[发明专利]衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法在审
| 申请号： | 202010300332.7 | 申请日： | 2016-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN111474826A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | G·纳齐博格鲁;C·H·M·伯尔蒂斯;S·A·特姆普;Y·J·G·范德维基沃尔;B·D·斯霍尔滕;D·D·J·A·范索姆恩;M·J·H·弗雷肯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域(22a)中并且配置成使得液体优先朝向主体表面的周边流动。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 保持 光刻 设备 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010300332.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
