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[发明专利]曝光装置和布线图案的制作方法-CN202211088146.7在审
发明人： 奥山隆志;渡边徹 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2022-09-07 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置和布线图案的制作方法。在半导体封装制造工艺等中，进行能够抑制吞吐量降低的布线的图案化。在FO‑WLP的曝光工艺中，测定配置在临时的基板(B)上的半导体芯片(SC)之间相对于基准位置的位置偏移量。根据区域内布线图案(AD)的形成位置校正，进行针对区域外布线图案(BD)的形成位置的校正和缩放校正，并且生成圆弧状的补充布线图案(CD)。然后，将校正后的区域内布线图案(AD)、区域外布线图案(BD)、生成的圆弧状的补充布线图案(CD)合成为光栅数据。
曝光装置布线图案制作方法

[发明专利]曝光装置和曝光方法-CN202110295488.5在审
发明人： 奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2021-03-19 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供曝光装置和曝光方法，即使在狭小的区域中也能够高精度地检测曝光位置。曝光装置(10)具有遮光部(40)，该遮光部(40)设置有沿着主扫描方向(X)排列的第1缝隙(SU1)和第2缝隙(SU2)，该曝光装置(10)使配置有正方形状的子图案(PT1～PT5)的X型的离散的位置检测图案(PT)的光相对于遮光部(40)的第1、第2缝隙(SU1、SU2)沿着主扫描方向(X)进行扫描。
曝光装置方法

[发明专利]曝光装置和曝光方法-CN202011336751.2在审
发明人： 奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2020-11-25 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置和曝光方法。能够使曝光点均匀分散的新的多重曝光。在曝光装置(10)中，通过基于下述式(1)的上述间距(P)进行多重曝光动作。通过设定基准曝光点在单位曝光区域内的位置，使曝光点在多个曝光点线之间依次移动，从而使曝光点在主扫描方向(X)和副扫描方向(Y)上分散。其中，将固定的间距间隔设为P，将光调制元件的单位曝光区域设为C，将m设为2以上的整数，将n设为任意的整数，将u设为比m小的整数，将a设为比C小的值，满足P＝(n+u/m)C+a。
曝光装置方法

[发明专利]曝光装置和曝光方法-CN202011470253.7在审
发明人： 奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2020-12-15 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置和曝光方法。在曝光装置中，平滑地形成图案倾斜线。在曝光装置(10)中，矢量数据处理电路(40)将轮廓(BD0)的矢量数据变换为向±X方向(轮廓线外侧和/或在轮廓线内侧方向)移位后的轮廓线校正矢量数据(BD+)，并通过交替使用原始轮廓线矢量数据(BD0)和轮廓线校正矢量数据(BD+)来执行多重曝光动作。
曝光装置方法

[发明专利]曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统-CN201610971760.6有效
发明人： 奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2016-10-28 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统，其能够在保持图案像的清晰度的同时，提高吞吐量。在曝光装置中，具备分别由分割镜和引导镜构成的平行平面的组即6个反射镜对的图像分割光学系统(30)将来自DMD(22)的图案像按照DMD(22)的分割区域(DM1～DM6)而分割成6个，以使6个分割图案像(DA1～DA6)沿着主扫描方向X、副扫描方向Y而彼此分开的方式移动投影位置。
曝光装置投影光学系统

[发明专利]曝光装置-CN201510881762.1有效
发明人： 奥山隆志;菊地信司 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2015-12-03 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：曝光装置，在该曝光装置中，简单且精度良好地检测或确认对焦状态。一边使载台(12)移动，一边向形成有缝隙(ST1～ST6)的遮光部(40)投影由条形图案(PL1～PL4)构成的图案列(PT)，由此从光电传感器(PD)输出光量信号。然后，基于根据光量信号求出的振幅比(M)，判断是否维持在对焦状态。
曝光装置

[发明专利]曝光装置-CN201110240580.8无效
发明人：鹫山裕之;奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2011-08-19 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置，能够进行没有曝光不均的重叠曝光，形成高精度的图案。在使曝光区向主扫描方向倾斜的状态下执行重叠曝光动作时，伴随DMD的有效区域的设定来计算曝光间距。由于能够调整曝光间距，因而即使产生曝光条件、曝光装置机构的问题等，也能够成为使曝光点分布均匀分散的分布状态，能够形成没有曝光不均的高精度的图案。
曝光装置

[发明专利]描绘装置及描绘方法-CN200810185054.4无效
发明人： 奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2008-12-26 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供描绘装置及描绘方法。通过简单的结构来提高描绘处理速度并形成高精度的图案。在DMD中规定6个部分调制区域(D1～D6)，根据与1个部分调制区域的宽度相对应的曝光间距(RS)，进行利用分步重复的多重曝光动作。在各曝光动作中，基于光栅数据(描绘数据)，规定控制微镜的曝光ON区域(M_ON)、和将部分调制区域的微镜整体设定为OFF状态的曝光OFF区域(M_OFF)，通过位于曝光ON区域(M_ON)的部分调制区域的微镜来向基板(SW)照射光。而且，每进行曝光动作时对构成曝光ON区域(M_ON)和曝光OFF区域(M_OFF)的部分调制区域的组合进行更新，变更曝光ON区域(M_ON)和曝光OFF区域(M_OFF)以使曝光ON区域(M_ON)循环移位。
描绘装置方法

[发明专利]光刻系统-CN200810144924.3无效
发明人： 奥山隆志;小林义则 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2008-08-07 - 公布日： 2009-02-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻系统。该光刻系统具有至少一个空间光调制器、构造成使曝光区域相对于目标对象沿扫描方向运动的扫描机构、多个存储器(第1个至第N个存储器)、数据处理器和曝光控制器。该曝光区域限定为所述空间光调制器的投射区域。所述多个存储器与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对应。所述数据处理器根据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据，所述曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件。所述数据处理器在第1存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第1个至第N－1个存储器中的曝光数据分别移位至第2个至第N个存储器。
光刻系统

[发明专利]绘图装置-CN200810109033.4有效
发明人： 奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2008-05-23 - 公布日： 2008-12-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在增加使用DMD组件的绘图速度而提高生产性的情形中，缩短DMD组件的微型反射镜的切换时间而提高生产性。绘图装置(100)包括：DMD组件(41)，具有数组状配置的复数个微型反射镜M；光源(10)，对于微型反射镜M供给曝光光线；偏压电压控制部(83)，施加使微型反射镜M设定于第一状态的第一电压，使曝光光线朝被曝光面(CB)导引，且施加使反射组件设定于第二状态的零电压，曝光光线不到达被曝光面。
绘图装置

[发明专利]曝光数据产生装置-CN200710159754.1有效
发明人： 奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2007-12-21 - 公布日： 2008-06-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光数据产生装置。所述曝光数据产生装置包括第一存储器、第二存储器和曝光数据存储器。第一存储器按位图格式存储绘图数据，作为用于曝光的第一数据。第二存储器存储第二数据，根据所述第一数据，所述第二数据在列方向的数据单位被转换为各个单元的信息的分辨率单位。曝光数据存储器存储曝光数据，所述曝光数据是通过在每个列单位的对第三数据的脉冲传输而获得的光栅数据。将第二数据重新排列并转换为第三数据，其中，将第二数据在列方向的各个单元的数据排列改变为行方向。所述单元构成根据所述曝光数据进行曝光的数字微镜装置的显示元素。
曝光数据产生装置

[发明专利]曝光装置-CN200710188799.1无效
发明人： 奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2007-11-20 - 公布日： 2008-06-04 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明提供不会将电路构成作为复杂化、考虑藉由DMD被照射的位置而制作曝光数据的装置。曝光装置(1)具备制作基于作为在曝光用中被使用的向量数据的绘制数据而被制作的网格数据的曝光数据的控制部(10)，且具备被使用在曝光用、具有基于曝光数据被驱动的DMD的曝光部(15)，并具备具有藉由DMD被照射的绘制区域(23)、以及位置检测部(22)的绘制部(20)，其中位置检测部(22)具有PD群，其具有检测出有关于藉由DMD被照射的位置的信息的发光二极管。控制部(10)考虑有关于藉由位置检测部(22)而被检测出的位置的信息，制作曝光数据。
曝光装置

[发明专利]多重曝光装置-CN200710169544.0有效
发明人： 奥山隆志 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2007-11-09 - 公布日： 2008-05-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供以不使数据转送的规模扩大而进行从控制部朝装置头部的数据转送的装置。多重曝光装置(1)具备在作为基于作为在连续而被复数进行的曝光用中被使用的向量数据的绘制数据而被作成的网格数据的复数的曝光数据中、基于前后曝光数据间的差异而作成差异数据的曝光数据产生部(11)。具备具有在曝光用中被使用的DMD(33)、以及基于差异数据驱动DMD的组件控制部(31)的装置头部(30)。
多重曝光装置

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