[发明专利]一种P沟道肖特基势垒二极管及其制作方法在审
申请号: | 202311194818.7 | 申请日: | 2023-09-15 |
公开(公告)号: | CN116936645A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 李国强 | 申请(专利权)人: | 河源市众拓光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L21/329 |
代理公司: | 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 | 代理人: | 莫荣津 |
地址: | 517000 广东省河源*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种P沟道肖特基势垒二极管及其制作方法,属于半导体器件领域,二极管包括衬底、阳极和阴极,衬底之上从下往上依次设置有GaN缓冲层、AlGaN势垒层、p‑GaN层和BeO层,BeO层为在p‑GaN层的(0001)面上生长的(0001)BeO膜;阳极穿过BeO层及p‑GaN层到达AlGaN势垒层,且与p‑GaN层的侧面肖特基接触;阴极穿过BeO层与p‑GaN层欧姆接触。AlGaN/p‑GaN形成异质结时产生一定浓度的二维空穴气,BeO层提升二维空穴气的浓度,从而使器件的P沟道导通电流增大,由此得到高性能的P沟道肖特基势垒二极管。 | ||
搜索关键词: | 一种 沟道 肖特基势垒二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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