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- [发明专利]非易失存储器的制造方法-CN98108024.3无效
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崔雄林;罗庚晚
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LG半导体株式会社
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1998-04-28
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2002-11-27
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H01L21/82
- 非易失存储器的制造方法,包括制备第一导电型半导体衬底;以预定间隔一方向在半导体衬底中形成多条位线;以预定间隔在垂直位线方向形成多个场氧化膜;在半导体衬底整个表面上形成栅绝缘膜;与位线同方向,各位线间栅绝缘膜上形成具有预定间隔的浮置线;在包括浮置线的半导体衬底整个表面上形成介电膜;在介电膜上形成导电层和绝缘膜,进行选择性去除,在各场氧化膜间垂直各位线形成多条字线;在各字线的两侧形成绝缘膜侧壁垫;用字线和绝缘膜侧壁垫作掩膜,选择去除介电膜和浮置线
- 非易失存储器制造方法
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