛光物料分散装置
  • [发明专利]一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置-CN202010984677.9在审
  • 单佩;顾曹鑫 - 上海菲利华石创科技有限公司
  • 2020-09-18 - 2022-03-22 - B24B55/02
  • 本发明属于半导体技术领域，具体涉及一种石英环用的抛光液供给装置。一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置，包括抛光液桶、抛光液桶盖、搅拌装置、抛光液供给水泵、纯水桶、原液桶，纯水桶的底部通过纯水泵联通抛光液桶，原液桶的底部通过抛光液调节水泵联通抛光液桶，抛光液桶盖上设有抛光液回水口，抛光液回水口通过管路连接抛光机的抛光液出液口；抛光液桶盖上安装有音叉式密度计和温度传感器，抛光液桶的下方装有半导体制冷块，音叉式密度计分别连接纯水泵、抛光液调节水泵，温度传感器连接半导体制冷块。本发明可自动调节抛光液浓度和温度，提高抛光效率和精度，操作简单，使用方便。
  • 一种用于半导体石英抛光自动供给装置
  • [实用新型]一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置-CN202022052037.2有效
  • 单佩;顾曹鑫 - 上海菲利华石创科技有限公司
  • 2020-09-18 - 2021-02-12 - B24B55/02
  • 本实用新型属于半导体技术领域，具体涉及一种石英环用的抛光液供给装置。一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置，包括抛光液桶、抛光液桶盖、搅拌装置、抛光液供给水泵、纯水桶、原液桶，纯水桶的底部通过纯水泵联通抛光液桶，原液桶的底部通过抛光液调节水泵联通抛光液桶，抛光液桶盖上设有抛光液回水口，抛光液回水口通过管路连接抛光机的抛光液出液口；抛光液桶盖上安装有音叉式密度计和温度传感器，抛光液桶的下方装有半导体制冷块，音叉式密度计分别连接纯水泵、抛光液调节水泵，温度传感器连接半导体制冷块。本实用新型可自动调节抛光液浓度和温度，提高抛光效率和精度，操作简单，使用方便。
  • 一种用于半导体石英抛光自动供给装置
  • [实用新型]一种抛光液循环搅拌过滤冷却系统-CN201920890740.5有效
  • 黄欣;张智涛;滕宗烨;刘宏业;段文斌;白杨 - 天津扬天科技有限公司
  • 2019-06-13 - 2020-05-05 - B01F7/04
  • 本实用新型公开了一种抛光液循环搅拌过滤冷却系统，包括：抛光液搅拌罐，抛光液及水补充系统，过滤罐，抛光液出液泵、抛光液回液泵，水冷机，温度、流速、浓度监控系统等。所述抛光液及水补充系统在电磁阀的控制下将抛光液原液和纯净水排入抛光液搅拌罐，抛光液在被使用之后，通过过滤罐过滤再次被排入抛光液搅拌罐。本实用新型通过随时开启、关闭抛光液及水补充系统的电磁阀，调整冷水机的制冷温度，调整抛光液回液泵、抛光液出液泵的压力来随时改变抛光液的浓度、温度以及流速来满足不同使用情况的要求，且抛光液可循环反复利用。
  • 一种抛光循环搅拌过滤冷却系统
  • [发明专利]抛光液传输设备-CN200610148816.4有效
  • 陈肖科 - 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
  • 2006-12-28 - 2008-07-02 - B24B57/02
  • 本发明公开了一种抛光液传输设备，包括：抛光液配液装置，用于配制抛光液通过第一传输管道输出并接收第二传输管道输回的抛光液；循环泵，用于将抛光液配液装置中的抛光液通过第一传输管道抽出，再通过第二传输管道传输回抛光液配液装置；第一传输管道，用于传输循环泵从抛光液配液装置抽取的抛光液；第二传输管道，用于传输循环泵向抛光液配液装置传输的抛光液；供应盒，用于抽取第一传输管道或第二传输管道内的抛光液向化学机械抛光机台传输。本发明抛光液传输设备能够保证向化学机械抛光机台传输的抛光液的质量，从而提高了化学机械抛光的工艺质量。
  • 抛光传输设备
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