[发明专利]一种气相沉积装置、方法及显示装置在审
| 申请号： | 202010626689.4 | 申请日： | 2020-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN111850476A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 邓永 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/54;C23C16/455;C23C16/505;C23C16/52 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 远明 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供一种气相沉积装置、方法及显示装置，气相沉积装置包括基板，所述基板中设置有绝缘隔离板，所述绝缘隔离板将所述基板分割为至少两个沉积区域，各个所述沉积区域的基板独立的连接射频电源，各个所述射频电源可分别调节电流大小。本申请通过调节不同沉积区域的射频电源大小，从而实现对成膜均匀性的控制和改善。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 装置 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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