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[发明专利]一种等离子体进入多极磁阱线圈的控制方法及其控制系统-CN201610099587.5在审
发明人：金显吉;佟为明;李中伟;陶宝泉;林景波;李凤阁;刘勇 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2016-02-23 - 公布日： 2016-06-15 - 主分类号： H05H1/10 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体进入多极磁阱线圈的控制方法，包括：S1：确定溜槽线圈与多极磁阱线圈的相对位置；S2：确定溜槽线圈轴线与多极磁阱线圈轴线的夹角θ；S3：计算所述多极磁阱线圈的外部磁壳的通用磁感应强度，并根据注入点位置数据计算出等离子体注入点的磁感应强度B2；S4：根据等离子体注入点磁感应强度，结合所述溜槽线圈的结构参数，计算所述溜槽线圈在注入点处轴线上产生的磁感应强度为B2时所需的电流值；S5：计算溜槽线圈的启动时刻本发明还提供一种根据上述方法形成的等离子体进入多极磁阱线圈的控制系统。通过本发明能提高进入多极磁阱线圈中等离子体的数量，并减少上述等离子体的能量损失。
一种等离子体进入多极线圈控制方法及其控制系统

[发明专利]一种等离子体原位耦合紫外光的流化床甲烷干重整反应装置及方法-CN201910692716.5有效
发明人：徐艳;宋明;李靖;朱捷;葛奉娟;么冰 -专利权人：徐州工程学院
申请日： 2019-07-30 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： B01J8/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体原位耦合紫外光的流化床甲烷干重整反应装置及方法，包括反应容器，旋风分离器，收集器和气路系统。反应容器包括等离子体放电电极、反应器壳体和紫外灯，其中等离子体的两个电极分别为水电极和金属电极，水电极有利于紫外光的透过。反应器壳体为石英材质，可以作为等离子体的放电介质。本发明将等离子体、紫外光和催化剂进行有机结合，能够提高单独等离子体甲烷干重整反应的性能，还可在室温条件下用于对因积碳而失活的催化剂进行消碳再生及活化，具有较好的通用性。
一种等离子体原位耦合紫外光流化床甲烷重整反应装置方法

[发明专利]一种滑动弧放电等离子体发生系统-CN202011415305.0在审
发明人：王素力;刘孟杰;孙公权 -专利权人：中国科学院大连化学物理研究所
申请日： 2020-12-04 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： H05H1/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种滑动弧放电等离子体发生系统，属于等离子体能源转化技术领域，能够解决现有系统中等离子体电源效率较低，H2及CO的选择性较差的问题。所述系统包括：放电装置，放电装置包括绝缘底座、设置在绝缘底座上的罩体，以及设置在罩体内的两个刀片状电极；两个刀片状电极均具有弧形边，两个刀片状电极的弧形边相对设置；配气装置，用于穿过绝缘底座向两个刀片状电极之间的区域输送空气与燃料气的混合气体；恒流交流电源，用于向两个刀片状电极供电，以使罩体内产生滑动弧等离子体；恒流交流电源的放电频率可调；电特性检测装置，用于检测放电装置的放电电流和放电电压。本发明用于等离子体制氢。
一种滑动放电等离子体发生系统

[发明专利]TM₀₂₁模式的高功率微波等离子体金刚石膜沉积装置-CN201310687614.7有效
发明人：唐伟忠;李义锋;苏静杰;刘艳青;丁明辉;李小龙;姚鹏丽 -专利权人：北京科技大学
申请日： 2013-12-13 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：本发明TM021模式的高功率微波等离子体金刚石膜沉积装置，该装置由上下圆柱体、可调节的上腔体和微波反射板、沉积台、微波同轴激励口，微波石英窗口，进出气口，测温孔和观察窗等组成。此装置拥有TM021模式的电场分布，具有微波谐振腔内电场分布集中，激发等离子体位置稳定的特点。该装置可通过其调节机构实时地优化装置中等离子体的分布。置于沉积台下方的环状微波石英窗口可避免被等离子体过度加热、污染和刻蚀。谐振腔内壁距离高温等离子体区较远，减弱了对腔室内壁的热辐射和避免沉积异物。装置各主要部件可直接水冷。
tm sub 021 模式功率微波等离子体金刚石沉积装置

[发明专利]集成电路阻挡层和集成电路结构的制备方法-CN200910169586.3有效
发明人：林江宏 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2009-09-10 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：形成阻挡层的一实施例包含形成金属层于孔洞内，以及在包含等离子体的环境中进行处理工艺以形成氧化金属层于金属层上，其中等离子体由包含氧化剂的气体形成。形成阻挡层的另一实施例包含形成金属层及氮化金属层于孔洞内，以及在包含等离子体的环境中进行处理工艺以形成氧化金属层于金属层及氮化金属层上，其中等离子体由包含氧化剂的气体形成。
集成电路阻挡结构制备方法

[发明专利]磁场位形对等离子体减压效应的影响研究方法-CN201910559066.7有效
发明人：毛保全;白向华;李程;杨雨迎;宋瑞亮;朱锐;张天意;赵其进 -专利权人：中国人民解放军陆军装甲兵学院
申请日： 2019-06-26 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明公开了磁场位形对等离子体减压效应的影响研究方法，包括以下步骤：S1：均匀磁场减压研究，带电粒子在圆管中均匀磁场区域中运动时，等离子体中单个带电粒子在外加磁场作用下的运动，其他粒子对它的作用被完全忽略，这是等离子体的单粒子运动模型；S2：非均匀磁场减压研究；S3：模型验证，减压效应是圆管结构中等离子体受到磁场约束作用时的集体行为。本发明的研究方法更加的科学合理，粒子在垂直于磁场平面上的运动轨迹是由有限半径的拉莫尔回旋运动和磁场不均匀引起的漂移运动的叠加，回旋运动使带电粒子在垂直于磁场方向的运动受到抑制，当一个离子和中性原子碰撞后，离子会向不同的方向移动。
磁场等离子体减压效应影响研究方法

[实用新型]一种基于复合研磨场的球磨系统-CN202022245918.6有效
发明人：陈波 -专利权人：深圳市科力纳米工程设备有限公司
申请日： 2020-10-10 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： B02C17/18 文献下载
摘要：本实用新型公开一种基于复合研磨场的球磨系统，该基于复合研磨场的球磨系统包括密封的研磨筒内设有与驱动轴连接的分散器和驱动分散器将研磨筒内的物料和研磨球形成研磨分散场的驱动电机，以及控制驱动电机工作的控制器，所述研磨筒还设有产生等离子体的介质和对研磨分散场区域内介质形成等离子场的等离子体发生器，其中等离子场和研磨分散场存在叠加区域形成复合研磨场。研磨时，物料与研磨球接触碰撞，使物料碎裂或表面形成不规则结构，当表面不规则的物料等处于由气体产生等离子体形成等离子场时，高速运动的物料在等离子场内，物料既与研磨介质间有机械作用力，又能充分与等离子体间产生作用
一种基于复合研磨系统

[发明专利]一种微米级球形Ti粉及其制备方法-CN201810841648.X在审
发明人：曾德长;肖猛;邱金勇;邱兆国;邹永鸣;张友生 -专利权人：广东正德材料表面科技有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： B22F9/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种微米级球形Ti粉的制备方法，其特征在于，以形状不规则的Ti粉体为原料，采用如下步骤制备：(1)射频等离子体球化；(2)去离子水漂洗、脱水；(3)真空干燥。本发明方法中，所用的等离子体粉体球化设备中等离子体反应器内气氛可控,制备出的球形钛粉球形度高、流动性好、粒径小,且分布均匀、杂质少、致密性高，工艺更快速、简捷、一次成型,成本低,具有良好的工业化前景，制备方法可得到高球化率
制备微米级粉体钛粉等离子体射频等离子体中等离子体球化设备去离子水一次成型致密性高反应器含氧量不规则漂洗高球形球化率球形度可控粒径球化脱水堆积

[发明专利]基于低温等离子体放电的复合离子源-CN201610941257.6有效
发明人：张建军;董俊国;庞星龙;程平;韩明聪;刘吉星;石学峰 -专利权人：上海大学
申请日： 2016-10-26 - 公布日： 2018-04-27 - 主分类号： H01J49/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于低温等离子体放电的复合离子源，包括低温等离子体射流装置、喷雾装置、调节装置、三位移动工作平台、样品载物平台和圆形控制平台。本发明通过把调节装置、三维移动工作平台和样品载物平台固定在圆形控制平台上，通过旋转移动圆形控制平台来改变低温等离子体射流装置、喷雾装置和样品载物平台的相对位置，从而实现低温等离子体的两种电离模式，不仅适合分析弱极性或非极性小分子有机化合物，还适合分析中等极性或多肽、蛋白质和糖等极性强的大分子有机化合物，且能形成多电荷离子，从而实现仅仅通过等离子体放电方式就能完成从低极性到高极性，从低分子量到高分子量的有机物分子的电离；本发明还具有结构简单
基于低温等离子体放电复合离子源

[发明专利]使用等离子体喷嘴进行容器涂层-CN201380019140.7有效
发明人：约亨·克吕格尔;海因茨·胡梅尔 -专利权人：克朗斯股份公司
申请日： 2013-01-16 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： B65D23/02 文献下载
摘要：本发明是关于容器，例如塑料瓶和/或容器毛坯件，例如容器预制件的等离子增强喷涂的装置，包括至少一个高频源(327)，至少一个气体进口，用以注入工艺气体，以及至少一个等离子源(200)，例如一个等离子喷嘴，其中等离子源包含一个内电极(205)，并且该内电极(205)的周围绕着喷嘴管(220)，上述至少一个等离子源(200)置于需喷涂的容器内，并对其进行相应配置，使得其在环境压力下，比如在800‑1200hPA的压力范围内，产生等离子体(204)，并且等离子体能通过喷嘴管末端(203)排出，此时，产生的等离子体的温度应在环境温度范围内，比如10到50℃，其特征是等离子源(200)的喷嘴管(220)包含一个纵向喷嘴管元件前述横向喷嘴管元件(202)从纵向喷嘴管元件(201)上横向伸出，并且等离子体通过横向喷嘴管末端(203)被排放。
使用等离子体喷嘴进行容器涂层

[发明专利]一种水膜式等离子水处理设备及其使用方法-CN202010240801.0在审
发明人：王红卫 -专利权人：王红卫
申请日： 2020-03-31 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C02F1/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种水膜式等离子水处理设备及使用方法，包括等离子发生器、进水槽、回收槽、电源、气泵及水泵；所述水泵通过水管将进水槽与等离子发生器连通，所述气泵通过进气管与等离子发生器连通；所述等离子发生器为管状DBD放电结构；所述等离子发生器包括负极筒、绝缘筒、正极筒、上盖、底座；该使用方法操作简单，安全可靠；本发明解决了现有技术中等离子体放电空间的利用率低，气液接触时间短、接触面积小，导致处理效率低、处理效果差等缺陷，本发明提高等离子体放电空间的利用率，延长气液接触时间、增大气液接触面积，提高处理效率和效果。
一种水膜式等离子水处理设备及其使用方法

[发明专利]复合片材及制造方法-CN201580004774.4有效
发明人：英戈·克卢佩尔;米夏埃尔·施特拉克;英戈·罗格纳;妮科尔·舍夫;加布里埃拉·达庞特;丹尼·哈弗曼斯;扎比内·保卢森;伯特·费尔海德 -专利权人：蒂森克虏伯钢铁欧洲股份公司;威拓股份有限公司
申请日： 2015-01-16 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： B32B38/00 文献下载
摘要：所述方法能够以经济的方式进行生产，该方法包括：提供至少第一金属基材和第二金属基材、以及至少一层中间聚合物层(3)，其中第一金属基材和第二金属基材用于提供外部金属层(1、2)；在至少一个金属基材的内侧，通过等离子体涂覆(4)从而使所述至少一个金属基材被粘合促进层涂覆，其中所述至少一个金属基材的内侧与至少一层中间聚合物层相接触，其中等离子体涂覆包括：提供工艺气体，产生等离子体，将用于提供粘合促进层的前体注入到所产生的等离子体或等离子体余辉中，将所述至少一个金属带移动或放置在产生的等离子体或等离子体余晖中，并且至少部分地将等离子体聚合的粘合促进层沉积到所述至少一个金属基材的内侧面上；以及将至少一层中间聚合物层和两个所述外部金属层层叠，从而制造复合材料
复合制造方法

[发明专利]晶片研磨后增加等离子体工艺的晶片薄化方法-CN201911094629.6在审
发明人：巫勤达;徐坤基;邱垂良;曾仁栋 -专利权人：力成科技股份有限公司
申请日： 2019-11-11 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种晶片研磨后增加等离子体工艺的晶片薄化方法，其包括提供一晶片，晶片包括一第一表面、一第二表面以及一晶片表面线路。第二表面相对于第一表面，以及晶片表面线路设置在晶片的第一表面。对晶片的第三表面进行一等离子体工艺并于第三表面上形成多个破坏纹路，其中等离子体工艺使用的气体包括氩气。
晶片研磨增加等离子体工艺方法

[实用新型]一种等离子体喷枪设备-CN202220738084.9有效
发明人：李淩豪;胡磊;倪国华;孙坡 -专利权人：中科等离子体科技（合肥）有限公司
申请日： 2022-03-31 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本实用新型的一种等离子体喷枪设备，包括枪体，枪体内设置放电石英管、电极铜块及高压线，电极铜块放置在放电石英管的收缩端口一侧位置，高压线通过电极铜块固定；放电石英管外侧镀有一圈涂覆导电银浆，电极铜块放置在放电石英管收缩端口一侧上的涂覆导电银浆边界位置本实用新型特别适用于等离子体肿瘤治疗系统中等离子体喷枪设备的结构设计方案，包括机械结构的组成和功能实现方式；在等离子体产生端加入金属防护罩，束缚电磁场，增强等离子体产生的强度，提高了肿瘤治疗效果，降低设备制造成本
一种等离子体喷枪设备

[发明专利]压气机周向槽中等离子体流动控制方法及控制系统-CN201810094478.3在审
发明人：王逸斌;刘思飏;覃宁;赵宁 -专利权人：南京航空航天大学
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： F04D27/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种压气机周向槽中等离子体流动控制方法及控制系统，本发明在压气机动叶机匣处应用周向槽机匣处理，并且在周向槽内引入等离子体对槽内流质进行诱导作用，改善了前缘溢出流动现象并且达到延缓叶顶泄漏涡向前缘的发展的目的
周向槽中等离子体控制系统流动控制压气机前缘叶顶等离子体后缘压气机动叶低速气流机匣处理流动现象诱导作用机匣处溢出泄漏延缓堵塞引入应用