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[发明专利]等离子体扩散设备和系统及在处理炉中扩散等离子体的方法-CN201980025769.X在审
发明人：威廉·A·莫法特;克雷格·瓦尔特·麦科伊 -专利权人：良率工程系统公司
申请日： 2019-02-14 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种扩散等离子体的装置和方法，其允许在较大的处理腔室压力范围内进行等离子体蚀刻。等离子体源，例如线性感应等离子体源，可以被阻塞以改变等离子体源内的背压。然后可以在偏转盘周围扩散等离子体源，所述偏转盘在圆顶下扩散等离子体，这样就可以在基板的表面上实现非常均匀的等离子体蚀刻速率。该设备可以包括位于等离子体扩散部分上面的线性感应等离子体源，所述等离子体扩散部分在水平配置的晶片或其他衬底上扩散等离子体。衬底支撑件可以包括适于增强蚀刻的加热元件。
等离子体扩散设备系统处理方法

[发明专利]等离子体射流阵列发生装置及系统-CN202111325271.0在审
发明人：陈支通;白帆;唐天宇;杨广权 -专利权人：深圳高性能医疗器械国家研究院有限公司
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体射流阵列发生装置及系统，其中，等离子体射流阵列发生装置包括多个等离子体发生结构，等离子体发生结构用于产生等离子体，多个等离子体包括用于输出等离子体的第一出口，多个等离子体发生结构的第一出口朝向同一方向本发明是一种基于大气压冷等离子体发生器的等离子体射流阵列发生装置，根据情况可以设计不同的外壳，以实现局部的筒型和长方体型冷等离子体射流，以及可弯折的大面积均匀稳定的冷等离子体射流阵列发生系统。
等离子体射流阵列发生装置系统

[发明专利]具有耐腐蚀部件的等离子体处理装置-CN201210560158.5有效
发明人：石洪;许林;拉金德·丁德萨;约翰·多尔蒂;方言;李斯文 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2012-12-20 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：在一种实施方式中，等离子体处理装置可以包含等离子体处理室、等离子体区、能量源和耐腐蚀部件。该等离子体处理室可以保持在真空压强下，并可以约束等离子体处理气体。该能量源可以向该等离子体处理室中传送能量，并在该等离子体区内将该等离子体处理气体中的至少一部分转变成等离子体。该耐腐蚀部件可以位于该等离子体处理室内。该耐腐蚀部件可以暴露于该等离子体处理气体，并与该等离子体区不重合。该耐腐蚀部件可以包括涂覆有钽（Ta）外层的不锈钢内层。
具有腐蚀部件等离子体处理装置

[实用新型]粉末冶金成品的电镀包装装置-CN201921151331.X有效
发明人：沈新娟;张佳乐 -专利权人：海门市鑫瑞船舶配件有限公司
申请日： 2019-07-22 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： B22F3/24 文献下载
摘要：本实用新型揭示了一种粉末冶金成品的电镀包装装置，为续接烧结成型炉的后处理单元，包括沿产线送料辅道行进向顺次接设的等离子体处理腔、电镀腔、烘干腔及覆膜包装单元，其中等离子体处理腔为外联真空泵的密闭处理腔体且对应穿接其中的送料辅道两端分别设有真空隔离模组，等离子体处理腔内设有一对面向烧结成品形成电场的正电极板和负电极板；覆膜打包单元内设围转式覆膜模组及热塑封装模组。应用本实用新型的电镀打包装置，引入真空化改造的等离子体处理腔，实现了对烧结成品的表面活性化预处理，大幅度提升了粉末冶金产品的表面改性程度使之更利于充分电镀达到预期品质；同时一体化的覆膜封装也提升了成品的质保时间
粉末冶金成品电镀包装装置

[实用新型]等离子发动机-CN201621377085.6有效
发明人： D·E·A·兰岑德费尔;刘智宇 -专利权人：深圳市矛村电子科技有限公司
申请日： 2016-12-15 - 公布日： 2017-09-12 - 主分类号： F03H1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子发动机，它包括等离子体发生器、加热器和排放端，该等离子体发生器包括输入端和等离子体生成室，该加热器沿等离子体的流动方向布置在等离子体发生器的下游并用于加热等离子体，该排放端沿等离子体的流动方向布置在加热器的下游并用于将加热后的等离子体排出等离子发动机根据本实用新型，所述等离子体发生器为螺旋波型的等离子体发生器，它的等离子体生成室与加热器物理隔离，并且它的输入端设置有离子推进模块，该离子推进模块能在环境压力下点燃所述等离子体生成室中生成的等离子体。本实用新型的等离子发动机具有工作效率高并且经济性好的优点。
等离子发动机

[发明专利]YAG:Ce荧光屏实现毛细管放电极紫外光刻光源等离子体状态检测系统-CN201310100760.5无效
发明人：徐强;赵永蓬;王骐 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2013-03-27 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： G01J11/00 文献下载
摘要：YAG:Ce荧光屏实现毛细管放电极紫外光刻光源等离子体状态检测系统，涉及毛细管放电极紫外光刻光源中等离子状态检测。本发明解决了极紫外光刻光源等离子体常规检测方法价格昂贵，使用条件苛刻的问题，提出了YAG:Ce荧光屏实现毛细管放电极紫外光刻光源等离子体状态检测系统。本发明适用于极紫外光刻光源等离子体状态的检测。
yag ce 荧光屏实现毛细管电极紫外光刻光源等离子体状态检测系统

[发明专利]等离子体清洗设备-CN201510505460.4在审
发明人：魏钰;袁广才;王东方 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-08-17 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体清洗设备。所述等离子体清洗设备包括多个等离子体发生筒；所述等离子体发生筒的一端为进气口，另一端为出气口，每个所述等离子体发生筒将位于其内部的气体激发为等离子体；所述多个等离子体发生筒阵列设置；且所述多个等离子体发生筒下端的开孔交错设置上述等离子体清洗设备输入到玻璃基板表面的等离子体可以均匀地将玻璃基板覆盖，减少未被等离子体覆盖的死角，从而可以保证对玻璃基板的清洗效果。
等离子体清洗设备

[发明专利]等离子体足部理疗机-CN201710591146.1在审
发明人：王雨蓬;李毅;李双豆;杨锡信;赵龙;周磊;赵国柱 -专利权人：烟台海灵健康科技有限公司
申请日： 2017-07-19 - 公布日： 2017-09-26 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体足部理疗机，包括等离子体发生器升降装置(1)、等离子体发生器(2)、等离子体足部理疗箱(3)、抽气系统(4)、触摸控制系统(5)、气源(6)和电源(7)，所述等离子体发生器升降装置(1)设置在等离子体发生器(2)下部并连接控制等离子体发生器(2)上升下降，等离子体发生器(2)设置在等离子体足部理疗箱(3)下方并与等离子体足部理疗箱(3)相连。本发明的等离子体足部理疗机产生的等离子体，具有杀菌消毒作用，对于大多数的皮肤疾病具有显著治疗效果，同时等离子体能大幅提高人体免疫能力，具有防病保健的效果，并且能够加速脚部血液循环，促进新陈代谢，缓解疲劳
等离子体足部理疗

[发明专利]测量等离子体频率监控等离子体处理系统中处理的方法和装置-CN200580039838.0无效
发明人：程家成;蒂莫西·J·吉尼;拉奥·安纳普拉加达;苏布哈什·德希穆克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2005-09-23 - 公布日： 2007-12-12 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：公开了一种用于在具有处理室的等离子体系统中原位监控处理的方法。该方法包括在等离子体处理室中定位衬底。该方法还包括在将衬底设置在等离子体处理室内时在等离子体处理室中撞击等离子体。该方法进一步包括获得撞击等离子体之后存在的测量等离子体频率，该等离子体频率值具有当等离子体不存在时的第一值以及当等离子体存在时的不同于第一值的至少一个第二值。该方法还包括如果等离子体频率值在预定等离子体频率值包络之外，则使测量等离子体频率值与处理的属性相关。
测量等离子体频率监控等离子体处理系统方法装置

[发明专利]涂覆的基板的等离子灰化-CN201980069982.0在审
发明人： R·阿斯金;S·克兰西;J·珍妮克;B·劳伦斯 -专利权人： HZO股份有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：一种用于对基板上的涂层进行等离子体蚀刻或灰化的系统包括等离子体室、第二电极、耦合至等离子体室的等离子体源、包括涂层的基板以及包括至少一个孔的等离子体掩模。等离子体室包括第一电极。等离子体掩模被配置成用于覆盖基板，同时通过至少一个孔暴露基板和所述涂层的选定表面。第一电极和第二电极被配置成用于在等离子体室内引发并维持等离子体。等离子体源包括气体。
等离子灰化

[发明专利]一种等离子体处理装置-CN202011491408.5在审
发明人：邱勇;吴堃;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板，所述等离子体通道板包括：等离子体通道板主体；环绕所述等离子体通道板主体的侧部的通道板定位件；位于所述通道板定位件和所述反应腔主体的顶壁之间的导电导热环；位于所述等离子体通道板主体上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤以及等离子体通道板接地不良的问题。
一种等离子体处理装置

[发明专利]等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法-CN201310523249.6有效
发明人： R.库马;S.N.帕尔瓦迪;S.S.帕楚努里 -专利权人：通用电气公司
申请日： 2013-10-30 - 公布日： 2017-06-23 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法。更具体而言，一种等离子体生成装置组件(302)包括基体(308)，该基体包括顶表面(310)。等离子体生成装置组件还包括等离子体生成装置(206)和多个联接部件(326)。等离子体生成装置包括多个等离子体生成装置端子(324)。等离子体生成装置定位于顶表面上，并且配置成在等离子体生成装置被启动时发射烧蚀等离子体。多个联接部件配置成将等离子体生成装置联接到顶表面。
等离子体生成装置组件电弧缓解组装方法

[实用新型]一种等离子体处理装置-CN202023050801.9有效
发明人：邱勇;吴堃;张鹏兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板，所述等离子体通道板包括：等离子体通道板主体；环绕所述等离子体通道板主体的侧部的通道板定位件；位于所述通道板定位件和所述反应腔主体的顶壁之间的导电导热环；位于所述等离子体通道板主体上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤以及等离子体通道板接地不良的问题。
一种等离子体处理装置

[发明专利]处理基板边缘缺陷的等离子体系统及方法-CN201810685888.5有效
发明人：徐瑞美;翁志强;蔡陈德;李祐升 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种处理基板边缘缺陷的等离子体系统及方法，等离子体系统包括一等离子体源与一承载装置；等离子体源包含至少一等离子体产生单元；承载装置用以输送至少一基板相对于等离子体源移动，以进出一等离子体作用区；基板具有待处理区域，等离子体源是于等离子体作用区内对于待处理区域提供一等离子体束，且等离子体束的行进方向实质上平行于基板的表面；移动基板进入等离子体作用区，通过等离子体源提供待处理区域一具温度梯度(Thermal gradient
处理边缘缺陷等离子体系统方法

[发明专利]等离子体边缘环和包括其的等离子体蚀刻装置-CN202211324391.3在审
发明人：李炫周;南象基;曹永贤 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了等离子体边缘环和包括其的等离子体蚀刻装置。等离子体蚀刻装置包括等离子体电极、在等离子体电极上的等离子体边缘环、以及在等离子体电极上在蚀刻对象外侧的引导电极。等离子体边缘环提供垂直穿透等离子体边缘环的中心的放置孔、以及在限定放置孔的内侧表面的一部分上的凹陷。凹陷从内侧表面向外凹入。
等离子体边缘包括蚀刻装置