专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于色散超透镜的计算式光谱仪及工作方法-CN202310852196.6在审
  • 丁心宇;谢会开;单崇书 - 北京理工大学;北京理工大学重庆微电子研究院
  • 2023-07-12 - 2023-10-13 - G01J3/28
  • 本发明公开的一种基于时间分光的计算式光谱仪及工作方法,属于光谱分析技术领域。本发明包括超透镜、光电探测器、信号处理系统、光收集元件。超透镜能够对入射光聚焦。超透镜光轴上最近焦点与最远焦点之间任意一点的光强由光谱仪工作波段内所有波长信号按预定权重产生。超透镜光轴上最近焦点与最远焦点之间的任意一点上,在该处聚焦的波长信号产生最大权重。光收集元件放置于超透镜中心光轴上,具有固定光通量。光收集元件的入射端口与超透镜之间的距离可调,入射端口位置处于超透镜工作波段内最近焦点与最远焦点之间。通过光电探测器上的单一像元在不同时间依次采集响应信号,计算出原始光谱,解决空间分光方式固有的光谱精度与空间分辨率矛盾。
  • 一种基于色散透镜算式光谱仪工作方法
  • [发明专利]集成磁芯的自卷曲电感-CN202211698049.X在审
  • 杨恒张;谢会开;曹英超;丁英涛;严阳阳;单崇书 - 北京理工大学;北京理工大学重庆微电子研究院
  • 2022-12-28 - 2023-06-30 - H01F17/00
  • 本发明涉及一种集成磁芯的自卷曲电感,用于提高磁芯填充的良率以及器件制造良率,属于MEMS加工制造领域。本发明的目的是为了优化3D自卷曲功率电感制造工艺,提高磁芯填充良率及器件制造速率,且实现器件全流程制造工艺与MEMS工艺相互兼容,提供一种集成磁芯的自卷曲电感。自卷曲电感包含衬底、磁芯、结构层下层薄膜、结构层上层薄膜、金属走线。其中,结构层下层薄膜,结构层上层薄膜和金属走线自下而上顺序堆叠于衬底上。磁芯沉积在结构层上层薄膜端部。该方案具有磁芯大小形貌可控、与MEMS工艺和IC工艺兼容、低成本、可量产等优势。
  • 集成卷曲电感
  • [发明专利]基于MEMS可动微平台及其阵列的成像光谱仪-CN202310390875.6在审
  • 丁心宇;谢会开;陈超;曹英超 - 北京理工大学;北京理工大学重庆微电子研究院
  • 2023-04-13 - 2023-06-06 - G01J3/28
  • 本发明公开的一种基于MEMS可动微平台及其阵列的成像光谱仪,属于光谱成像技术领域。本发明包括超表面、MEMS可动微平台阵列、光阑、图像传感器。超表面由特征尺寸小于光谱仪工作波段的微结构构成。本发明采用超表面作为色散元件,显著压缩分光元器件的体积;通过将超表面集成于MEMS可动微平台阵列上,并实现使用半导体工艺进行MEMS可动微平台阵列加工,能够降低成像光谱仪的生产成本,提高成像光谱仪的集成度;利用MEMS可动微平台阵列将物方空间划分为多个区域进行成像,能够获得最大与阵列单元数量相同的空间分辨率,而不需要添加额外的扫描元件来获取空间分辨能力;通过灵活选择每个MEMS可动微平台单元的工作状态,获得任意大小的空间分辨率。
  • 基于mems可动微平台及其阵列成像光谱仪
  • [发明专利]二维静电扫描微镜及其制作方法-CN202211456584.4在审
  • 曹英超;谢会开;丁英涛;严阳阳 - 北京理工大学;北京理工大学重庆微电子研究院
  • 2022-11-21 - 2023-05-09 - G02B26/10
  • 本发明公开的一种二维静电扫描微镜及其制作方法,属于微光机电技术领域。本发明公开的一种二维静电扫描微镜,包括器件层、绝缘层、衬底层。器件层上包括聚合物填充电隔离沟道和开放电隔离沟道。二维静电扫描微镜基于聚合物填充沟道,实现高深宽比沟道的填充,采用与具有电绝缘和机械连接性的聚合物填充沟道,实现对沟道两侧电极的电绝缘和固化机械稳定连接,进而实现二维静电扫描微镜驱动电极间的高电压驱动;此外,采用聚合物一次填充方式实现沟道的无缝隙填充,提高沟道填充效率和成品率,降低二维静电扫描微镜制作成本。利用聚合物具有超低杨氏模量的特性,有效消除沟道内填充物与沟道结构之间的应力失配,提高二维静电扫描微镜工作稳定性。
  • 二维静电扫描及其制作方法
  • [发明专利]基于熔断释放装置的双层自卷曲薄膜系统及制作方法-CN202211698055.5在审
  • 杨恒张;谢会开;丁英涛;曹英超;严阳阳 - 北京理工大学;北京理工大学重庆微电子研究院
  • 2022-12-28 - 2023-05-02 - B81B7/02
  • 本发明公开的一种基于熔断释放装置的双层自卷曲薄膜系统及制作方法,属于MEMS加工制造领域。本发明为熔断电阻释放薄膜结构。支撑层沉积在衬底两个端部;衬底、支撑层、结构层下层薄膜包围形成空腔结构;结构层上层薄膜沉积在结构层下层薄膜上;通过熔断电阻将结构层下层薄膜和金属电极连接。空腔结构通过牺牲层的释放形成。逐步去除支撑层,埋氧层和器件层后形成特有的空腔结构。结构层下层薄膜与结构层上层薄膜共同组成双晶片卷曲薄膜系统。两层薄膜应力相反,结构层下层薄膜为负应力,结构层上层薄膜为正应力,确保结构释放后薄膜向上卷曲。通过调节结构层下层薄膜与结构层上层薄膜应力控制薄膜卷曲形变能力;通过瞬时大电流熔断固定电阻,使薄膜在失去固定约束后产生瞬时回弹,薄膜的自由尖端在回弹中具有较大的冲量,从而使得薄膜卷曲更加致密。
  • 基于熔断释放装置双层卷曲薄膜系统制作方法
  • [发明专利]微机电系统微镜及其制作方法-CN202010349895.5有效
  • 薛原;谢会开;王鹏 - 北京理工大学重庆微电子研究院;无锡微文半导体科技有限公司
  • 2020-04-28 - 2023-02-28 - G02B26/08
  • 公开了一种微机电系统微镜及其制作方法,该微镜包括:驱动器,驱动器包括驱动部和由驱动部支撑的结构平台,驱动部带动结构平台移动或转动;镜面结构,位于结构平台远离驱动部的一侧,且镜面结构远离结构平台的一侧至少具有一个可反射镜面;定位结构,包括至少一个凸起部和至少一个凹陷部,凸起部和凹陷部中的任意一者位于结构平台上,另一者位于镜面结构上,且凸起部与凹陷部相匹配,其中,结构平台在驱动部的带动下向靠近镜面结构的方向运动,由定位结构将结构平台和镜面结构相互连接匹配,形成微机电系统微镜。通过驱动部来使结构平台朝向镜面结构运动,又有定位部使二者相匹配,提高了微镜的表面质量,且无需人工参与,保护了微镜结构。
  • 微机系统及其制作方法

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