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[发明专利]在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法-CN201310693376.0有效
发明人：姜珊;巴音贺希格;宋莹;李文昊;潘明忠 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2013-12-17 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： G02B5/32 文献下载
摘要：一种在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法，涉及光谱技术领域，要解决的技术问题是提供一种高精度调整干涉条纹方向的方法，解决技术问题的技术方案为：将基准光栅置于二维运动工作台上；配备一套扫描曝光光路；调节反射镜使曝光光束均满足Littrow条件；沿扫描方向移动工作台，根据CCD上观察到的干涉图样变化情况调节基准光栅方向；调节平面反射镜，使两光束在位置PSD和角度PSD上重合。采用本发明所述的方法能精确调节干涉条纹方向，为扫描干涉场曝光系统在扫描过程中的对比度提供了保证，对扫描曝光全息光栅的制作具有较大的实际意义。
扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向方法

[发明专利]一种PCB线路板盲孔层负片流程工艺-CN201811652480.4在审
发明人：黄孟良;喻智坚 -专利权人：长沙牧泰莱电路技术有限公司
申请日： 2018-12-31 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种PCB线路板盲孔层负片流程工艺，包括以下步骤：A.开料：使用开料机将板料裁切成工程设计的Pnl尺寸；B.钻孔：在PCB板上钻出板边定位孔以及盲孔；C.沉铜加厚：通过沉铜板电线进行沉铜加厚；D.化学清洗：在化学清洗线将PCB板清洗干净；E.线路曝光：在PCB板表面贴上干膜后使用曝光机及负片菲林进行线路曝光；F.蚀刻：线路曝光后的PCB板通过插架转移至蚀刻工序进行蚀刻处理；G.检验：蚀刻后的线路板使用胶框将PCB板转移至AOI工序进行扫描检测。本发明使用曝光机和负片菲林对PCB线路板进行曝光操作，相较于使用曝光机和正片菲林对PCB线路板进行曝光操作，减少了PCB板线路镀锡工序，减少了制作时长，相应的减少了制作成本。
一种 pcb 线路板盲孔层负片流程工艺

[发明专利]扫描式曝光系统及其数据缓存及调度方法和装置-CN202011096747.3在审
发明人：卞洪飞 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G06F12/0895 文献下载
摘要：本发明公开了一种扫描式曝光系统及其数据缓存及调度方法和装置，扫描式曝光系统包括串行连接的用于缓存数据的第一存储器和第二存储器，方法包括以下步骤：在扫描式曝光系统曝光前，将第一存储器缓存的数据搬运至第二存储器进行存储；在扫描式曝光系统曝光过程中，若第二存储器读取数据并输出显示，则使用第一存储器缓存数据；若第二存储器不读取数据且未存满，则将第一存储器缓存的数据搬运至第二存储器进行存储。本发明通过两个存储器串行缓存方式以及两个存储器之间数据调度，可充分利用存储器容量并利用存储器带宽，从而满足扫描式曝光系统中数据准实时准备并可有效避免数据“超速”问题，并进一步提高扫描式曝光系统的产能。
扫描曝光系统及其数据缓存调度方法装置

[发明专利]彩色滤光片中拼接曝光方法-CN201410701000.4有效
发明人：李亚明 -专利权人：南京中电熊猫液晶材料科技有限公司
申请日： 2014-11-28 - 公布日： 2015-03-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是彩色滤光片中拼接曝光的方法，包括；1）拼接曝光要在彩色滤光片的第一道制程BM制程制作对位mark及拼接mark，需要在拼接的区域为两侧曝光的公共区域,即此拼接区域会被两侧两次重复曝光；2）拼接曝光在RGB的制程须依据BM制程的对位mark实施曝光,需要确认其拼接mark的套合精度；3）拼接曝光在PS制程中可依据BM制程的对位mark实施正常曝光。3）使用价格较低廉的接近式曝光机替代扫描式曝光机，工艺简单。
彩色滤光片中拼接曝光方法

[实用新型]一种双台面直写式曝光机-CN201921775702.1有效
发明人：章卫平;刘栋;蔡瑞;朱道龙;李伟成;张雷 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2019-10-22 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种双台面直写式曝光机，所述直写式曝光机包括底座、设置于底座上的龙门机构、顺序设置于龙门机构的对位机构和曝光机构，设置于所述底座平行排列的沿扫描方向y方向延伸的导轨，分别设置于所述导轨上的第一工作台运动和第二工作台，所述第一工作台和所述第二工作台均包括置于所述导轨上的z轴运动机构、连接于所述z轴运动机构的基板台面，z轴运动机构带动基板台面在z轴方向上下滑动，所述曝光机构包括固定于龙门机构的x方向排列的多个镜头。曝光机构采用固定镜头的方式，单条带完成曝光操作，无需再通过移动曝光机构完成曝光，曝光机构稳定设置，提高曝光精度。
一种台面直写式曝光

[发明专利]一种DMD倾斜扫描的3D打印装置及方法-CN201811141753.9在审
发明人：胡益铭;周金运 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： B29C64/264 文献下载
摘要：本发明提供一种DMD倾斜扫描的3D打印装置及方法，装置包括控制系统，DMD倾斜扫描系统和位移平台，其中，所述的DMD倾斜扫描系统固定于位移平台之上，DMD倾斜扫描系统、位移平台均由所述的控制系统控制。所述的控制系统首先控制位移平台做好曝光准备，其次控制DMD倾斜扫描系统生成倾斜点阵列，最后控制位移平台扫描倾斜点阵列，倾斜点阵列上的亮点之间的重叠曝光产生线条或图案，并进行光固化，完成一层曝光面；重复上述步骤,逐层完成曝光面，最终成型为期望物体。本发明采用扫描曝光成型，实现在一次成型过程中打印大幅面积的期望成型物体，大幅度提高重复打印效率，也能够在单个幅面重复打印多个期望成型物体，提高单幅打印面积。
位移平台扫描系统控制系统点阵列扫描成型物体打印装置重复打印曝光面期望成型打印幅面曝光扫描曝光一次成型光固化线条图案重复

[发明专利]一种用于提高扫描头移动扫描效果的自动曝光方法-CN202111596153.3在审
发明人：张轩;徐佳;郑清水 -专利权人：杭州荣旗科技有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：一种用于提高扫描头移动扫描效果的自动曝光方法，属于扫描技术领域。本发明通过读取扫描头图像传感器上输出的原始图像，将原始图像转换为YUV色彩空间以获取图像的亮度信息；Y即图像的亮度信息通过该图像的亮度信息的亮度值计算出图片的平均亮度；通过测光获取的亮度值与目标亮度区间进行对比，当前亮度值如果落在目标亮度区间，则该帧曝光时间不进行改变；当亮度值小于设定的最小亮度值，则曝光时间以10倍或者20倍步长进行调整，直到达到目标亮度或者最长曝光时间；当亮度值处于设定的最小亮度和最大亮度之间时采用除法即目标亮度除以当前亮度，进行曝光时间调整本发明解决了扫描头在移动扫描的过程中无法识别的问题，有效的提高了移动扫描速度。
一种用于提高扫描移动效果自动曝光方法

[发明专利]一种用于面曝光式粉末床熔融增材制造的激光光路系统-CN202011629521.5有效
发明人：严鹏飞;严彪 -专利权人：同济大学
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2023-02-07 - 主分类号： B29C64/268 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于面曝光式粉末床熔融增材制造的激光光路系统，包括激光源、超高速振镜组、底片扫描模块及多级激光放大模块，所述激光源用于持续发出初射激光，所述超高速振镜组用于以高速扫描的方式使激光源发出的初射激光陆续投入底片扫描模块，所述底片扫描模块将底能量的种子光源进行单色光整形成所需的曝光形状并初放大，然后输出到多级激光放大模块；所述多级激光放大模块用于对底片扫描模块投入过来的光路进行增强，以达到每个阵列点所需能量，最终输出单层面曝光所需的图案与现有技术相比，本发明打破了传统技术中较慢的多点扫描曝光方式，而通过面曝光扫描方式的光路系统，有望彻底打破目前的打印速度瓶颈。
一种用于曝光粉末熔融制造激光系统

[发明专利]一种平面全息光栅扫描曝光装置的调试方法-CN201810132412.9有效
发明人：巴音贺希格;宋莹;唐玉国;姜珊;李文昊;齐向东 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2018-02-09 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种平面全息光栅扫描曝光装置的调试方法，便于快速完成装置的调试，缩短测试时间，可以利用毫米级干涉图样进行平面全息光栅的扫描曝光，避免了传统平面全息光栅曝光装置中，大口径光学元件上的瑕疵对光栅制作的影响，且可以对曝光过程中的扰动进行扫描均化，系统组成较为简单、成本较低、对环境要求较低。
平面全息光栅扫描曝光装置调试全息光栅曝光装置大口径光学元件传统平面干涉图样光栅制作环境要求曝光过程扫描曝光完成装置系统组成扰动毫米级均化瑕疵扫描测试

[发明专利]基于数字微镜阵列的紫外曝光机及其控制方法-CN201610571229.X在审
发明人：马颖鏖 -专利权人：马颖鏖
申请日： 2016-07-20 - 公布日： 2016-09-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于数字微镜阵列的紫外曝光机及其控制方法，所述紫外曝光机包括数字微镜阵列和光源，所述数字微镜阵列和光源之间设置有照明光学装置，其中，所述数字微镜阵列和成像面之间设置有前组光学装置和画像分割装置本发明提供的基于数字微镜阵列的紫外曝光机及其控制方法，能够将原来不被利用的数字微镜阵列的部分，在和扫描方向相交的方向上平移后成像，使光刻宽度变大，实现大面积的一次扫描曝光，提高工作效率。
基于数字阵列紫外曝光及其控制方法

[发明专利]多能谱CT扫描方法、装置、电子设备和CT设备-CN202011390994.4有效
发明人：任彦 -专利权人：赛诺威盛科技(北京)股份有限公司
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G01N23/046 文献下载
摘要：本申请提供了一种多能谱CT扫描方法、装置、电子设备和CT设备，其中，多能谱CT扫描方法，包括：按照曝光点的数量对射线源电压进行采样，得到多个采样电压，所述射线源电压按周期性变化，所述采样电压与所述曝光点一一对应；获取每个采样电压对应的曝光点的第一扫描数据；基于所述第一扫描数据对每个采样电压进行扫描数据补全，得到每个采样电压下所有曝光点的第二扫描数据；对所述第二扫描数据进行重建得到每个采样电压下的CT图像。第一扫描数据为当前采样电压在某一角度下的扫描数据，通过扫描数据补全的方法，得到当前采样电压在所有角度下的扫描数据，进而可以实现多能谱CT，大幅增强CT的材料分辨能力。
多能 ct 扫描方法装置电子设备设备

[发明专利]一种用于3D扫描图像匹配的工业相机及系统-CN201510677870.7在审
发明人：张献祖 -专利权人：上海方诚光电科技有限公司
申请日： 2015-10-20 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于3D扫描图像匹配的工业相机及系统，该系统包括上位机，主相机，从相机。上位机和主相机与所有从相机连接通讯，主相机与所有从相机连接通讯。通过控制主从相机的曝光时间，并引入曝光计数作为图像匹配的依据，精确控制多个工业相机的曝光时间的一致性。本发明保证了多相机获取的影像在时间和空间上的一致性。
一种用于扫描图像匹配工业相机系统

[发明专利]摄像装置以及具备该摄像装置的摄像机系统-CN201780016626.3有效
发明人：春日繁孝;田中毅 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2017-04-05 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： H04N5/351 文献下载
摘要：摄像装置(100)，(i)在第一垂直扫描期间设置第一帧的曝光期间，在第二垂直扫描期间设置第一帧的读出期间之后，在第三垂直扫描期间设置第二帧的曝光期间之前的第一定时，变更所述雪崩光电二极管(APD)的倍增率，或者(ii)在第一垂直扫描期间设置第一帧的曝光期间之后，在第二垂直扫描期间同时设置第一帧的读出期间和第二帧的曝光期间之前的第二定时，变更所述雪崩光电二极管(APD)的倍增率。
摄像装置以及具备摄像机系统

[发明专利]一种激光器多点线性机械扫描成像的装置及其使用方法-CN201811303507.9在审
发明人：陈乃奇;黄文辉;陈奔驰 -专利权人：深圳市先地图像科技有限公司
申请日： 2018-11-02 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光器多点线性机械扫描成像的装置及其使用方法，包括曝光台，所述曝光台上安装有横梁和感光胶承载台，横梁上设有阵列分布的激光器，曝光台上配合横梁安装有驱动电机和齿条滑轨；在曝光台上，激光器和横梁可以利用驱动电机和齿条滑轨沿X向做机械往复扫描和Y向做机械往复扫描；最终的图像会刻画在安装有涂覆有感光胶体的感光胶承载台上；计算机解析图像后，根据具体的图像，控制激光器的打开与关闭，完成对感光胶的扫描曝光；冲洗掉未曝光的胶体，得到最终图像通过本发明提出的一种激光器多点线性机械扫描成像的装置及其使用方法，节省时间和成本，图像精度高，曝光幅面可加宽，设计的幅面可以扩大到更多应用场所。
激光器扫描成像线性机械曝光感光胶横梁图像幅面齿条滑轨驱动电机往复扫描计算机解析控制激光器感光胶体横梁安装扫描曝光阵列分布最终图像承载台多应用曝光台加宽涂覆冲洗承载刻画配合

[发明专利]曝光装置和曝光方法-CN202110295488.5在审
发明人：奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2021-03-19 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供曝光装置和曝光方法，即使在狭小的区域中也能够高精度地检测曝光位置。曝光装置(10)具有遮光部(40)，该遮光部(40)设置有沿着主扫描方向(X)排列的第1缝隙(SU1)和第2缝隙(SU2)，该曝光装置(10)使配置有正方形状的子图案(PT1～PT5)的X型的离散的位置检测图案(PT)的光相对于遮光部(40)的第1、第2缝隙(SU1、SU2)沿着主扫描方向(X)进行扫描。
曝光装置方法

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