[发明专利]复合金属氢氧化物材料连续快速制备的方法及系统在审
| 申请号： | 202010122368.0 | 申请日： | 2020-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN111302310A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 樊发英;唐志雷;邓小川;史一飞;朱朝梁;樊洁 | 申请（专利权）人： | 中国科学院青海盐湖研究所 |
| 主分类号： | C01B13/36 | 分类号： | C01B13/36;C01F7/00;C01G53/00 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王茹;王锋 |
| 地址： | 810008*** | 国省代码： | 青海;63 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种复合金属氢氧化物材料连续快速制备的方法及系统。所述方法包括：使含有高价金属盐、低价金属盐的混合盐溶液与碱性溶液混合并反应，获得复合金属氢氧化物浆料，将其输送至一分离组件，分离获得液相和固体浆料；将分离获得的固体浆料与洗涤液混合，之后输送至下一分离组件，再次分离获得液相和固体浆料；重复前述操作，且测试每次分离获得的液相的电导率，直至测得的液相的电导率恒定；对最后一次分离获得的固体浆料依次进行干燥和破碎处理，获得复合金属氢氧化物材料。本发明的方法及系统不仅可以实现制备的连续化，并且因超重力反应器在反应过程中可以使床层的浓度、温度和过饱和度分布均匀，从而有利于颗粒的均匀成核和生长。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 金属 氢氧化物 材料 连续 快速 制备 方法 系统 | ||
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- 本发明公开了一种层间距可控型有机硅烷嫁接水滑石的原位共沉淀合成方法，其主要区别于传统共沉淀法合成水滑石的方面在于：利用表面活性剂的插层作用对水滑石层间域高度进行调控；并在水滑石晶体形成的同时利用有机硅烷水解产生的Si–OH与粘土矿物表面的羟基原位缩合而有效改善矿物的表面亲和性，借此控制表面活性剂的用量，减少其脱附等潜在环境威胁以及所导致的复合材料稳定性与均一性的降低等。本发明的合成方法原料易得、操作简单易行，所得有机硅烷嫁接水滑石在粘土基纳米复合材料、有机阴离子环境污染物的修复和无卤阻燃剂等领域有重要的应用价值。
- 用于氧化物粉末的湿化学共沉淀的反应管以及水热处理-201080009347.2
- R·D·韦尔;C·W·纳尔逊 - 埃斯托股份有限公司
- 2010-02-28 - 2012-01-25 - C01B13/36
- 一种用于将氧化物粉末进行湿化学共沉淀的反应器，该反应器包括一个圆柱体结构，该圆柱体结构具有第一和第二端以及延伸该管的长度的一个腔管。一个中央轴线延伸穿过该腔管。该第一端是封闭的。该反应器还包括一个第一输入端口，该第一输入端口被置于该圆柱体结构的第一端的附近并且提供了穿过该圆柱体结构以注射一个第一反应物溶液的入口。该反应器进一步包括一个第二输入端口，该第二输入端口被置于该圆柱体结构的第一端的附近并且提供了穿过该圆柱体结构以注射一个第二反应物溶液的入口。该第一和第二输入端口被置于该圆柱体结构的相对侧上，并且相对于该中央轴线是同轴的。
- 一种连续制备纳米级阴离子层状材料的方法-201010208901.1
- 曾虹燕;赵策;王亚举;黄炎;杨永杰;魏英民 - 湘潭大学
- 2010-06-25 - 2010-12-08 - C01B13/36
- 本发明公开了一种连续制备纳米级阴离子层状材料的方法，主要由反应，过滤，洗涤，干燥几个步骤组成，相对于国内现有制备阴离子层状材料的方法具有如下优势：(1)所采用的是螺旋通道型旋转床超重力反应器，使得成核在均匀的微观混合环境中进行，从而实现成核快速、粒度分布窄化。通过冷凝NH3，从而使反应器内反应液保持在稳定的较高pH条件，避免了杂相产生。反应时间短，操作简单。(2)反应加入晶种，大大缩短成核诱导期，加速成核，且结晶度高、粒度分布更加均匀；根据加入晶种的粒径尺寸，可调节新生粒子的大小及其分布，达到粒径可控。(3)产品后处理无需晶化过程。(4)该工艺耗时短，可连续化生产，制备出的阴离子层状材料平均粒径为30～90nm。
- 制备包含电荷平衡有机离子之粘土之方法，由此制得之粘土及包含其之纳米复合材料-200880122275.5
- A·G·塔耶马;A·J·迪琼;S·布鲁恩;J·J·M·贝尔图森;C·E·J·凡莱尔;M·F·瑞狄克 - 阿克佐诺贝尔股份有限公司
- 2008-12-16 - 2010-12-01 - C01B13/36
- 本发明系关于包含电荷平衡有机阴离子之层状双氢氧化物，其中该电荷平衡阴离子系含有至少一个羟基之单价阴离子，并且其含有小于20wt％之勃姆石。包含所述层状双氢氧化物的水性浆液，水性涂料，复合材料及母料，以及所述层状双氢氧化物在造纸方法中的用途及在水性涂料应用中作为污点抑制剂的用途。
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