[发明专利]具有辅助偏置电极的UMOSFET及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202210346196.4 申请日: 2022-03-31
公开(公告)号: CN116936632A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 段宝兴;邢蓝天;王彦东;杨银堂 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/40;H01L21/336
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 王少文
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种具有辅助偏置电极的UMOSFET及其制作方法,旨在缓解沟槽拐角处的电场集中,同时降低器件的比导通电阻。本发明包括兼作漏区的N+型衬底、N+型衬底的上表面形成的N型外延层;N型外延层纵向刻蚀沟槽形成U形结构;沟槽两侧的N型外延层上部通过离子注入自下而上设置有P型基区和源区;沟槽内壁纵向范围覆盖有栅氧化层;沟槽内设置有“凸”字形辅助偏置电极、包裹在辅助偏置电极的第一多晶硅层间介质层以及偏置电极氧化层,栅极与辅助偏置电极下部上端面之间填充有第二多晶硅层间介质层;源区上表面覆盖有源极,两个源极共接。该器件可以同时获得更高的击穿电压和更低的导通损耗,实现击穿电压与比导通电阻之间的良好折衷。
搜索关键词: 具有 辅助 偏置 电极 umosfet 及其 制作方法
【主权项】:
暂无信息
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