[发明专利]包含加成了芳香族乙烯基化合物的含有三芳基二胺的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物在审
申请号: | 201980014513.9 | 申请日: | 2019-02-20 |
公开(公告)号: | CN111758075A | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 西卷裕和;齐藤大悟;柄泽凉;桥本圭祐 | 申请(专利权)人: | 日产化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 李渊茹;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明的课题是提供形成下述抗蚀剂下层膜的组合物,上述抗蚀剂下层膜在将光致抗蚀剂组合物、不同的抗蚀剂下层膜叠层时不容易发生混合,通过提高聚合物的热回流性从而改善了烧成时对图案的填充性。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含含有结构基(C)的酚醛清漆树脂,上述结构基(C)通过包含至少2个氨基和至少3个碳原子数6~40的芳香族环的芳香族化合物(A)的芳香族环、与芳香族乙烯基化合物(B)的乙烯基反应而形成。上述结构基(C)为下述式(1),[在式(1)中,R |
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搜索关键词: | 包含 加成 芳香族 乙烯基 化合物 含有 三芳基二胺 酚醛 清漆 树脂 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】:
暂无信息
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