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[发明专利]硫醇化合物、其合成方法和该硫醇化合物的利用-CN202111403246.X在审
发明人：奥村尚登;大塚章仁;熊野岳;藤川和之;荒木勇介 -专利权人：四国化成工业株式会社
申请日： 2018-10-25 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： C07D233/34 文献下载
摘要：本申请发明涉及硫醇化合物、其合成方法和该硫醇化合物的利用。本发明的目的在于提供新型硫醇化合物、该硫醇化合物的合成方法、含有该硫醇化合物的固化剂、含有该硫醇化合物和环氧化合物的树脂组合物、以及含有该硫醇化合物和分子内具有碳‑碳双键的烯属化合物的树脂组合物。此外，本发明的目的在于提供以这些树脂组合物作为成分的粘接剂和密封剂。本发明的硫醇化合物为化学式(I)～化学式(VII)所示的硫醇化合物。
硫醇化合物合成方法利用

[发明专利]硫醇化合物、其合成方法和该硫醇化合物的利用-CN202111404152.4在审
发明人：奥村尚登;大塚章仁;熊野岳;藤川和之;荒木勇介 -专利权人：四国化成工业株式会社
申请日： 2018-10-25 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： C07D233/34 文献下载
摘要：本申请发明涉及硫醇化合物、其合成方法和该硫醇化合物的利用。本发明的目的在于提供新型硫醇化合物、该硫醇化合物的合成方法、含有该硫醇化合物的固化剂、含有该硫醇化合物和环氧化合物的树脂组合物、以及含有该硫醇化合物和分子内具有碳‑碳双键的烯属化合物的树脂组合物。此外，本发明的目的在于提供以这些树脂组合物作为成分的粘接剂和密封剂。本发明的硫醇化合物为化学式(I)～化学式(VII)所示的硫醇化合物。
硫醇化合物合成方法利用

[发明专利]一种化合物检索方法及系统-CN202111490875.0有效
发明人：杨柳青;肖燕翔;王中健 -专利权人：成都健数科技有限公司
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： G16C20/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种化合物检索方法，包括：构建化合物数据库，所述化合物数据库用于存储化合物数据，所述化合物数据包括化合物化学式及每种化合物的化学式中元素名称、元素数量、每种元素原子数量；根据输入的化合物化学式包含的元素名称、元素数量及每种元素原子数量生成检索模型；基于检索模型在化合物数据库中对用户输入的待检索化合物进行检索，若检索到与用户输入一致的化合物，则反馈检索出的化合物数据至用户；若未检索到与用户输入一致的化合物，则反馈未检索到匹配化合物的结论至用户。本发明还公开了实现上述一种化合物检索方法的系统。本发明用于查询化合物时便于用户快速检索到相关数据，能提升查询效率。
一种化合物检索方法系统

[发明专利]不饱和氨基甲酸酯、不饱和硫代氨基甲酸酯、不饱和脲化合物或不饱和酰胺化合物-CN201410521197.3有效
发明人：大野胜俊;森中克利 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2014-09-30 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： C07C269/02 文献下载
摘要：一种不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和硫代氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物，其是使不饱和异氰酸酯化合物和具有活性氢的化合物进行反应而得到的不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和硫代氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物，其特征在于，前述不饱和异氰酸酯化合物满足以下A)，A)在10mL己烷中加入4mL不饱和异氰酸酯化合物进行混合，经过5分钟之后所测定的波长400nm的吸光度(400nm
不饱和氨基甲酸酯化合物

[发明专利]一种含苯并吡嗪结构的腙类化合物及其制备方法与应用-CN201610606719.9有效
发明人：刘幸海;汪乔;孙召慧;沈钟华;谭成侠;翁建全;刘旭锋 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2016-07-28 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： C07D241/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种含苯并吡嗪结构的腙类化合物及其制备方法与应用。它以邻硝基苯胺和水合肼制得化合物1；化合物1与BMF作用制得化合物2；化合物2与三氯氧磷反应制得化合物3；化合物3与水合肼反应制得化合物4；化合物4与取代醛类化合物反应制得化合物(I)。其原料简单易得，制备方法简单、后处理方便，产品收率高，而且该化合物为具有除草活性，特别是针对翦股颖具有良好的除草效果，为新农药研发提供了基础。
一种结构化合物及其制备方法应用

[发明专利]有机发光装置-CN201610591760.3有效
发明人：李晟熏;金瑟雍;朴一秀;申孝燮;姜宣宇;高银卿;金珉冏;金兑炅;李在庸 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2016-07-25 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：有机发光装置包括：第一电极，包括第一空穴传输层(HTL)的空穴传输区、发光层、电子传输区和第二电极；其中所述第一HTL包括第一化合物和第二化合物，所述发光层包括第三化合物和第四化合物，所述第二化合物的电子亲和性大于所述第一化合物的电子亲和性，所述第四化合物的最低未占有分子轨道(LUMO)能级大于所述第三化合物的LUMO能级，所述第二化合物和所述第三化合物彼此不同，且所述第二化合物的最小负离子分解能大于所述第三化合物的三线态能量。
有机发光装置

[发明专利]一种含甲基苯并吡嗪结构的腙类化合物及其制备方法与应用-CN201610613074.1有效
发明人：刘幸海;汪乔;孙召慧;沈钟华;谭成侠;翁建全;刘旭锋 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2016-07-28 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： C07D241/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种含甲基苯并吡嗪结构的腙类化合物及其制备方法与应用。它以5‑甲基邻硝基苯胺和水合肼制得化合物1；化合物1与BMF作用制得化合物2；化合物2与三氯氧磷反应制得化合物3；化合物3与水合肼反应制得化合物4；化合物4与取代醛类化合物反应制得化合物(I)。其原料简单易得，制备方法简单、后处理方便，产品收率高，而且该化合物为具有除草活性，特别是针对翦股颖，具有一定的除草效果，为新农药研发提供了基础。
一种甲基结构化合物及其制备方法应用

[发明专利]硝基咪唑类化合物中间体及其盐的制备方法-CN201710872272.4有效
发明人：樊后兴;吕辉;王天才;李纬 -专利权人：南京长澳医药科技有限公司
申请日： 2017-09-25 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C07D233/92 文献下载
摘要：本发明公开了一种硝基咪唑类化合物中间体及其盐的制备方法。所述方法包括步骤：(1)将结构如式1所示的化合物与结构如式2所示的化合物混合，得到结构如式A所示的化合物；(2)式A化合物经酯还原制得式B化合物；(3)使式B化合物下经环合反应得到结构如式C所示的化合物；(4)结构如式C所示的化合物脱去氨基保护基，得到结构如式D所示的化合物；和(5)结构如式D所示的化合物与酸形成结构如式E所述的化合物。
硝基咪唑化合物中间体及其制备方法

[发明专利]制备HMG－CoA还原酶抑制剂的方法-CN98807900.3无效
发明人：高野裕;长谷川胜;森英郎;安藤胜彦;落合惠子;本山裕章;尾崎明夫 -专利权人：协和发酵工业株式会社
申请日： 1998-07-30 - 公布日： 2004-07-28 - 主分类号： C12P7/62 文献下载
摘要：公开了一种用于制备由通式(II-a)表示的化合物(其中R¹代表氢原子，取代或未取代的烷基，或碱金属；R²代表取代或未取代的烷基或芳基)[以下称为化合物(II-a)]或化合物(II-a)的内酯形式[以下称为化合物(II-b)]的方法，包括将由通式(I-a)表示的化合物(其中R¹代表氢原子，取代或未取代的烷基，或碱金属；R²代表取代或未取代的烷基或芳基)[以下称为化合物(I-a)]或化合物(I-a)的内酯形式[以下称为化合物(I-b)]在反应液中经一种酶源作用，该酶来源于芽孢杆菌属的微生物且能将化合物(I-a)或化合物(I-b)转化为化合物(II-a)或化合物(II-b)，从而在反应混合物中形成化合物(II-a)或化合物(II-b)；且从反应混合物中回收化合物(II-a)或化合物(II-b)。
制备 hmg coa 还原酶抑制剂方法

[发明专利]有机发光器件-CN201811121540.X有效
发明人：金美更;徐智贤;梁承珏;李宽熙;林珍娱 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H10K85/60 文献下载
摘要：所述有机发光器件包括：第一电极；第二电极；以及有机层，位于第一电极与第二电极之间，并包括发射层，有机层包括第一化合物、第二化合物和第三化合物。除了第一化合物、第二化合物和第三化合物同时包括由式1‑3表示的吖嗪类化合物的情况之外，第一化合物、第二化合物和第三化合物均独立地是由从式1‑1至式1‑5中选择的一个表示的吖嗪类化合物。
有机发光器件

[发明专利]一种新型核苷酸类逆转录酶抑制剂有关物质的分析方法-CN201910449686.5有效
发明人：陈秋;吴素素;赵明礼;王喆;舒伟;葛李薇;兰公剑;徐丹;朱春霞;田舟山 -专利权人：南京正大天晴制药有限公司
申请日： 2019-05-28 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： G01N30/88 文献下载
摘要：本发明提供了一种新型核苷酸类逆转录酶抑制剂有关物质的分析方法，该方法可以准确测定化合物T供试品中杂质化合物I、化合物II、化合物III、化合物IV、化合物V、化合物VI、化合物VII、化合物VIII和化合物
一种新型核苷酸逆转录抑制剂有关物质分析方法

[发明专利]合成适用作CPLA₂抑制剂的C-2、C-3取代的N-烷基化吲哚的方法-CN201010200760.9无效
发明人：罗纳德·S·米夏拉克;马哈茂德·莱文特;弗雷德里克·J·维维尔伯格;阿拉·R·博亚简;帕诺利尔·拉夫恩德拉纳特;米歇尔·康坦;艾伦·斯托克顿;迈克尔·W·温克利;穆斯米·高希;克里斯托夫·德恩哈特;查尔斯·吉诺斯欧 -专利权人：惠氏公司
申请日： 2005-08-18 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： C07C311/53 文献下载
摘要：本发明提供一种制备式(Ⅰ)化合物的方法，其包含使式(Ⅱ)化合物与式(Ⅲ)化合物反应以产生式(Ⅳ)化合物的步骤，其中R¹、R²、R³、R<随后将式(Ⅳ)化合物转化为式(Ⅰ)化合物。本发明进一步包含式(Ⅲ)化合物和式(Ⅳ)化合物以及制备式(Ⅲ)化合物和式(Ⅳ)化合物的方法。
合成适用 cpla sub 抑制剂取代烷基化吲哚方法

[发明专利]化合物半导体装置及其制造方法-CN201080068051.8有效
发明人：今田忠纮 -专利权人：富士通株式会社
申请日： 2010-07-14 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： H01L21/338 文献下载
摘要：本发明中设有与化合物半导体层（102）绝缘且与电极（101）和化合物半导体层（103）相接的电极（109）。化合物半导体层（103）的晶格常数小于化合物半导体层（102）和化合物半导体层（104）的晶格常数，化合物半导体层（107）的晶格常数小于化合物半导体层（102）和化合物半导体层（107）的晶格常数。另外，化合物半导体层（103）的传导带的能量高于化合物半导体层（104）的传导带的能量。
化合物半导体装置及其制造方法

[发明专利]含氟酯化合物的制造方法-CN01816296.7有效
发明人：冈添隆;渡边邦夫;立松伸;白川大祐;簗濑互一;铃木泰弘 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2001-09-27 - 公布日： 2004-01-07 - 主分类号： C07C67/287 文献下载
摘要：本发明提供一种工业上有用的含氟酯化合物及酰基氟化合物等含氟化合物的制造方法。即，本发明提供一种含氟酯化合物的制造方法，其特征在于，在将由含有羟基的化合物和含有酰氟基团的化合物所生成的具有可被氟化的结构的酯化合物在液相中氟化、制造含氟酯化合物时，将该酯化合物和上述含有酰氟基团的化合物的液状混合液氟化
酯化制造方法

[发明专利]乙烯基化合物的制备方法-CN99811854.0无效
发明人： R·布卢姆;P·凯勒;T·普雷斯;J·亨克尔曼 -专利权人： BASF公司
申请日： 1999-08-02 - 公布日： 2001-11-14 - 主分类号： C08G59/14 文献下载
摘要：本发明涉及制备乙烯基化合物,特别是乙烯基醚化合物的方法,按此法,氨基乙烯基化合物与可与所述氨基乙烯基化合物起反应的物质进行反应,反应期间氨基乙烯基化合物仍保留其乙烯基基团。本发明还涉及可按此法制备的乙烯基化合物,包含所述乙烯基化合物的制剂以及所述化合物的应用,乃至氨基乙烯基化合物在生产乙烯基化合物中的应用。
乙烯基化合物制备方法