[发明专利]集成电路芯片及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202210726071.4 申请日: 2022-06-23
公开(公告)号: CN115425005A 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 庄学理;曾国权;陈宛桢;黄昶智 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/52 分类号: H01L23/52;H01L21/768;H01L23/535
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明的各个实施例针对用于使用具有拐弯的心轴形成导线和导电基座的方法,以及所得的导线和基座。本发明的导电基座可以具有带有至少一个拐弯的顶部布局并且沿着至少一拐弯具有与导线的宽度基本相同的宽度。这种顶部布局可以减小导电基座的形成期间的负载。本发明的导线可以包括外部导线和内部导线,内部导线的端部沿着导线的长度从外部导线的端部横向偏移。使用具有拐弯的心轴形成内部导线和外部导线可以扩大工艺窗口,同时切割侧壁间隔件结构的端部,内部导线和外部导线由侧壁间隔件结构形成。本发明的实施例还涉及集成电路芯片及其形成方法。
搜索关键词: 集成电路 芯片 及其 形成 方法
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