|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 35个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]一种抛光垫原料混合系统-CN202310484119.X在审
-
杨波;张莉娟
-
上海芯谦集成电路有限公司
-
2023-05-04
-
2023-08-04
-
B29B7/16
- 本发明涉及一种抛光垫原料混合系统，包括至少一个原料桶、混合桶和粉料投加装置；原料桶上设有第一加热结构；原料桶通过液体输送管道与混合桶连通，液体输送管道上设有第二加热结构；粉料投加装置包括称重机、粉料输送管道和密封件，称重机用于吊挂粉料袋，并称量粉料袋的重量，粉料袋的底部通过粉料输送管道与混合桶连通，密封件套设于粉料输送管道上，并与粉料袋的底部抵接。与现有技术相比，上述的抛光垫原料混合系统，有利于提高原料混合充分性，保证抛光垫成品的密度、硬度和压缩率的均一性，同时避免投加过程中微球体粉末飞散，提高微球体投加的效率和精度，进而提高原料混合比例的准确性，提高抛光垫的质量。
- 一种抛光原料混合系统
- [发明专利]一种散热抛光垫及其制备方法-CN202310418196.5有效
-
张莉娟
-
上海芯谦集成电路有限公司
-
2023-04-19
-
2023-07-18
-
B24B37/24
- 本发明涉及一种散热抛光垫及其制备方法，抛光垫包括抛光层，上述方法包括如下步骤：将聚氨酯混合物固化形成抛光层；聚氨酯混合物包括聚氨酯预聚物、固化剂、微球体和改性石墨烯，改性石墨烯包括羟基化石墨烯和氨基化石墨烯中的至少一种；微球体为中空球体，微球体包括乙烯的共聚物及均聚物、聚丙烯腈、聚碳酸酯、硅酮树脂和聚酯中的至少一种。与现有技术相比，上述方法通过在抛光层中添加石墨烯、微球体提高聚氨酯的热传导性能，提高了抛光垫的散热性能，通过改性石墨烯上的羟基、氨基进一步提高石墨烯、微球体在抛光层中分散性能，提高了抛光垫散热均一性，进而降低了晶圆抛光温度，提高了晶圆表面抛光质量。
- 一种散热抛光及其制备方法
- [实用新型]一种扳手-CN202320418135.4有效
-
杨波
-
上海芯谦集成电路有限公司
-
2023-03-07
-
2023-07-18
-
B25B13/48
- 本实用新型涉及一种扳手，用于开启原料桶的盖体，盖体的顶部设有凹槽，凹槽内设有保护弹片，保护弹片包括设于凹槽底部的固定部和由固定部向上延伸的保护部，扳手包括相互连接的手柄和头部，头部包括两个开盖部，两个开盖部可以相对移动，使两个开盖部伸入凹槽后，可以分别与保护部抵接。与现有技术相比，开盖部的开口宽度可以改变，从而适应原料桶上不同尺寸的桶盖，或适应桶盖顶部不同的尺寸凹槽，扩宽了扳手的适用范围，避免多个工具交换使用，提高开盖效率。
- 一种扳手
- [实用新型]用于抛光垫运输的装置-CN202320541574.4有效
-
杨波
-
上海芯谦集成电路有限公司
-
2023-03-20
-
2023-07-18
-
B62B3/02
- 本实用新型涉及一种用于抛光垫运输的装置，包括底板和滚轮，所板上固定连接第一支撑板和第二支撑板，第一支撑板和第二支撑板相对设置，第一支撑板和第二支撑板上分别设置有多个滑动机构，滑动机构包括两个滑块和两条滑轨，每个滑轨上设置一个滑块，第一支撑板和第二支撑板之间设置有多个分隔板，分隔板的一端与第一支撑板上滑动机构的两个滑块固定连接，分隔板的另一端与第二支撑板上滑动机构的两个滑块固定连接，分隔板用于放置抛光垫。从而可以将堆叠的抛光垫的数量限制在一定的范围内，避免堆叠的抛光垫过多对底层抛光垫造成损害，进而影响半导体的抛光效果。
- 用于抛光运输装置
- [发明专利]一种抛光垫清洁设备-CN202310324749.0在审
-
张莉娟
-
上海芯谦集成电路有限公司
-
2023-03-29
-
2023-07-14
-
B24B55/06
- 本发明涉及一种抛光垫清洁设备，抛光垫清洁设备包括工作台、设于工作台上的抛光垫固定台和清洁组件；抛光垫固定台上设有用于放置抛光垫的承载面，承载面上分布有多个气孔，气孔用于与真空泵连通，抛光垫固定台与工作台转动连接，使抛光垫固定台能够绕自身中心轴线转动；清洁组件与抛光垫固定台相对设置，用于清洁抛光垫。与现有技术相比，本发明在抛光垫固定台上设有气孔，气孔可以与真空泵连通，通过吸力将抛光垫紧密固定在承载面上，因此当抛光垫固定台绕工作台转动时，可以带动抛光垫相对于清洁组件转动，使得清洁组件可以对抛光垫上各个位置的碎渣进行清洁，有效提高了抛光垫清洁效率。
- 一种抛光清洁设备
- [发明专利]一种抛光垫浇注模具-CN202310281180.4在审
-
杨波;张莉娟
-
上海芯谦集成电路有限公司
-
2023-03-20
-
2023-06-23
-
B29C39/26
- 本发明涉及一种抛光垫浇注模具，模具包括模具本体，模具本体内设有原料容纳腔，模具本体的顶部设有与原料容纳腔连通的浇注孔，模具本体的底部设有至少三个支脚，支脚与模具本体之间设有高度调节结构。与现有技术相比，该抛光垫浇注模具在使用过程中，可以通过浇注孔向原料容纳腔内浇注抛光垫原料，并依次控制多个高度调节结构调节支脚与模具本体，使得模具本体底部的每一个位置与模具放置台面的距离相等，即模具底部与模具放置台面完全平行，从而保证模具整体水平度良好，进而提高抛光垫浇注体厚度均一性；也可以在浇筑前调整模具本体的水平度，避免模具本体内的原料在水平度调好前凝固。
- 一种抛光浇注模具
|
