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- [发明专利]布局优化方法及布局优化系统-CN201911321133.8有效
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王钦克
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上海安路信息科技有限公司
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2019-12-20
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2021-01-08
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G06F30/398
- 本发明提供了一种布局优化方法,包括对电路进行时序分析,从时序器件中提取时序关键器件,将所述时序关键器件按照时序裕量进行排序,选取一个所述时序关键器件,计算偏差值,判断所述偏差值大于偏差阈值,进行位置优化处理,按照所述排序依次选取所述时序关键器件,直至完成所有所述时序关键器件的所述位置优化处理。所述偏差值大于偏差阈值,按照所述排序依次选取所述时序关键器件进行位置优化处理,使所有所述时序关键器件的位置都得到优化,避免了所述时序关键器件之间的相互影响,减少了所述时序关键器件的时延,提高了时序优化效果
- 布局优化方法系统
- [发明专利]半导体器件测量方法-CN202010349457.9有效
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李弘祥
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长鑫存储技术有限公司
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2020-04-28
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2023-09-08
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H01L21/66
- 该发明涉及一种半导体器件测量方法,能够减小对半导体器件的关键尺寸进行测量时的测量误差。所述半导体器件测量方法,用于使用椭圆偏振干涉光谱仪进行半导体器件的关键尺寸测量,包括以下步骤:根据所述半导体器件的标准件的表面形貌特征,获取所述半导体器件表面的至少两种最小重复单元;对所述至少两种最小重复单元进行关键尺寸测量,获取所述至少两种最小重复单元的关键尺寸数据;根据所述至少两种最小重复单元的关键尺寸数据,构建所述椭圆偏振干涉光谱仪内关于所述半导体器件的测量模型;根据所述测量模型对所述半导体器件进行关键尺寸测量。
- 半导体器件测量方法
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