[发明专利]半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202310085480.5 申请日: 2023-02-01
公开(公告)号: CN116344544A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 曾健庭;萧锦涛;方上维;林俊言;黄圣丰;郑仪侃;鲁立忠 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234;H01L27/092;H01L21/8238
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 半导体器件包括位于第一行中的第一单元,其中,第一行在第一方向上延伸,第一单元具有在垂直于第一方向的第二方向上测量的第一单元高度。半导体器件还包括位于第一行中的第二单元,其中,第二单元具有在第二方向上测量的第二单元高度,第二单元高度小于第一单元高度。第二单元包括具有在第二方向上测量的第一宽度的第一有源区域以及具有在第二方向上测量的第二宽度的第二有源区域,其中,第二宽度与第一宽度不同。本申请的实施例还涉及制造半导体器件的方法。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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