专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果37个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]晶棒的掺杂剂的添加量的确定方法和确定装置-CN202310691714.0在审
  • 梁万亮;杨文武 - 西安奕斯伟材料科技股份有限公司
  • 2023-06-12 - 2023-10-27 - C30B15/04
  • 本发明涉及一种晶棒的掺杂剂的添加量的确定方法,其特征在于,包括以下步骤:确定掺杂剂的掺杂效率;根据所述掺杂效率,确定实际拉晶工艺中掺杂剂的首次添加量a,a=a′/η0,其中,a′为所需的融入到硅熔液中的掺杂剂的含量,η0为掺杂效率;其中,所述确定掺杂剂的掺杂效率,具体包括:将第一测试用掺杂剂加入至第一测试用硅熔液中,并拉制第一测试晶棒;根据所述第一测试晶棒的电阻率确定所述掺杂效率。本发明还涉及一种晶棒的掺杂剂的添加量的确定装置。根据拉制的晶棒的电阻率确定掺杂剂的掺杂效率,根据该掺杂效率可以确定掺杂剂的掺杂量,改善由于掺杂剂挥发导致的晶棒电阻率超规格报废的问题。
  • 掺杂添加确定方法装置
  • [发明专利]单晶炉加热结构和单晶炉-CN202310952401.6在审
  • 杨文武;梁万亮 - 西安奕斯伟材料科技股份有限公司
  • 2023-07-31 - 2023-10-13 - C30B15/14
  • 本发明涉及一种单晶炉加热结构,包括:绝缘底盘;多个加热单元,多个所述加热单元环绕设置于所述绝缘底盘的边缘;供电单元,用于向所述加热单元施加电信号;导电块,活动连接于相邻加热单元之间,使得多个所述加热单元相串联,并与所述供电单元相配合形成回路;绝缘连接组件,绝缘连接组件的一端与导电块连接,绝缘连接组件的另一端用于与坩埚支撑轴连接,绝缘连接组件随着坩埚轴升降,带动导电块进行升降运动,以改变加热单元的加热区在第一方向上的长度,第一方向为坩埚支撑轴的轴向方向。本发明还涉及一种单晶炉。改变加热部件的加热区在坩埚支撑轴的轴向方向上的长度,可以提高晶棒的轴向温度梯度的均匀性。
  • 单晶炉加热结构
  • [发明专利]晶棒生长方法和晶棒生长装置-CN202310707576.0在审
  • 杨文武;梁万亮 - 西安奕斯伟材料科技股份有限公司
  • 2023-06-14 - 2023-09-08 - C30B30/04
  • 本发明涉及一种晶棒生长方法,采用单晶炉进行晶棒生长,单晶炉内包括用于容纳硅熔液的坩埚,包括以下步骤:将籽晶浸入硅熔液中进行引晶形成晶棒,并施加磁场强度为第一预设值的水平磁场,在晶棒的轴向方向上,水平磁场的最强高斯面与硅溶液的液面在晶棒的轴向方向上的第一距离小于第二预设值;对晶棒进行等径生长,并施加磁场强度为第三预设值的尖点磁场,尖点磁场的零磁面位于坩埚的R弧部位。本发明还涉及一种晶棒生长装置。施加水平磁场,抑制硅熔液对流,从而改善由于硅熔液的对流的不确定性,导致熔体中析出氧及浸入晶棒中的氧具有不确定性的问题。施加尖点磁场,促进氧的析出,尖点磁场与水平磁场相互配合,使得氧有效且均匀的浸入晶棒中。
  • 生长方法装置
  • [发明专利]一种单晶硅生长方法-CN202310450640.1在审
  • 杨文武;梁万亮 - 西安奕斯伟材料科技股份有限公司
  • 2023-04-24 - 2023-07-25 - C30B15/04
  • 本发明提供了一种单晶硅生长方法,涉及单晶硅生产技术领域。该单晶硅生长方法包括:根据晶棒头部的电阻率,向硅溶液里掺杂含磷母合金;在检测得到的所述晶棒的电阻率低于预设门限时,或者,在所述晶棒被拉制到预设长度时,向硅溶液里分多次掺杂表面镀有四氮化三硅的含有锗和硼的母合金硅片。通过向硅溶液里分多次掺杂表面镀有四氮化三硅的含有锗和硼的母合金硅片,能够通过硼元素提升晶棒的电阻率,控制单晶硅生长过程中电阻高于预设门限;通过掺杂锗元素能够消除因为掺杂硼和氮引起的硅晶格畸变。本发明方案,解决了晶棒生长过程中头尾电阻率差值较大的问题,且能够改善晶格畸变和缺陷分布,提高晶棒产品的合格率。
  • 一种单晶硅生长方法
  • [发明专利]拉晶工艺-CN202310483348.X在审
  • 杨文武;梁万亮 - 西安奕斯伟材料科技股份有限公司
  • 2023-04-28 - 2023-07-14 - C30B29/06
  • 本发明涉及一种拉晶工艺,包括化料和稳定温度,并在稳定温度之后控制用于容纳硅熔液的坩埚以不同的第一转速和第二转速交替旋转。在稳定温度的步骤之后,控制用于容纳硅溶液的坩埚以不同的第一转速和第二转速交替进行旋转,增加硅溶液与坩埚的相对运动,排出硅熔液中的液体,提高晶棒质量。
  • 工艺
  • [发明专利]水冷套和单晶炉-CN202310476521.3在审
  • 杨文武;梁万亮 - 西安奕斯伟材料科技股份有限公司
  • 2023-04-28 - 2023-06-13 - C30B29/06
  • 本发明涉及一种水冷套,应用于单晶炉内,所述水冷套呈筒状结构,沿着所述水冷套的周向方向,所述水冷套的侧壁上设置有多个通孔,以提供使得惰性气体吹入的气体通道,并阻挡从单晶炉内的硅熔液挥发出的气体上升。本发明还涉及一种单晶炉。沿着所述水冷套的周向方向,所述水冷套的侧壁上设置有多个通孔,以提供使得惰性气体吹入的气体通道,所述水冷套位于坩埚的上方,通过惰性气体的吹扫,可以阻挡从单晶炉内的硅熔液挥发出的气体上升,进而避免该气体与坩埚上方的石墨部件发生反应,进一步的避免一氧化碳气体的产生,从而提升晶棒质量。
  • 水冷单晶炉
  • [发明专利]直拉单晶炉热屏装置及提高拉晶速率的方法-CN202111639258.2有效
  • 丁亚国;李玲玲;梁万亮;马国忠;顾燕滨 - 宁夏申和新材料科技有限公司
  • 2021-12-29 - 2023-05-16 - C30B15/00
  • 本发明提供一种直拉单晶炉热屏装置及提高拉晶速率的方法,属于提高拉晶速率工艺的技术领域,包括:导流筒、水冷屏,所述导流筒位于所述水冷屏的下方,所述水冷屏的内侧壁设置有凹坑,单晶炉加热器位于炉体底部,布设于坩埚底部或侧壁上,单晶硅拉制过程中,加热器的温度自加热炉底部向上折射,本发明在所述水冷屏的内侧壁设置凹坑,通过凹坑能够增加水冷屏的热折射方向,使得热折射向上,减少热折射直接折射在晶棒上,利于晶棒的降温,且所述凹坑有利于增大水冷屏散热面积,且增加了水冷屏的吸热效率,提高加热炉腔内散热效率,进而使得单晶棒拉制的过程中拉速提高,进而拉制单晶棒的产率提高。
  • 直拉单晶炉热屏装置提高速率方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top