[发明专利]曝光机的对位系统及其对位方法有效
申请号: | 202010405527.8 | 申请日: | 2020-05-14 |
公开(公告)号: | CN111487849B | 公开(公告)日: | 2023-01-10 |
发明(设计)人: | 刘巍巍 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种曝光机的对位系统,包括承载基板的承载机台、光罩、第一摄像模块、第二摄像模块、以及图像处理模块,基板和光罩上均设置有定位标记,所述第一摄像模块获取基板上的定位标记图像,所述第二摄像模块获取光罩上的定位标记图像,图像处理模块接收第一摄像模块获取的图像以及第二摄像模块获取的图像,并判断第一定位标记与第二定位标记的对位情况,通过在基板下方设置用以接收基板上对位标记画面的摄像模块,在光罩上方设置用以接收光罩上对位标记画面的摄像模块,将两幅画面进行图像处理,根据计测结果来调整基板位置从而完成对位,能够避免基板上的膜层反射率过大而导致对位失败的问题,能够增加曝光机对位的准确性和灵活性。 | ||
搜索关键词: | 曝光 对位 系统 及其 方法 | ||
【主权项】:
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