[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法

摘要

本发明的课题在于提供兼具更微细、更高的CD精度和透射率精度的光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。本发明的解决手段为一种光掩模的制造方法，该光掩模在透明基板上具备包含透光部、第1透射控制部和第2透射控制部的转印用图案。该制造方法该制造方法包括：准备在透明基板上形成有具有规定的曝光光透射率的第1薄膜的光掩模坯的工序；对第1薄膜进行蚀刻，由此形成第1薄膜图案的第1图案化工序；在形成有第1薄膜图案的透明基板上形成第2薄膜，对第2薄膜进行蚀刻，由此形成第2薄膜图案的第2图案化工序。在上述第2图案化工序中，仅对上述第2薄膜进行蚀刻。