[发明专利]一种薄膜晶体管以及制备方法在审

专利信息
申请号: 202110625920.2 申请日: 2021-06-04
公开(公告)号: CN113314615A 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 徐苗;李民;周雷;徐华;李洪濛;庞佳威;彭俊彪;王磊;邹建华;陶洪 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/34
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 510641 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种薄膜晶体管以及制备方法。该薄膜晶体管包括:衬底;栅极;栅极绝缘层;有源层,有源层位于栅极绝缘层背离栅极的表面,有源层包括源区、漏区以及沟道区;第一钝化层,第一钝化层位于有源层背离栅极绝缘层一侧的表面,第一钝化层设置有第一凹槽和第二凹槽,在平行于衬底的方向上,第一凹槽和第二凹槽邻近沟道区的侧壁与沟道区间隔第一预设距离,第一预设距离大于或等于0.3微米,且小于或等于3微米;漏极和源极位于第一钝化层背离有源层一侧的表面。本发明实施例提供的技术方案降低了薄膜晶体管中,有源层的沟道区的预设长度和实际长度之间的差距。
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 以及 制备 方法
【主权项】:
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