[发明专利]一种含有碳化硅纳米插入层的涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010147181.6 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN111139440B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 张笑;李伟 申请(专利权)人: 上海仟纳真空镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 赵晓琳
地址: 201100 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种含有碳化硅纳米插入层的涂层及其制备方法,属于保护性涂层领域。本发明综合利用了AlCrTiN层和SiC纳米插入层,得到了兼具高硬度和高耐磨的涂层,能够弥补传统合金在刀具涂层使用中的不足,拓宽了刀具涂层的研究范围。当所述SiC纳米插入层的厚度小于0.5nm时会发生非晶晶化,与模板层AlCrTiN层发生共格外延生长,从而促进AlCrTiN层的柱状晶生长,因此涂层的结晶性变强,硬度进一步得到提高,两层之间形成的共格界面对位错也有阻碍作用,因此含有碳化硅纳米插入层的AlCrTiN涂层具有高的硬度、弹性模量和耐磨性,最大硬度可达到41.5GPa,可以在复杂的高速切削环境下工作。
搜索关键词: 一种 含有 碳化硅 纳米 插入 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
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