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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光致抗蚀剂组合物及图案形成方法-CN202111682535.8在审
发明人： 羽贺满;李明琦 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本文公开一种图案形成方法，该方法包括：(a)在半导体基底上施加光致抗蚀剂组合物层，(b)以图案化的方式使该光致抗蚀剂组合物层曝光于i线辐射；以及(c)使该曝光的光致抗蚀剂组合物层显影以提供抗蚀剂浮雕图像；其中该光致抗蚀剂组合物包含非离子型光酸产生剂；溶剂；第一聚合物和第二聚合物；并且其中该第一聚合物包含聚合物染料。
光致抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]感光性树脂组合物-CN201680041095.9有效
发明人：串田修学;羽贺满;贝沼邦雄 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2016-07-13 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供具有令人满意的显影特性并且在防止离子迁移的同时没有不规则性的感光性树脂组合物。感光性树脂组合物含有具有羧基和烯键式不饱和双键基团的反应性聚合物、基于自由基的稳定剂和光酸产生剂，其中所述反应性聚合物的酸值为40到100mg KOH/g，所述反应性聚合物的氯含量为150ppm或更少，并且所述基于自由基的稳定剂选自受阻胺或基于受阻胺的衍生物；并且还提供使用所述感光性树脂组合物的固化产品。
感光性树脂组合

[发明专利]辐射敏感组合物以及图案化和金属化方法-CN201810000803.5有效
发明人： 羽贺满;串田修学;贝沼邦雄;J·F·卡梅隆 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2018-01-02 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种图案化方法，包含：(i)在衬底上形成辐射敏感膜，其中所述辐射敏感膜包含：(a)树脂、(b)光酸产生剂、(c)第一猝灭剂和(d)第二猝灭剂；(ii)使所述辐射敏感膜图案式地曝光于活化辐射；和(iii)使所述辐射敏感膜与碱性显影液接触以形成抗蚀剂图案；其中所述树脂包含以下重复单元：其中：R1选自氢原子、具有1到4个碳原子的烷基、氰基或三氟甲基；Z为提供酸不稳定部分的非氢取代基；n为40到90摩尔％；m为10到60摩尔％；并且按所述树脂的所有重复单元计，所述树脂中所述两个重复单元的总组合含量为80摩尔％或更大；并且所述第一猝灭剂选自苯并三唑或其衍生物。
辐射敏感组合以及图案金属化方法

[发明专利]光致抗蚀剂组合物及图案形成方法-CN202010981126.7在审
发明人： 羽贺满;贝沼邦雄;串田修学 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2020-09-17 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本文公开了一种方法，所述方法包括在基底上形成辐射敏感膜；其中所述辐射敏感膜包含辐射敏感组合物，所述辐射敏感组合物包含光酸产生剂；猝灭剂；由包含乙烯基芳族单体的单体和包含酸可分解基团的单体形成的酸不稳定聚合物；和溶剂；将所述辐射敏感膜以图案化方式曝光于活化辐射；以及使所述辐射敏感膜与碱性显影液接触以形成抗蚀剂图案。
光致抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]膦酸酯改性的金属氧化物颗粒-CN201680086666.0在审
发明人：扈楠;王瑾菲;羽贺满;陈红宇;饶袁桥;章翼 -专利权人：陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2016-06-30 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： C08K3/22 文献下载
摘要：公开了膦酸酯基团改性的金属氧化物颗粒、形成膦酸酯基团改性的金属氧化物颗粒的方法和含有膦酸酯基团改性的金属氧化物颗粒的材料。金属氧化物颗粒具有低结晶度并提供具有高折射率(RI)和高透明度的材料。
金属氧化物颗粒改性膦酸酯基团低结晶度高透明度高折射率膦酸酯

[发明专利]硅倍半氧烷改性的TiO₂溶胶-CN201680085438.1在审
发明人：王林飞;扈楠;陈红宇;马万福;蔡宇;羽贺满 -专利权人：陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： C08K9/06 文献下载
摘要：一种组合物，其包含具有中心部分和至少部分围绕所述中心部分的外部部分的颗粒，其中所述中心部分包含氧化钛，并且所述外部部分包含具有硫醇基的硅倍半氧烷。还提供一种形成所述组合物的方法、反应产物、在物体上形成的有机膜、可辐射固化组合物以及由所述可辐射固化组合物形成的材料。
可辐射固化组合物硅倍半氧烷硫醇基氧化钛有机膜外部改性

[发明专利]具有高介电常数的可光成像薄膜-CN201680070805.0在审
发明人： C·沃尔福-古普塔;Y·饶;S·韩;羽贺满;W·H·H·伍德沃德 -专利权人：陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料韩国有限公司;罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2016-12-07 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种用于制备可光成像膜的制剂；所述制剂包含：(a)负性光致抗蚀剂，其包含：(i)具有环氧基的丙烯酸粘合剂和(ii)光活性物质；以及(b)官能化氧化锆纳米颗粒。
可光成像负性光致抗蚀剂丙烯酸粘合剂官能化氧化锆高介电常数光活性物质纳米颗粒环氧基制备薄膜

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