[发明专利]光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在审
| 申请号： | 202111682535.8 | 申请日： | 2021-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN114690557A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 羽贺满;李明琦 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;乐洪咏 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文公开一种图案形成方法，该方法包括：(a)在半导体基底上施加光致抗蚀剂组合物层，(b)以图案化的方式使该光致抗蚀剂组合物层曝光于i线辐射；以及(c)使该曝光的光致抗蚀剂组合物层显影以提供抗蚀剂浮雕图像；其中该光致抗蚀剂组合物包含非离子型光酸产生剂；溶剂；第一聚合物和第二聚合物；并且其中该第一聚合物包含聚合物染料。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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