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[发明专利]同轴透视对准成像系统-CN202180057379.8在审
发明人：安东·J·德维利耶;安东尼·R·舍皮斯;大卫·康克林 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：例如，在该成像系统中，第一光源可以产生第一波长的第一光束，第二光源可以产生第二波长的第二光束，该第二光束具有足以穿过晶圆厚度的至少一部分的功率，对准模块可以将该第二光束与该第一光束同轴对准，同轴模块可以将该同轴对准的第一光束和第二光束分别聚焦到位于该晶圆正面的第一图案上和位于该第一图案下方的第二图案上
同轴透视对准成像系统

[实用新型]掩模对准系统及光刻设备-CN202120367151.6有效
发明人：李志丹;孙俊阳;覃宗伟 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-02-09 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种掩模对准系统及光刻设备，包括：光源，用于发射曝光光束；遮光板，位于所述光源下方；掩模版，位于所述遮光板下方，其上设有若干对准标记；同轴对准运动机构，与所述遮光板及若干同轴对准镜头连接，用于驱动所述遮光板及所述同轴对准镜头同步运动至曝光工位或对准工位；以及，在曝光工位时，所述遮光板的遮光区遮挡所述对准标记；在对准工位时，所述同轴对准镜头对准对应的所述对准标记。
对准系统光刻设备

[发明专利]用于超高偏振消光比发生的光纤低应力夹持与对准装置-CN202211394312.6在审
发明人：苑勇贵;赵轩;祝海波;李心锘;钱彦;党凡阳;杨军 -专利权人：哈尔滨工程大学
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于超高偏振消光比发生的光纤低应力夹持与对准装置，所述装置包括光纤样品模块、可调磁力夹持模块、双目视觉系统模块、同轴调节与对准模块、角度旋转与测量模块，其中：所述光纤样品模块包括第一光纤样品和第二光纤样品；所述光纤可调磁力夹持模块包括第一可调磁力夹具和第二可调磁力夹具；所述同轴调节与对准模块包括第一同轴调节与对准模块和第二同轴调节与对准模块；所述双目视觉系统模块、第二同轴调节与对准模块、角度旋转与测量模块固定在大理石台上该装置可以实现光纤的极低应力夹持和精密同轴对准，具有夹持应力低、对准精度高、适用范围广等优点，可用于偏振消光比测试仪器标定领域。
用于超高偏振发生光纤应力夹持对准装置

[发明专利]测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法-CN201511024102.8有效
发明人：唐彩红 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法，包括：上载掩模版至掩模台上，所述掩模版上设置有若干标记组；工件台步进，使同轴对准传感器对准标记组中的第一个同轴对准标记，激光干涉仪记录当前工件台的位置；步骤3：移动工件台，使同轴对准传感器对准该标记组中的下一同轴对准标记，激光干涉仪记录当前工件台的位置，重复上述动作直至该标记组中的所有同轴对准标记对准完毕；步骤4：工件台步进至下一标记组，重复步骤2‑
测量激光干涉仪相交角度正交方法

[发明专利]同轴掩模对准装置、光刻设备及对准方法-CN201610200702.3有效
发明人：张成爽 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-03-31 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明揭示了一种同轴掩模对准装置、光刻设备及对准方法。所述同轴掩模对准装置包括照明模块，提供对准光束；投影物镜，位于所述掩模版下方；基准板，位于所述工件台上，承载基准参考标记；以及图像探测和处理模块，位于所述基准板下方，随着所述工件台移动，且所述基准参考标记位于所述图像探测和处理模块的视场范围内，所述图像探测和处理模块用于接收依次经过所述掩模对准标记、投影物镜及基准参考标记的对准光束，得到所述掩模对准标记与所述基准参考标记的成像，经过处理后得到所述掩模对准标记与所述基准参考标记的相对位置信息，用于所述掩模版与所述工件台对准。本发明采用自带独立式照明，结构简单，操作便捷，提高了对准效率。
同轴对准装置光刻设备方法

[发明专利]同轴双面位置对准系统及位置对准方法-CN200810201820.1有效
发明人：吕晓薇;徐兵;蔡巍 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-10-27 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种同轴双面位置对准系统及位置对准方法。本发明提出的同轴双面位置对准系统，用于双面投影曝光装置中，包括：设于掩模版上方的双面位置对准装置；设置于掩模版上的掩模标记；设置于承片台上的曝光对象；设于曝光对象上的曝光对象标记；其中，所述的双面位置对准装置通过分别检测所述的正面对准时和背面对准时掩模标记和曝光对象标记的位置信息并传送给承版台和承片台运动控制单元，以控制承版台和承片台的运动来调整掩模版和曝光对象的位置，从而实现曝光对象上正反两面的曝光场和掩模版上电路图案之间位置的精确对准；其中，反面对准采用近红外光路同轴成像实现曝光场和掩模版上图案的对准。
同轴双面位置对准系统方法

[发明专利]一种同轴对准装置-CN202110419971.X有效
发明人：范桂林;李朝红;李茂欣;沈伟华 -专利权人：上海磐盟电子材料有限公司
申请日： 2021-04-19 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： C30B15/20 文献下载
摘要：本申请涉及一种同轴对准装置，采用同轴对准装置的单晶硅生产工艺的步骤包括S1：单晶炉的炉筒外侧架设磁场装置，向炉筒内部施加磁场；S2：装料；S21：在炉筒内设有同轴对准装置，在炉筒安装石墨坩埚，通过同轴对准装置在石墨坩埚内安装石英坩埚；S22：多晶放入石英坩埚内，棱角靠近石英坩埚；S3：通过同轴对准装置安装并调整籽晶，籽晶与石英坩埚同轴线；S4：抽空和捡漏，抽出炉筒内部的气体，完成抽气后，检测炉筒漏气速率；S5：熔料；S6：引晶、放肩和收尾本申请具有快速准确地调整石墨坩埚、石英坩埚和籽晶的同轴度，提高单晶硅的生产效率和质量的效果。
一种同轴对准装置

[发明专利]一种同轴半导体激光器对准焊接装置-CN201511006753.4在审
发明人：于冲 -专利权人：南京田中机电再制造有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： B23K11/00 文献下载
摘要：本发明涉及同轴半导体激光器焊接领域，具体涉及一种同轴半导体激光器对准焊接装置，包括：视频显微镜模块，用于辅助定位；产品夹持模块，用于固定待焊接产品；气动模块，用于对准待焊接产品；焊接控制模块，用于控制所述同轴半导体激光器对准焊接装置对待焊接产品进行焊接，本发明的同轴半导体激光器对准焊接装置能够保证持续稳定的高精度对准，保证成品的光耦合效率；并降低焊接过程中的人为干扰因素，提高焊接可靠性，进而提高产品的可靠性。
一种同轴半导体激光器对准焊接装置

[发明专利]一种压紧装置及自动化生产线-CN202110855998.3在审
发明人：宋仲康;邱锦;高培庆 -专利权人：遨博（江苏）机器人有限公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： B23P19/02 文献下载
摘要：本发明涉及自动化设备技术技术领域，具体涉及一种压紧装置及自动化生产线，一种压紧装置，用于将同轴叠放的至少两个工件同轴压紧，至少两个工件通过对准件同轴叠放，压紧装置包括：压紧件，压紧件被滑动装配；定位件，定位件同轴滑动装配在压紧件内，并与压紧件弹性连接，定位件的一端伸出压紧件与对准件锥面配合；驱动件，驱动件驱动压紧件朝向对准件运动，定位件先与对准件锥面相接直至同轴对准，然后压紧件可相对于定位件朝向工件滑动，以推动压紧工件，解决了施压件与工件Ⅰ、工件Ⅱ同轴度存在小偏差，将工件Ⅰ压紧在工件Ⅱ时，导致工件Ⅰ和工件Ⅱ倾斜过盈配合及压装不稳定的技术问题。
一种压紧装置自动化生产线

[实用新型]一种压紧装置及自动化生产线-CN202121737704.9有效
发明人：宋仲康;邱锦;高培庆 -专利权人：遨博（江苏）机器人有限公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： B23P19/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及自动化设备技术技术领域，具体涉及一种压紧装置及自动化生产线，一种压紧装置，用于将同轴叠放的至少两个工件同轴压紧，至少两个工件通过对准件同轴叠放，压紧装置包括：压紧件，压紧件被滑动装配；定位件，定位件同轴滑动装配在压紧件内，并与压紧件弹性连接，定位件的一端伸出压紧件与对准件锥面配合；驱动件，驱动件驱动压紧件朝向对准件运动，定位件先与对准件锥面相接直至同轴对准，然后压紧件可相对于定位件朝向工件滑动，以推动压紧工件，解决了施压件与工件Ⅰ、工件Ⅱ同轴度存在小偏差，将工件Ⅰ压紧在工件Ⅱ时，导致工件Ⅰ和工件Ⅱ倾斜过盈配合及压装不稳定的技术问题。
一种压紧装置自动化生产线

[发明专利]印制电路板以及制备方法-CN202210949032.0在审
发明人：刘昊;桂来来;杨海云 -专利权人：生益电子股份有限公司
申请日： 2022-08-09 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H05K1/11 文献下载
摘要：印制电路板的内层包括至少一组同轴金属化过孔，其中，每组同轴金属化过孔包括同轴大孔和同轴小孔，同轴大孔和同轴小孔之间设置有绝缘材料；一组同轴金属化过孔中，同轴大孔孔口导电层中与其位于印制电路板同层的同轴小孔孔口导电层位于不同层；印制电路板还包括同轴大孔导电结构和同轴小孔导电结构同轴大孔导电结构与同轴小孔导电结构的导通情况和同轴金属化过孔的对准度相关，其中，同轴金属化过孔的对准度包括同轴小孔的偏差量和/或偏移方向。本发明实施例提供的技术方案实现了无损检测，简化了印制电路板同轴孔对准度的检测流程，降低了检测成本。
印制电路板以及制备方法

[实用新型]光学对准系统-CN202220504425.6有效
发明人：荣双全;蔡濰;汤中清;曲鲁杰 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种光学对准系统，包括同轴光学对准系统，所述同轴光学对准系统包括光源组件、反射组件以及成像组件，所述光源组件发出的光线经反射光线和工作台反射后到达成像组件，还包括附加对准系统，所述附加对准系统具有相对所述同轴光学对准系统独立设置的附加光源组件、附加反射组件与固定的基准标记，附加对准系统用于将所述基准标记上的基准标记图案经反射组件反射至所述成像组件成像，在所述成像组件中得到所述基准标记的成像。
光学对准系统

[发明专利]一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法-CN201810097054.2在审
发明人：田湍;潘炼东;于大维;赵丽丽;杜荣;张成爽;范纪铭;周许超 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法，对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件；所述同轴对准照明组件包括至少两个光源，以及与所述至少两个光源对应设置的光束转折镜头，以将所述至少两个光源发出的光线反射到待对准的工作区域；所述驱动组件，与所述光束转折镜头连接，用于在对准时驱动所述光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方，以及在对准完成后将所述光束转折镜头从所述待对准的工作区域上方移开。本发明提供一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法，以解决对准照明模块遮挡曝光照明视场的问题。
对准照明模块对准装置工作区域光刻机光源转折驱动组件同轴对准照明组件镜头光线反射镜头移动曝光照明视场移开遮挡驱动

[发明专利]一种同轴孔对准度测试板及测试方法-CN202210655618.6在审
发明人：刘昊;柯小兵;桂来来;杨海云 -专利权人：生益电子股份有限公司
申请日： 2022-06-10 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： G01B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及PCB技术领域，公开了一种同轴孔对准度测试板及测试方法。测试板包括：至少一组同轴埋孔，每组同轴埋孔包括孔壁均金属化且理论上同轴设置的同轴小孔和同轴大孔，同轴小孔嵌套在同轴大孔内；至少一个孔壁金属化的盲孔，与同轴小孔对应设置，盲孔的孔底与对应同轴小孔电连接；测试通孔，其孔壁金属化，与同轴大孔电连接。测试方法，包括：制作如上所述的同轴孔对准度测试板；检测所述盲孔与所述测试通孔之间的电导通状态，根据所述电导通状态确定所述同轴埋孔的实际同轴对准度。
一种同轴对准测试方法

[发明专利]长短比大于9的两节高精度钢管同轴对接工装-CN201811091099.5有效
发明人：戴宁 -专利权人：江苏建筑职业技术学院
申请日： 2018-09-18 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： B66C1/30 文献下载
摘要：本发明公布一种长短比大于9的两节高精度钢管同轴对接工装，属于专用夹具技术领域。包括支撑装置、起吊装置和同轴对准机构；同轴对准机构包括底座组件、前摇杆组件、后摇杆组件；底座组件内的4个弹簧与地基上的垫块接触，前摇杆组件与后摇杆组件中部之间铰接有可伸缩的动力螺杆机构；使用时，前摇杆组件与后摇杆组件上部的圆弧形槽配合扣合在长钢管与短钢管的相邻端本发明以固定的长钢管的外圆柱面为基准，通过前摇杆组件与后摇杆组件的抱紧实现短钢管与长钢管的同轴对准，具有适应任意位置误差的能力；短钢管采用弹性力的起吊方式，可以将长钢管与短钢管轻松地实现同轴对准，从而焊接出同轴度高的一根钻杆
长钢管短钢管后摇杆前摇杆同轴对准高精度钢管底座组件同轴对接工装两节动力螺杆可伸缩的起吊方式起吊装置外圆柱面位置误差圆弧形槽支撑装置专用夹具弹性力固定的同轴度相邻端轴对准弹簧抱紧垫块铰接钻杆地基焊接配合

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