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[发明专利]图案选择系统和方法-CN202211133960.6在审
发明人：刘梦;陈炳德;邵德保;伍健一;陈浩;艾曼·哈穆达;程建华 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2022-09-16 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：描述了为半导体晶片的设计布局选择优化的、几何多样化的片段子集。所述设计布局的完整表示被接收到。所述设计布局的代表性片段集合被确定，使得各个代表性片段包括所述设计布局的一个或多个独特图案的不同组合。所述代表性片段的子集基于所述一个或多个独特图案来选择。所述代表性片段的所述子集被配置为包括：(1)最小数量的代表性片段中的每个几何独特图案；或者(2)最大数量的代表性片段中尽可能多的所述设计布局的几何独特图案。
图案选择系统方法

[发明专利]图案化波长选择性膜-CN201980047965.7在审
发明人：陈葵;道格拉斯·S·邓恩;马修·S·斯泰;丹尼尔·J·泰斯;约翰·T·施特兰德;肖恩·C·多兹;托马斯·J·梅茨勒;凯文·W·戈特里克;斯科特·J·琼斯 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： B32B3/18 文献下载
摘要：本发明公开了对粘合剂区域使用选择性地定位的阻隔件的图案化波长选择性材料和用于制备该图案化波长选择性材料的方法。结构薄弱的波长选择性材料包括接触粘合剂区域并断裂以保持与粘合剂接触的部分。波长选择性材料不接触被阻隔件覆盖的粘合剂区域并被移除，从而在粘合剂区域处留下呈一定图案的波长选择性膜。
图案波长选择性

[发明专利]图案化波长选择性图像-CN201980048739.0在审
发明人：陈葵;肯尼思·L·史密斯;道格拉斯·S·邓恩;蒂安·Y·T·H·怀廷;约翰·A·惠特利;布赖恩·T·怀廷;泰勒·J·科比;安东尼·F·舒尔茨;杜安·D·范斯勒;乔纳·谢弗 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2019-07-23 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： F21V3/10 文献下载
摘要：波长选择性膜在选择性波长下是明显可见的。波长选择性膜通常偏轴反射选定的波长，因此当以一定图案施加在基底上时可提供相对于背景的高对比度。然而，难以从膜施加独特图案化的嵌入图像。本发明公开了一种将图案化波长选择性图像到基底的具有成本效益的方法和构造。在本发明所公开的波长选择性图像中，将波长选择性膜颗粒施加到粘合剂图案以产生波长选择性图像。
图案波长选择性图像

[发明专利]图案化波长选择性膜-CN201980048837.4在审
发明人：陈葵;道格拉斯·S·邓恩;蒂安·Y·T·H·怀廷;布赖恩·T·怀廷;泰勒·J·科比;安东尼·F·舒尔茨;杜安·D·范斯勒;乔纳·谢弗;约翰·A·惠特利;苏姗娜·C·克利尔;丹尼尔·J·泰斯;约翰·T·施特兰德;托马斯·J·梅茨勒;凯文·W·戈特里克;斯科特·J·琼斯 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2019-07-23 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本发明所公开的图案化波长选择性材料和用于制备该图案化波长选择性材料的方法使用图案化施加的粘合剂和结构薄弱的波长选择性材料，该结构薄弱的波长选择性材料包括接触粘合剂并断裂以保持与粘合剂接触的部分。在一个实施方案中，波长选择性材料包括具有切口的区段的阵列，该切口在固定到粘合剂的每个区段处至少部分地穿过波长选择性膜。在另一个实施方案中，该波长选择性膜包括转移层叠堆。
图案波长选择性

[发明专利]装饰面图案选择、打印系统及智能选择、处理方法-CN201710577581.9在审
发明人：李星 -专利权人：李星
申请日： 2017-07-15 - 公布日： 2017-11-03 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种装饰面图案选择、打印系统及智能选择、处理方法，装饰面图案选择、打印系统包括用户终端、数据库服务器、数码印刷机；用户终端，被配置为查询、调用数据库服务器的素材；接收用户选择信息；数据库服务器，被配置为展示素材以允许客户预览和选择所述素材；接收用户终端发送的调用数据库服务器的素材指令；将选择的素材返回给用户终端；数码印刷机，被配置为可以将用户终端选择的素材方案打印出来。本发明采用用户终端选择数字模式的装饰面图案，方便从已有的数据库中选择各种素材搭配，不再需要前端人员针对每种方案进行单独开发，节约了成本，提高了装饰面图案选择效率。
装饰图案选择打印系统智能处理方法

[发明专利]辅助选择图案单元用于图案匹配的装置、方法和程序-CN200510065047.7有效
发明人：佐野洋;早川有美;今村淳志;西原荣治 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-04-11 - 公布日： 2005-11-23 - 主分类号： G01B11/03 文献下载
摘要：提供一种辅助选择图案单元用于图案匹配的装置和方法，该装置包括：图案单元提取器(51)，由计算机执行其功能之一，从基准图像中提取多个图案单元，基准图像的一区域被显示在显示器(45)上；输入部分(46)，接受操作者从多个图案单元之中选出一个图案单元作为基准单元的选择；鉴别校验器(52)，检查所选图案单元是否可区别于其他图案单元和是否可用作为用于图案匹配的基准图案单元。将检查结果通报给操作者，通过参照鉴别校验器(52)所进行的检查结果，从基准图像中的图案单元之中选出一个适当图案单元，作为基准图案单元。因此，能够防止在图案匹配中检测目标图像相对于基准图像的位置时所用基准图案单元的错误识别。
辅助选择图案单元用于匹配装置方法程序

[发明专利]选择性图案镀层的引线框-CN201811558851.2在审
发明人：宋美江;阿伦·马菲尔·德斯卡丁;小马里兰奥·L·京;张立栋;李军 -专利权人：恩智浦美国有限公司
申请日： 2018-12-19 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： H01L23/495 文献下载
摘要：一种用于装配半导体器件的铜基引线框，包括：多个布置在管芯垫层周围的引线指，所述引线指在管芯垫层外延伸，每个引线指具有接近管芯垫层的近端和远离管芯垫层的远端。金属镀层形成在引线指上，其中第一引线指具有镀在近端的金属镀层，第二引线指具有镀在远端的金属镀层。第一引线指和第二引线指交替的配置在管芯垫层周围。
选择性图案镀层引线

[发明专利]用于布局图案选择的方法和设备-CN202080011671.1在审
发明人：陈伟杰 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-01-10 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本文中描述一种用于在布局图案化过程中确定训练图案的方法。所述方法包括：从图案集合中的图案产生多个特征；基于多个所产生的特征的相似性，将所述图案集合中的所述图案分组成单独的组；以及从所述单独的组选择代表性图案以确定所述训练图案。在一些实施例中，所述方法是用于在布局图案化过程中训练机器学习模型的方法。例如，所述方法可以包括将来自所述单独的组的代表性图案提供至所述机器学习模型以训练所述机器学习模型预测用于所述布局图案化过程中的光学邻近效应校正(OPC)的连续透射掩模(CTM)映射。
用于布局图案选择方法设备

[发明专利]用于光刻术模型校准的图案选择-CN200910212013.4有效
发明人：曹宇;叶军;邵文晋;R·J·G·古森斯 -专利权人：睿初科技公司
申请日： 2009-11-06 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明主要涉及用于光刻模型校准的图案选择的方法和设备。根据一些方面，本发明的图案选择算法可以被应用于任何已有的候选测试图案池。根据一些方面，本发明自动地选择这些测试图案，其能够更有效地由已有的候选测试图案池来确定优化的模型参数值，如与设计优化图案相反。根据另外的方面，根据本发明的已选择的测试图案组能够激发模型公式中的所有已知的物理和化学特性，确保测试图案的晶片数据可以将模型校准推动成优化的参数值，其实现了由模型公式施加的预测精度的上边界。
用于光刻模型校准图案选择

[发明专利]用于减少干扰的天线辐射图案选择-CN201580047276.8有效
发明人： V·施特罗姆;S·帕特尔;S·马汀 -专利权人：鲁库斯无线公司
申请日： 2015-07-15 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： H04B17/12 文献下载
摘要：电子设备基于与第二电子设备的反馈处理，迭代地确定优化的发射天线辐射图案和优化的接收天线辐射图案。首先，电子设备使用具有不同发射空间定向的发射天线辐射图案集合来向第二电子设备发射传出消息。电子设备基于来自该第二电子设备的吞吐量反馈，选择优化的发射天线辐射图案。然后，电子设备基于使用具有不同接收空间定向的接收天线辐射图案集合所接收的来自第二电子设备的传入消息的吞吐量，选择优化的接收天线辐射图案。注意，发射天线辐射图案和接收天线辐射图案可以减小或消除电子设备和第二电子设备之间的干扰。
用于减少干扰天线辐射图案选择

[发明专利]用于减少干扰的天线辐射图案选择-CN202010767123.3有效
发明人： V·施特罗姆;S·帕特尔;S·马汀 -专利权人：鲁库斯无线公司
申请日： 2015-07-15 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： H04B7/04 文献下载
摘要：本发明涉及用于减少干扰的天线辐射图案选择。电子设备基于与第二电子设备的反馈处理，迭代地确定优化的发射天线辐射图案和优化的接收天线辐射图案。首先，电子设备使用具有不同发射空间定向的发射天线辐射图案集合来向第二电子设备发射传出消息。电子设备基于来自该第二电子设备的吞吐量反馈，选择优化的发射天线辐射图案。然后，电子设备基于使用具有不同接收空间定向的接收天线辐射图案集合所接收的来自第二电子设备的传入消息的吞吐量，选择优化的接收天线辐射图案。注意，发射天线辐射图案和接收天线辐射图案可以减小或消除电子设备和第二电子设备之间的干扰。
用于减少干扰天线辐射图案选择

[发明专利]基于梯度的图案和评价点选择-CN201380028427.6有效
发明人：刘晓峰;R·C·豪威尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2013-05-13 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在此描述了一种用于光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用光刻成像设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述光刻过程具有多个设计变量，所述方法包括相对于至少一个设计变量，计算光刻过程的多个评价点或图案中的每个的梯度；以及基于所述梯度来从所述多个评价点或图案中选择评价点的子组。
基于梯度图案评价选择

[发明专利]选择性的感应双图案化-CN200980117766.5有效
发明人： S·M·列扎·萨贾迪 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-05-08 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供一种用于形成半导体特征的电感耦合功率(ICP)等离子处理室。提供等离子处理室，包括真空室、至少一个邻近该真空室用以在该真空室提供电感耦合功率的天线、用于在该等离子处理室内支撑硅衬底的衬底支撑件、压强调节器、用于将气体提供到该等离子处理室中的气体入口和用于从该等离子处理室排除气体的气体出口。气体分配系统与该气体入口流体连通，用以提供第一气体和第二气体，其中该气体分配系统可在小于5秒的周期内用该第一气体和该第二气体之一基本上替换该等离子区域中的该第一气体和该第二气体中的另一个。
选择性感应图案

[实用新型]一种可选择图案的文胸-CN201420103203.9有效
发明人：朱利民;刘凯琳 -专利权人：东华大学
申请日： 2014-03-07 - 公布日： 2015-01-21 - 主分类号： A41C3/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种可选择图案的文胸，包括罩杯和罩杯连接带，所述的罩杯包括基体层和包覆在基体层外的面料层，所述的基体层为人体肉色，采用纯棉或者化纤材料由针织编织而成，所述的面料层为透明层并由透明材料编制而成，所述的罩杯的面料层位于罩杯的中部有一弧形开口，所述的弧形开口用于将带有图案的热转印烫画布放置在罩杯的基体层和面料层之间。本实用新型可根据个性需求通过文胸罩杯上的弧形开口将带有图案的热转印烫画布放置在罩杯的基体层和面料层之间，通过熨斗的熨烫即可将图案印在文胸所需要的部位，图案样式丰富多彩，避免了文胸图案单一不能自己选择的缺陷
一种可选择图案文胸

[发明专利]用于源和掩模优化的图案选择方法-CN201080048248.5有效
发明人：刘华玉;李江伟;李志潘;陈洪;陈洛祁;张幼平;叶军;蔡明村;陆颜文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-10-26 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及从设计选择图案子组的方法、执行源和掩模优化的方法以及用于执行从设计选择图案子组的方法的计算机程序产品图案子组。根据具体方面，本发明允许覆盖全部设计的同时，通过智能地从设计中选择图案子组降低计算成本，其中设计或设计的修正被配置成通过光刻过程被成像到衬底上。该从设计选择图案子组的方法包括从设计识别与该设计的预定表示相关的图案组。通过根据该方法选择图案子组，所选定的图案子组构成作为该图案组的所述设计的类似的预定表示。
用于优化图案选择方法

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