专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多介电常数/多层介质带状线结构的定向耦合器-CN200910173607.9无效
  • 陈兵红 - 陈兵红
  • 2009-09-01 - 2010-02-03 - H01P5/18
  • 一种多介电常数/多层介质带状线结构的定向耦合器,包括顶层地、中间地、底层地、至少三介质,其中包括上介质、第一中间介质介质,相互耦合的主信号线和耦合线;在所述第一中间介质的上、两面分别设有主信号线、耦合线和中间地,所述中间地分别与所述主信号线和耦合线绝缘,在所述主信号线之上设有上介质,在所述上介质上底面上设有顶层地,在所述耦合线之下设有介质,在所述介质之下设有底层地;所述顶层地、中间地和底层地串联本发明的主要优点就是采用多种介电常数及多层介质的带线结构,因此承载功率大,体积小。
  • 介电常数多层介质带状线结构定向耦合器
  • [实用新型]多介电常数/多层介质带状线结构的定向耦合器-CN200920169610.9无效
  • 陈兵红 - 陈兵红
  • 2009-09-01 - 2010-09-15 - H01P5/18
  • 一种多介电常数/多层介质带状线结构的定向耦合器,包括顶层地、中间地、底层地、至少三介质,其中包括上介质、第一中间介质介质,相互耦合的主信号线和耦合线;在所述第一中间介质的上、两面分别设有主信号线、耦合线和中间地,所述中间地分别与所述主信号线和耦合线绝缘,在所述主信号线之上设有上介质,在所述上介质上底面上设有顶层地,在所述耦合线之下设有介质,在所述介质之下设有底层地;所述顶层地、中间地和底层地串联本实用新型的主要优点就是采用多种介电常数及多层介质的带线结构,因此承载功率大,体积小。
  • 介电常数多层介质带状线结构定向耦合器
  • [发明专利]悬臂梁式压电驱动及压电检测的瓦斯传感器-CN201110077293.X有效
  • 马洪宇;丁恩杰;张卫东 - 中国矿业大学
  • 2011-03-30 - 2011-07-27 - G01N27/00
  • 一种悬臂梁式压电驱动及压电检测的瓦斯传感器,硅衬底上设有以介质作为结构的悬臂梁,悬臂梁根部设有对称排列、结构相同的第一、第二压电单元,压电单元包括压电、设在压电上下的上电极和电极,电极设在介质上,电极是电极金属的一部分,设有隔离介质覆盖介质、压电电极金属,上电极设在压电上部的隔离介质上,悬臂梁的隔离介质上设有超分子化合物薄膜作为瓦斯敏感,悬臂梁之外的隔离介质旁设有连接下电极的电极引线和连接上电极的上电极引线
  • 悬臂梁压电驱动检测瓦斯传感器
  • [发明专利]可钢化双银镀膜玻璃-CN202010064600.X在审
  • 吕宜超;宋宇;谭小安;黄颖;熊建;刘莹;刘双 - 深圳南玻科技有限公司;中国南玻集团股份有限公司
  • 2020-01-20 - 2020-06-09 - C03C17/36
  • 本发明实施例公开的一种可钢化双银镀膜玻璃,包括基底和依次形成于基底同一侧面上的第一介质、第一种子、第一功能、第一保护、第二介质、第二种子、第二功能、第二保护、第三介质,其中,第二介质包括依次排列的第二介质、第二中间层、第二上中间层以及第二上子介质,第二介质与第一保护相邻,第二上子介质与第二种子相邻,第二中间层选自于银和铜之一,第二上中间层选自于银和铜之另一;可钢化双银镀膜玻璃还包括位于第一保护与第二介质之间的第一热稳介质和/或位于第二保护与第三介质之间的第二热稳介质
  • 可钢化双银镀膜玻璃
  • [发明专利]半导体结构的制造方法-CN202310115176.0在审
  • 肖凡 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2023-02-02 - 2023-04-21 - H10B12/00
  • 本公开实施例涉及半导体领域,提供一种半导体结构的制造方法,半导体结构的制造方法包括:提供依次层叠设置的基底、第一介质、第二介质以及掩膜,第一介质的材料与第二介质的材料不同,且基底内具有多个分立的着落垫,掩膜内具有多个贯穿掩膜的开口;以掩膜为掩膜,沿开口刻蚀第二介质以及第一介质,直至露出着落垫,形成贯穿第二介质以及第一介质的多个第一通孔,且每一第一通孔露出相应的一着落垫;形成电极膜,电极膜至少填充满开口以及第一通孔;去除掩膜以及高于第二介质顶面的电极膜,剩余的电极膜作为电极
  • 半导体结构制造方法
  • [发明专利]半导体存储器件及其制备方法-CN202010267452.1在审
  • 权俊模 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-04-08 - 2021-10-12 - H01L21/8242
  • 本发明涉及一种半导体存储器件及其制备方法;包括如下步骤:提供衬底;于衬底上形成叠结构;于叠结构内形成若干个间隔排布电容孔;于电容孔内形成电极;去除顶层介质;于暴露出的牺牲的表面及电极的上部表面形成第一电容介质;于第一电容介质的表面形成第一上电极;于第一上电极及第一电容介质内形成多个开口;基于开口去除牺牲;至少于电极的表面及暴露出的底层介质的表面形成第二电容介质;于第二电容介质的表面形成第二上电极本发明的第一电容介质及第一上电极既可以起到支撑的作用,又可以与电极形成电容,从而可以增大柱状电容的电容容量。
  • 半导体存储器件及其制备方法
  • [发明专利]一种集成电容器及其制备方法-CN202211436445.5在审
  • 雷嘉成;彭昊炆;许东 - 上海新微半导体有限公司
  • 2022-11-16 - 2023-05-12 - H10N97/00
  • 本发明提供一种集成电容器及其制备方法,该集成电容器包括衬底、介电极板层、第一介质、凹槽、第二介质及上极板层,其中,介电覆盖衬底上表面;极板层位于介电的上表面,极板层沿X方向的长度小于介电沿X方向的长度;第一介质中设有凹槽,第一介质覆盖凹槽两侧介电的上表面及极板层的显露表面,凹槽位于极板层上方,凹槽底面显露出下极板层的上表面;第二介质覆盖第一介质上表面及凹槽的内壁和底面;上极板层位于第二介质的上表面本发明通过形成位于第一介质中的凹槽之后,再依次形成第二介质及填充凹槽的上极板层,避免了形成凹槽时损伤第二介质,简化了器件结构。
  • 一种集成电容器及其制备方法
  • [发明专利]三银镀膜玻璃-CN202011416468.0在审
  • 吕宜超;刘莹;谭小安;宋宇;熊建;黄颖;周泓崑 - 深圳南玻应用技术有限公司;中国南玻集团股份有限公司
  • 2020-12-04 - 2021-03-23 - C03C17/36
  • 本发明实施例公开的一种三银镀膜玻璃,包括玻璃基板和依次在玻璃基板同一侧面上形成的第一介质、第一打底层、第一功能、第一金属阻挡、第二介质、第二打底层、第二功能、第二金属阻挡、第三介质、第三打底层、第三功能、第三金属阻挡、第四介质,其中,第二介质包括依次排布的第二介质、第二中间层、第二上子介质,第二介质与第一金属阻挡相邻,第二上子介质与第二打底层相邻;第三介质包括依次排布的第三介质、第三中间层、第三上子介质,第三介质与第二金属阻挡相邻,第三上子介质与第三打底层相邻;第二中间层、第三中间层分别选自于铜镍合金、铜钛合金、铜铬合金以及铜锌合金。
  • 镀膜玻璃
  • [发明专利]一种集成电容器及其制备方法-CN202211435807.9在审
  • 雷嘉成;许东;彭昊炆 - 上海新微半导体有限公司
  • 2022-11-16 - 2023-03-07 - H01L23/64
  • 本发明提供一种集成电容器及其制备方法,该集成电容器包括衬底、介电极板层、第一介质、第二介质、接触孔、焊垫及上极板层,其中,介电覆盖衬底上表面;极板层位于介电上表面,在X方向下极板层的长度小于介电的长度;第一介质覆盖下极板层显露表面;第二介质覆盖第一介质上表面;接触孔位于极板层上方的第二介质中且底面显露出下极板层;焊垫覆盖接触孔内壁及底面并与极板层电连接,上极板层位于极板层上方的第二介质的上表面本发明通过低温形成覆盖下极板层的第一介质之后形成高温工艺的第二介质,避免了炉管的污染极板层有效面积变化,降低了维护炉管频率及维护成本。
  • 一种集成电容器及其制备方法

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