[发明专利]SONOS存储器件的制备方法及SONOS存储器件有效

专利信息
申请号: 202010190075.6 申请日: 2020-03-18
公开(公告)号: CN111403402B 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 王宁;张可钢 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H10B43/30 分类号: H10B43/30;G11C16/04
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 黎伟
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种SONOS存储器件的制备方法及SONOS存储器件,属于集成电路制造技术领域。通过本申请提供的制备方法制备得到的SONOS存储器件,由于两个相对设置的L型ONO层共用位线,且位于外侧的选择管栅靠近SONOS存储器件的源端,因此该SONOS存储器件可以使用源端热载流子注入进行写入,相对于相关技术中提供的SONOS存储器件采用FN隧穿方式进行写入具有更低的操作电压,从而提高了器件的可靠性。
搜索关键词: sonos 存储 器件 制备 方法
【主权项】:
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