[发明专利]可提高光刻精度的遮罩在审
| 申请号： | 201610586299.2 | 申请日： | 2016-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN105954981A | 公开（公告）日： | 2016-09-21 |
| 发明（设计）人： | 吕耀安 | 申请（专利权）人： | 无锡宏纳科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 | 代理人： | 聂汉钦 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市新区清源路*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可提高光刻精度的遮罩，包括透镜组；深紫外光经由透镜组射出；透镜组的光射出方向固定有光刻遮罩；所述光刻遮罩；所述光刻遮罩下方设置有待处理晶片；待处理晶片之上粘贴有光刻胶；所述光刻胶有多个，相邻的光刻胶之间为第一空档；多块光刻胶组成光刻图案；光刻遮罩也有多个，每个光刻遮罩的位置与光刻胶的位置严格对应；相邻的光刻遮罩之间为第二空档；每两个相邻的光刻遮罩为一组，组成一组的两个光刻遮罩下方安装有一个移向透镜；每个光刻遮罩只有一个边缘被光刻遮罩覆盖。本发明通过增加移向透镜，改变了深紫外光在光刻胶边缘的相位，使得光刻边缘的深紫外光分辨率更高，有利于提高半导体器件的关键宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 光刻 精度 | ||
【主权项】：
一种可提高光刻精度的遮罩，其特征在于，包括透镜组(4)；深紫外光经由透镜组(4)射出；透镜组(4)的光射出方向固定有光刻遮罩；所述光刻遮罩(3)；所述光刻遮罩(3)下方设置有待处理晶片(1)；待处理晶片(1)之上粘贴有光刻胶(2)；所述光刻胶(2)有多个，相邻的光刻胶(2)之间为第一空档(21)；多块光刻胶(2)组成光刻图案；光刻遮罩(3)也有多个，每个光刻遮罩(3)的位置与光刻胶(2)的位置严格对应；相邻的光刻遮罩(3)之间为第二空档(31)；每两个相邻的光刻遮罩(3)为一组，组成一组的两个光刻遮罩下方安装有一个移向透镜(32)；每个光刻遮罩(3)只有一个边缘被光刻遮罩(3)覆盖。
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