专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]单晶粘接装置-CN201410064761.3在审
  • 李双江 - 英利能源(中国)有限公司
  • 2014-02-25 - 2014-05-21 - C30B33/06
  • 本发明提供了一种该单晶粘接装置。该一种单晶粘接装置包括:底座;定位机构,设置在底座上以定位托盘;支撑调节机构,可滑动地设置在底座上以支撑单晶并调节单晶的位置;检测机构,用于检测单晶的中心轴线与托盘的中心轴线是否位于同一直线上根据本发明,可以准确检测出单晶的中心轴线与托盘的中心轴线是否位于同一直线上,精度高,可靠性高,保证后续开方机在切割过程中能够切割出正常的单晶硅块。
  • 单晶晶棒粘接装置
  • [发明专利]能够降低头部电阻率的重掺As硅单晶生产方法-CN202110897832.8有效
  • 张兴茂;闫龙;王忠保;李小红;伊冉 - 宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司
  • 2021-08-05 - 2022-09-27 - C30B29/06
  • 本发明提供一种能够降低头部电阻率的重掺As硅单晶生产方法,属于掺杂硅单晶生产技术领域。该方法包括以下步骤:等径前工序中,调节氩气流量为120slm‑130slm,并保持该氩气流量至二段等径工序结束;并且,等径前工序中,调节单晶炉炉压为12 kPa‑15 kPa;一段等径工序中,将单晶炉炉压逐渐升高至18 kPa‑20 kPa;二段等径工序中,维持单晶炉炉压为18 kPa‑20 kPa。通过该方法生产重掺砷硅单晶,能够显著降低所制备的重掺砷硅单晶的电阻率,尤其是将重掺砷硅单晶的头部电阻率降低至0.0029Ω.cm以下,提高重掺砷硅单晶的综合利用率,降低生产成本。同时,重掺砷硅单晶拉制过程中,发生晶变导致NG的概率显著下降,进一步提高重掺砷硅单晶的合格率。
  • 能够降低头部电阻率as硅单晶生产方法
  • [发明专利]一种快速制备大尺寸SiC单晶的方法-CN201610750954.3有效
  • 郑清超;杨昆;高宇 - 河北同光晶体有限公司
  • 2016-08-30 - 2019-08-30 - C30B29/36
  • 本发明涉及一种快速制备大尺寸SiC单晶的方法,第一阶段,将小尺寸SiC晶片外形加工为所需外形,将加工后的晶片进行组合拼接排列并固定于石墨籽晶托上;第二阶段,将固定有小晶片组合的籽晶托置于籽晶升华法体系中,选择适宜单晶横向生长的生长条件,使小尺寸晶片间缝隙被横向生长单晶填充,形成完整的大尺寸SiC籽晶;第三阶段,使用第二阶段获取的大尺寸籽晶,进行籽晶升华法生长,最终获取大尺寸碳化硅单晶锭,单晶锭经外形加工最终获得大尺寸SiC晶。本发明的有益效果是:实现SiC单晶尺寸的快速增加,节省时间和资源;避免了传统扩径生长方法中径向温度梯度过大导致晶体缺陷增殖和开裂问题。
  • 一种快速制备尺寸sic单晶晶棒方法
  • [发明专利]一种MIM电容及其制造方法-CN201510415355.1有效
  • 马远;吴勇;周健杰 - 江苏中电振华晶体技术有限公司
  • 2015-07-16 - 2018-01-02 - H01L23/522
  • 本发明涉及一种MIM电容,包括衬底,所述衬底为一蓝宝石单晶片,在其上表面和下表面均依次沉积有过渡层和金属层;一种上述MIM电容的制造方法,所述方法步骤具体如下(1)将蓝宝石晶体通过单线切割或掏料钻钻取的方式加工成单晶;(2)将单晶在多线切割机上切割加工成单晶片;(3)将单晶片清洗干净后作为沉积衬底,在衬底两面先沉积过渡层;(4)再在过渡层的基础上沉积金属层;(5)以金属层作为电极,引出接线端;(6)完成上述本发明的优点在于蓝宝石作为介质材料,电阻率高、介电损耗小,抗电强度高;单晶结构一致使抗电强度Ep在材料内的分布均匀性非常好,没有击穿风险,提高了MIM电容的稳定性。
  • 一种mim电容及其制造方法
  • [发明专利]硅磊晶晶圆及硅磊晶晶圆的制造方法-CN201480024949.3有效
  • 樱田昌弘 - 信越半导体株式会社
  • 2014-03-28 - 2017-08-15 - H01L21/20
  • 本发明是一种硅磊晶晶圆及其制造方法,该硅磊晶晶圆在对如下单晶进行切割而制造的硅基板(10)上,具有第二中间磊晶层(22)和掺杂有掺杂剂的第一中间磊晶层(21),在该第一中间磊晶层(21)上层叠有作为组件形成区域的磊晶层(30),该单晶是通过CZ法而培育成的碳浓度为3×1016atoms/cm3~2×1017atoms/cm3的单晶。由此,本发明提供如下硅磊晶晶圆及硅磊晶晶圆的制造方法,该硅磊晶晶圆用于内存、逻辑电路或固态摄影元件等半导体组件基板,并以掺杂有碳的硅基板为原材料,且工业性优异。
  • 硅磊晶晶圆制造方法
  • [实用新型]生长蓝宝石单晶用电极装置-CN201220179999.7有效
  • 石连升;徐雳 - 哈尔滨晶石光电技术有限公司
  • 2012-04-26 - 2012-11-28 - C30B15/14
  • 生长蓝宝石单晶用电极装置。Al2O3蓝宝石单晶生长炉水冷电极装置用于生长炉中提供晶体生长所需的热场,电极连接进水管和出水管,上面两个接口为出水口,下面接口为进水口,但是现有电极由于结构复杂不易安装维护,同时形成的热场轴向不够对称一种生长蓝宝石单晶用电极装置,其组成包括:由两个空芯的环状导电体上下排列构成生长炉的两个电极,所述的电极(2)焊接直立式空芯导电长管柱构成进水口(1),所述的电极焊接直立式空芯导电短管柱构成出水口(本实用新型用于生长蓝宝石单晶
  • 生长蓝宝石单晶晶棒用电装置
  • [实用新型]带有阻尼套的单晶体生长炉-CN201120086500.3有效
  • 吴学军 - 宁夏日晶新能源装备股份有限公司
  • 2011-03-29 - 2011-11-16 - C30B15/00
  • 本实用新型涉及单晶硅领域,尤其涉及一种单晶体生长炉。一种带有阻尼套的单晶体生长炉,包括安装在籽晶腔体内的绳轮,绳轮表面开有绳槽,籽晶绳绕在绳轮上卡在绳槽内,籽晶腔体底部开有绳孔,该单晶体生长炉还包括阻尼套,所述的阻尼套安装在绳孔内,阻尼套由聚四氟乙烯制成本实用新型带有阻尼套的单晶体生长炉中的阻尼套由聚四氟乙烯制成,不会磨坏价格昂贵的籽晶绳,提高了籽晶绳的使用寿命;另外,在硅单晶生长作业过程中,阻尼套可降低籽晶对中难度,减少籽晶绳的摆动,提高晶的精度,解决了晶扭曲现象,提高了产品质量。
  • 带有阻尼晶体生长
  • [发明专利]一种稀土硅化物单晶体的制备方法-CN201510377818.X有效
  • 徐义库;王丹丹;肖君霞;杨蕾;于金丽;郝建民 - 长安大学
  • 2015-06-27 - 2017-07-28 - C30B13/00
  • 本发明公开了一种稀土硅化物单晶体的制备方法,该方法为一、制备EuPd共晶合金;二、按质量比EuPdSi=(33.3+X)(16.7‑X)50称取钯粒、硅块和EuPd共晶合金,制备PdSi二元合金;三、将EuPd共晶合金和PdSi二元合金置于感应加热器中熔化均匀,得到熔体,然后将熔体铸成材;四、切割材得到籽晶和给料;五、将给料安装于晶体生长室内的上轴上,将籽晶安装于下轴上,通入高纯氩气,采用光悬浮区熔法生长晶体,待晶体生长结束并冷却后将晶体取出;六、线切割后得到稀土硅化物单晶体。本发明可制备得到获得少沉淀、无明显位错与孪晶、质量高的稀土硅化物单晶体。
  • 一种稀土硅化物单晶晶体制备方法

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